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Fターム[4F202CB29]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型全般の区分 (13,372) | 表面凹凸化成形 (425)

Fターム[4F202CB29]に分類される特許

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【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムの凹凸パターンを基板の所望とする位置に合わせることができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂フィルム11と、前記凹凸パターンが転写されるべき光硬化性樹脂層16を有する基板15とを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム11と前記基板15とを位置合わせするアライメント方法であって、前記樹脂フィルム11はその平面形状が多角形であり、前記樹脂フィルム11の頂点部分は保持せずに辺の縁部を保持して平面方向に伸長する工程を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第1のパターンと、前記第1のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第2のパターンとを具備し、かつ、前記第1のパターンは第1の材料を含み、前記第2のパターンは前記第1の材料とは異なる第2の材料を含むテンプレート1を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第1および第2の材料とは異なる第3の材料を含む被覆部材11で前記第2のパターンを被覆する。次に、被覆部材11で前記第2のパターンを被覆した状態で、テンプレート1を洗浄する。次に、被覆部材11を除去して前記第2のパターンを露出させる。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置にて、型と樹脂とを引き離す際の離型性と、使用可能期間の長期化の点で有利な型を提供する。
【解決手段】型1は、石英からなり、被処理体としての樹脂を成形するパターン部3を有する。この型1は、樹脂と接触するパターン部3の表面上に形成された、フッ化水素を含む液体に対して不溶である材料からなる第1層4と、第1層4の表面上に積層する形で形成された、シランカップリング剤を含む化学吸着膜としての第2層5とを有する。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は、前記樹脂スタンパの反対側の面を吸引する複数の吸引孔15を有する吸引機構14と、前記複数の吸引孔15を、前記樹脂スタンパが載置される載置面12aの平面方向にそれぞれ独立して移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ。 (もっと読む)


【課題】被転写材の外縁部に生じる不使用領域を削減でき、被転写材の利用効率を向上できる円筒状モールドを提供すること。
【解決手段】本発明の円筒状モールド(10)は、一対角が鈍角であり他対角が鋭角である平行四辺形状の基材(11)の一対の斜辺(11c,11d)を接合して円筒状にしてなる円筒状モールド(10)であって、一対の対辺(11c,11d)が接合された接合辺部(11c)は、基材(11)上において、円筒状モールド(10)の筒軸方向(D1)に対して所定の角度(θ1)を持つことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】加工自由度に優れたモールドの製造方法及びこのモールドを用いて得られる表面微細構造部材を提供すること。
【解決手段】モールド(10)は、ロール表面にレジスト層を形成した後、レジスト層にレーザー光を照射してパターニングされる。このように得られたモールド(10)には、2つ以上のパターン部(10a〜10d)が、ロール形状のモールド(10)の外周に沿って設けられているとともに、互いに並列して配置されており、パターン部(10a〜10d)には、モールド(10)の外周に微細構造が形成されており、各パターン部(10a〜10d)を構成する微細構造の大きさは1μm以下である。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】スタンパのコスト低減の要請に応得ることができ、ナノサイズの微細構造体やアスペクト比の高い微細構造体の製造に好適に使用することができる転写成形金型を提供する。
【解決手段】本発明に係る転写成形用金型は、微細構造を有するスタンパに溶融樹脂を押圧又は塗布し、冷却固化させてその微細構造が転写成形された微細構造体を成形する転写成形用金型であって、前記スタンパと、そのスタンパと周囲に所定のスキマをもって該スタンパを金型本体に保持固定するスタンパ固定部材と、前記スキマを詰める充填部材と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント用のモールドにおいて、レジストの厚さムラを低減することを可能とし、かつモールドに高い耐久性を付与することを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターン12が形成されたパターン領域13を一方の表面11に有し、かつ、他方の表面14における高低差分布に関する3σ値が1〜6nmであるパターン付基板10と、少なくともパターン領域13に対応する部分が中抜きされた形状を有し、かつ、パターン付基板10の厚さ以上の厚さを有する中抜き基板30と、上記他方の表面14と当該他方の表面14に対向する中抜き基板30の表面とを接合するように、パターン付基板10および中抜き基板30の間に形成された金属膜20とを備える。 (もっと読む)


【課題】パターン形状を良好に保ちつつ、モールドの表面に形成された凹凸パターンの凹部サイズよりもパターンサイズの小さい金属膜パターン付き基体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属膜パターン21の製造方法は、金属膜20、金属膜20上に光反応性接着層30、熱可塑性樹脂からなる疎水性高分子を主成分とするレジスト膜40がこの順に成膜され、モールド50の凹凸パターンをレジスト膜40に転写することによりレジスト膜パターン41を形成する。次いで、残渣処理後にレジスト膜パターン41を用いて、露出した金属膜20をウェットエッチングして金属膜パターンを形成する。そして、金属膜パターンのサイドエッチングを行うことによりモールド50の凹部のサイズよりも縮小されたパターンサイズの金属膜パターン21を得る。 (もっと読む)


【課題】高温の樹脂の初期冷却を遅延化するに優れた効果を有し、大型で精密構造の樹脂部品、フィルムやプレートの製造が容易な樹脂精密成形用金型に好適に適用できる断熱材ならびにこれを断熱層に用いた樹脂成形用金型を提供する。
【解決手段】本発明の断熱材は樹脂成形用金型の基材上に直接溶射により形成される断熱材であって、過冷却液体温度領域(ΔTx)が30℃以上で、且つガラス遷移温度(Tg)が成形材料である樹脂の融点よりも30℃以上高く、熱伝導率が1〜20W/(m・K)であり、線膨張係数が7×10−6〜15×10−6/℃である金属ガラスの溶射被膜からなる。該断熱材は、厚みが100μm以上、2000μm以下であり、金型基材と接する面積が100mm以上であることができる。また、本発明にかかる樹脂成形用金型は、金型基材表面に直接溶射により形成された前記断熱材を断熱層として備える。 (もっと読む)


【課題】レンズシートのレンズとなる金型の凸部を形成する際に、1種類のめっき液でも所望のレンズ形状を得ることを可能とする金型の製造方法及びレンズシートの製造方法を提供する。
【解決手段】板状基材1上にめっき導電膜2を形成し、めっき導電膜2上に所定の幅の溝状、円状又は多角形状の開口部4を有するレジスト5を形成し、ラウリル硫酸ナトリウム及びホルムアルデヒドの少なくともいずれかを含む第1添加剤と、芳香族スルフォン酸塩を含む第2添加剤と、芳香族イミドを含む第3添加剤Cとが各々添加されためっき液を用い、かつ、めっき導電膜2に所定電流を供給することで、レジスト5上の開口部4に対応する位置に、略半円柱状または略半球状のめっき構造物6を形成し、めっき構造物6が形成されているレジスト5上に金属めっきを行って、めっき構造物6の形状が反転転写された略半円柱形状又は略半球状の凹部8を有する金型9を形成する。 (もっと読む)


【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面1aを備えるレンズ本体1の凹レンズ面1aに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型5であって、反射防止部を転写する成形面部5aと、成形面部5aを湾曲可能に支持する基体部5と、基体部5を変形することにより成形面部5aを湾曲させる空洞部6、環状空洞部7、および流体供給部8と、を備える表面加工装置10を用いて、反射防止部を形成する。 (もっと読む)


【課題】 ブロック共重合体と電気めっき用ハードマスクを用いた、パターニングされた磁気記録ディスクのナノインプリント加工用マスタディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】 パターニングされた媒体ディスクを作製するためのナノインプリント工程用のマスタディスクの作製方法は、導電基板と、ブロック共重合体の、ブロック共重合体成分の1つの、略半径方向の線および/または略同心円状の輪のパターンを形成する誘導自己組織化を利用する。基板上の、線および/または輪によって保護されていない領域内に金属を電気めっきする。ブロック共重合体成分を除去した後に、残っている金属のパターンをエッチングマスクとして使用して、最終的なマスタディスクまたは、後にマスタディスクの製造に使用される2つの別々のモールドのいずれかを製造する。 (もっと読む)


【課題】ナノ粒子を成形するためのナノサイズの空孔を有するモールドを製造するための材料および方法を提供する。
【解決手段】所定の形状を有する空孔110を画定するポリマーの層と、該ポリマーの層に結合した支持層102と、該支持層102に結合したポリマーの層を受け入れるよう構成され大きさが決められた第1および第2のローラーとを含む積層ナノモールドシステム。 (もっと読む)


【課題】簡単にヒケの発生を防止できる鉛蓄電池用電槽蓋を提供すること。
【解決手段】金型によって成形される電槽蓋3において、金型の抜き方向に沿って延びる電槽蓋3の第1側面部34の内面34Aに間隔Lをあけて複数の突部45,45を一体に成形した。 (もっと読む)


【課題】画像読取装置に用いられる所定の配列方向に沿って複数の貫通孔を等間隔で列状に配してなるアパーチャー部品を製造する技術において、微細な構造を有するアパーチャー部品を製造するのに適し、従来より短時間で金型を製作可能な技術を提供する。
【解決手段】互いに係合する第1の金型部品100および第2の金型部品200のそれぞれに、アパーチャー部品の貫通孔に対応する突起部103,203を設け、これらを係合させた間隙空間CVに樹脂を流し込んでアパーチャー部品を製造する。両金型部品が係合した状態では、それぞれの突起部103,203が交互に一列に、しかも等間隔で並ぶようにする。 (もっと読む)


【課題】めっき工程を用いつつ、母型を用いないで微細構造体を製造する方法およびその方法により製造された微細構造体を提供する。
【解決手段】水溶性第一スズ含有物質、水溶性銅含有物質、硫酸イオンおよびスルホン酸イオンの少なくとも一方、有機錯化剤、ならびに非イオン性界面活性剤を備える酸性のスズ系めっき液を用いて、めっき温度を60℃以下、電流密度を10A/dm以下、かつ積算電流量を500Asec/dm以上としてめっきを行い、ほぼ薄板状の皮膜部と当該皮膜部の表面から突出し錐形状を有する複数の突起部とを備え、当該突起部について、その底面の円換算直径に対する高さの比率であるアスペクト比が0.5以上、かつ皮膜部上の密度が前記皮膜部の投影面積1mmあたり100個以上であるスズ系めっき構造体を、前記突起部についての母型を用いることなく得る。 (もっと読む)


【課題】溝深さが深いパターンを形成するためのフロン系ガスのドライエッチングに対して高い耐性をもつ熱反応型レジスト材料、それを用いた熱リソグラフィ用積層体及びそれらを用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、フロン系ガスを用いたドライエッチングに用いる熱反応型レジスト材料であって、主要フッ化物の沸点が200℃以上である元素を少なくとも1種類含んでおり、分解性酸化物材料、分解性窒化物材料、分解性炭化物材料、分解性炭酸化物材料、分解性硫化物材料、分解性セレン化物材料のいずれかを含有することを特徴とする。 (もっと読む)


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