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Fターム[4F202CD24]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型の製造 (4,718) | 型の製造の補助操作 (1,698) | 表面処理 (1,471) | 微細模様のための (934) | エッチングによるもの (397)

Fターム[4F202CD24]に分類される特許

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【課題】光学素子の製造方法において、曲率を有する光学面を有する光学素子の光学面に複数の凹凸形状による微細構造を精度よく形成することができるようにする。
【解決手段】凸レンズ面1aに沿って配置された複数の凹凸形状による反射防止部を備える光学素子の製造方法であって、弾性体からなる基体部5Aの一表面に、反射防止部の凹凸形状を凸レンズ面1aの接線方向に沿って伸長または圧縮し反転させた形状からなる成形面部を形成して、微細構造形成用型5を製作する型製作工程と、微細構造用形成用型5を湾曲させて、一表面を凸レンズ面1aに実質的に沿う形状に変形させることにより、成形面部を反射防止部が反転した形状に変形させる型変形工程と、凸レンズ面1aを有するレンズ本体1の凸レンズ面1aに成形用樹脂を塗布し、型変形工程で変形された成形面部5c’を凸レンズ面1aに押圧し、成形用樹脂を硬化させる成形工程と、を備える方法とする。 (もっと読む)


【課題】均一な微細パターン形状の形成を実現できる積層体、及びこの積層体を用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】積層体(10)は、基材(3)上に設けられた反応防止層(2)と、反応防止層(2)上に設けられた熱反応型レジスト層(1)とを具備し、反応防止層(2)は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、亜鉛(Zn)、スズ(Sn)及びルテニウム(Ru)並びにこれらの酸化物及び窒化物並びに炭素(C)、炭化ホウ素(BC)、窒化ホウ素炭素(BCN)及び窒化炭素(CN)からなる群より少なくとも1つ以上選ばれる材料で構成され、熱反応型レジスト層(1)は、酸化鉛からなる材料で構成される。 (もっと読む)


【課題】加工時間が短く、工具としての寿命が長く、像形成品質が高いパターン形成型及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るパターン成形型は、被加工材の表面に、凹凸を有するパターンを転写するパターン成形型であって、基材1と、基材1に中間層2、3を介して接合されたDLCパターン層4bとで構成され、基材1が、剛性を有する金属、セラミックス、又はガラスであり、中間層2、3が、基材1及びDLCパターン層4bとの接合性を提供し、かつ、DLCパターン層4bに比べ、エッチングレートが小さい層であり、DLCパターン層4bに、被加工材の表面に転写するパターンが形成されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】加工自由度に優れたモールドの製造方法及びこのモールドを用いて得られる表面微細構造部材を提供すること。
【解決手段】モールド(10)は、ロール表面にレジスト層を形成した後、レジスト層にレーザー光を照射してパターニングされる。このように得られたモールド(10)には、2つ以上のパターン部(10a〜10d)が、ロール形状のモールド(10)の外周に沿って設けられているとともに、互いに並列して配置されており、パターン部(10a〜10d)には、モールド(10)の外周に微細構造が形成されており、各パターン部(10a〜10d)を構成する微細構造の大きさは1μm以下である。 (もっと読む)


【課題】合成樹脂製の成形品のリブの裏側の意匠面にテカリが目立たない成形金型の製造方法およびその成形品を提供する。
【解決手段】一方の面にシボが形成されて意匠面となり、その裏面にリブが形成される合成樹脂製の成形品の成形金型3の製造方法である。キャビティ壁面30にシボに対応する凹部31と凸部32がエッチング加工により形成され、次に、凹部31と凸部32の表面に中凹凸33がサンドブラスト加工により形成され、次に、凸部32の表面に小凹凸34がブラッシング加工により形成される。また、この成形金型3により製造され、山部および谷部と、山部の表面に形成される中凹凸と、谷部の表面に形成される小凹凸と、で形成されるシボを有する成形品である。 (もっと読む)


【課題】基板の裏面に凹部を有する場合においても、ドライエッチング加工における面内のエッチングレートを制御し、パターン精度に優れたテンプレートの製造装置及びテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、真空容器と、電極と、調整体と、を含むテンプレートの製造装置が提供される。前記真空容器は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能とされている。前記真空容器は、反応性ガスの導入口と排気口とを有する。前記電極は、前記真空容器の内部に設けられ、高周波電圧が印加される。前記調整体は、絶縁体を主成分とする。前記調整体は、前記電極の上に載置される基板の前記電極の側の面に設けられた凹部に挿入される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】低反射特性に優れた表面微細構造を成型する。
【解決手段】原版の基板材料として、ニオブ酸リチウム単結晶基板41を用い、この基板41の表面上に、ドライエッチング用のマスクとしてCrなどの金属薄膜42を成膜してこの上に樹脂微細パターン44を生成し、これをマスクとしてエッチングを行って、金属微細パターン45を得る。この金属微細パターン45をマスクとして金属微細パターン45を収縮しながら、ニオブ酸リチウム単結晶基板41をエッチングすることで、微細構造中に平坦な面の殆ど存在しない構造を生成する。 (もっと読む)


【課題】複数の凸部を有し光の反射を防止し得る反射防止フィルムの作製に用いられる型を簡便に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】型の製法方法は、陽極酸化処理により、金属製基板30の表面30aに複数の孔36を形成する工程と、化学蒸着法または物理蒸着法により、少なくとも隣り合う二つの孔の間に位置する金属製基板の表面に、皮膜40を形成する工程と、を備える。反射防止フィルム10の凸部15を形成するための凹部25が、孔36および皮膜40によって画成される。 (もっと読む)


【課題】パターン形状を良好に保ちつつ、モールドの表面に形成された凹凸パターンの凹部サイズよりもパターンサイズの小さい金属膜パターン付き基体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属膜パターン21の製造方法は、金属膜20、金属膜20上に光反応性接着層30、熱可塑性樹脂からなる疎水性高分子を主成分とするレジスト膜40がこの順に成膜され、モールド50の凹凸パターンをレジスト膜40に転写することによりレジスト膜パターン41を形成する。次いで、残渣処理後にレジスト膜パターン41を用いて、露出した金属膜20をウェットエッチングして金属膜パターンを形成する。そして、金属膜パターンのサイドエッチングを行うことによりモールド50の凹部のサイズよりも縮小されたパターンサイズの金属膜パターン21を得る。 (もっと読む)


【課題】 ブロック共重合体と電気めっき用ハードマスクを用いた、パターニングされた磁気記録ディスクのナノインプリント加工用マスタディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】 パターニングされた媒体ディスクを作製するためのナノインプリント工程用のマスタディスクの作製方法は、導電基板と、ブロック共重合体の、ブロック共重合体成分の1つの、略半径方向の線および/または略同心円状の輪のパターンを形成する誘導自己組織化を利用する。基板上の、線および/または輪によって保護されていない領域内に金属を電気めっきする。ブロック共重合体成分を除去した後に、残っている金属のパターンをエッチングマスクとして使用して、最終的なマスタディスクまたは、後にマスタディスクの製造に使用される2つの別々のモールドのいずれかを製造する。 (もっと読む)


【課題】ドットパターンを有する領域と,ドットパターンを有しない領域と,を備えるモールドを高精度で作成可能とする。
【解決手段】実施形態のモールドの製造方法は,第1の高分子に親和な基板上に,第2の高分子に対して親和な第1の層を形成する工程と,第1の層に,第1,第2の開口を形成する工程と,第2の開口内にレジストを充填,硬化する工程と,ブロックコポリマーを含む第2の層を形成,自己組織化する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】溝深さが深いパターンを形成するためのフロン系ガスのドライエッチングに対して高い耐性をもつ熱反応型レジスト材料、それを用いた熱リソグラフィ用積層体及びそれらを用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、フロン系ガスを用いたドライエッチングに用いる熱反応型レジスト材料であって、主要フッ化物の沸点が200℃以上である元素を少なくとも1種類含んでおり、分解性酸化物材料、分解性窒化物材料、分解性炭化物材料、分解性炭酸化物材料、分解性硫化物材料、分解性セレン化物材料のいずれかを含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高精細かつ均一なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型は、アルミニウム合金により形成される基材部と、基材部上にアルミニウムにより形成された層であり、その表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で複数の微細孔が配列された酸化皮膜を有する賦形部とを備え、微細孔は、開口部から底部に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有しているものとした。また、この反射防止フィルム製造用金型は、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程を備え、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第1エッチング工程と、第1エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングする第2エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。 (もっと読む)


【課題】均一かつ高精細なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供する
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型100は、ステンレス鋼により形成される基材部110と、基材部上に層状に形成された中間部130と、アルミニウムにより形成され表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凹状の複数の微細孔121を有する酸化皮膜を有する賦形部120とを備え、微細孔が開口部から底部に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有するものとした。反射防止フィルム製造用金型の製造方法は、中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを有し、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第1エッチング工程と、第1エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングを行う第2エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。 (もっと読む)


【課題】高精細、かつ高アスペクト比の被転写物を、精密に、かつ細部まで再現性良く形成することが可能なインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】エッチングパターン15が形成された半導体基板10をアニール処理する。 アニール処理は、例えば、エッチングパターン15が形成された半導体基板10を真空チャンバ20に入れて、真空ポンプ21を用いて真空チャンバ20内を減圧し、真空雰囲気にする。そして、ヒータ22を用いて半導体基板10を真空雰囲気で所定温度まで加熱し、所定時間保持する。 (もっと読む)


【課題】ロールモールドを作製するロールモールド製作装置に関し、ロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する。
【解決手段】レジストを表面に塗布した円筒あるいは円柱状の回転体であるロールモールドを、ロールモールドの回転対称軸の周りに回転可能に保持するロールステージと、電子ビームが透過する1つあるいは複数の開口パターンを有するマスクと、マスクをロールモールドの表面に近接して配置して保持するマスクステージと、電子ビームを発生してマスクを通してロールモールドに照射する電子源と、ロールモールドを一定速度で連続回転させながら電子源から電子ビームをマスクに照射し、マスクを透過した電子ビームをロールモールドのレジストを塗布した円筒あるいは円柱状の表面に照射してロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】単一の記録マスタから両面テンプレートを作る方法を提供する。
【解決手段】単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するステップを備える。第一のテンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されない。方法はさらに、第一のテンプレートの複製物を作成するステップを備える。複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが変更される。方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 (もっと読む)


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