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FRP (2)

Fターム[4F209AJ03]に分類される特許

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【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第1領域に第1パターンを形成する工程と、前記第1パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第1領域とは異なる第2領域において、前記反転材膜を第2パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第1パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第1領域において前記反転材膜を第3パターンに加工する工程と、前記第2パターン及び前記第3パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムの凹凸パターンを基板の所望とする位置に合わせることができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂フィルム11と、前記凹凸パターンが転写されるべき光硬化性樹脂層16を有する基板15とを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム11と前記基板15とを位置合わせするアライメント方法であって、前記樹脂フィルム11はその平面形状が多角形であり、前記樹脂フィルム11の頂点部分は保持せずに辺の縁部を保持して平面方向に伸長する工程を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は複数に分割され、該分割されてなる複数の分割載置部12−1〜12−9の少なくとも一部は、前記樹脂スタンパの前記反対側の面側から前記樹脂スタンパを固定する固定機構と、前記載置台の載置面の平面方向に移動する移動機構と、を有することを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ10。 (もっと読む)


【課題】樹脂スタンパの変形が生じた場合であっても、樹脂スタンパと基板との位置合わせを精確に行うことができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16の該微細な凹凸パターンを基板18上に形成された光硬化性樹脂層20に転写する際に、前記樹脂スタンパ16と前記基板18とを位置合わせするアライメント方法であって、以下の工程:前記基板18に対向するように配置されたステージ12に、前記凹凸パターン形成面16aとは反対側の面が接するように前記樹脂スタンパ16を載置し、該樹脂スタンパ16を前記反対側の面側から固定する固定工程;前記樹脂スタンパ16の変形部位を検出する検出工程;及び前記変形部位の検出結果に基づいて、前記固定した状態で前記樹脂スタンパ16をその平面方向に伸縮する伸縮工程;を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は、前記樹脂スタンパの反対側の面を吸引する複数の吸引孔15を有する吸引機構14と、前記複数の吸引孔15を、前記樹脂スタンパが載置される載置面12aの平面方向にそれぞれ独立して移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ。 (もっと読む)


【課題】パターン化磁気記録ディスクをナノインプリントするための放射状非データマークを有するマスタディスクを作製するためのブロック共重合体を使用する方法を提供する。
【解決手段】 パターン化メディア磁気記録ディスクをナノインプリントするためのマスタディスクを作製する方法は、データアイランドと非データ領域の両方のパターンを有する。本方法は、ブロック共重合体(BCP)成分の1つの隙間領域のパターンだけでなくほぼ放射状の線のパターンおよび/またはほぼ同心のリングを形成するためにブロック共重合体(BCP)の誘導自己組織化を利用する。線および/またはリングのパターンは基板に垂直なラメラとして位置合わせされたBCP成分を有し、一方、隙間領域のパターンは基板に平行なラメラとして位置合わせされたBCP成分を有する。BCP成分の1つは除去され、他のBCP成分をエッチマスクとして残す。 (もっと読む)


【課題】1次コイル及び2次コイルを有する絶縁層であるコイル層の製造工程を単純化し、コイル部品の製造工程性を向上させることができる、導体ライン製造用兼ビア製造用スタンプ及びこれを用いるコイル部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導体ライン製造用兼ビア製造用スタンプは、プレート形態のインプリント本体部101と、インプリント本体部101の一面から突設され、インプリント本体部101の外郭側から中心側へ螺旋形態に連続したラインインプリント部102と、インプリント本体部101の一面から突設され、インプリント本体部101の中心側に位置したラインインプリント部102の端部から突設されるビアインプリント部103とを含む。 (もっと読む)


【課題】 モールドの表面に励起光を照射することなく、モールドのパターン欠陥を検知するインプリント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、型に形成されたパターンと、基板に供給されたインプリント材とを接触させることで、インプリント材にパターンを転写するインプリント装置であって、発光物質を発光させる励起光を照射する照射部と、発光物質から発光する光を検出する検出部と、発光物質を含む型を保持する型保持部と、を備え、インプリント材にパターンが転写された後、照射部はインプリント材に転写されたパターンに励起光を照射し、検出部はインプリント材に残留した発光物質から発光する光を検出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント材料。(A)成分:特定の式で表されるビフェニル(メタ)アクリレート。(B)成分:下記式(2)で表されるフルオレン(メタ)アクリレート及び/又は特定の式で表されるビスフェノール(メタ)アクリレート。


(式中、R及びRは互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A及びAは互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。)(C)成分:光重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】微細なパターンを有する成形体を、目的の形状を有するものとして効率よく製造することができる成形体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の成形体の製造方法は、成形型を用い、ワークを加熱して、幅が10nm以上500μm以下の微細なパターンを有する成形体を製造する方法であって、前記成形型の構成材料と前記ワークの構成材料との貯蔵弾性率E’の差が100[MPa]以上となる温度T[℃]で成形を行う加熱工程と、前記ワークを加熱・成形することにより得られた成形体を前記成形型から離型する離型工程とを有し、前記温度T[℃]における前記ワークの構成材料の線膨張係数をα[℃−1]、前記温度T[℃]における前記成形型の構成材料の線膨張係数をα[℃−1]としたとき、|α−α|≦100.0×10−4の関係を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド1は、ナノインプリント用の複製モールド1であって、基体10と、基体10上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体20とを具備する。複製モールド構造体20は、押し込み弾性率が4000N/mm以上、74000N/mm以下であり、線熱膨脹係数が10×10−5−1未満であり、かつ、365nmにおける透過率が70%以上である。 (もっと読む)


【課題】加工自由度に優れたモールドの製造方法及びこのモールドを用いて得られる表面微細構造部材を提供すること。
【解決手段】モールド(10)は、ロール表面にレジスト層を形成した後、レジスト層にレーザー光を照射してパターニングされる。このように得られたモールド(10)には、2つ以上のパターン部(10a〜10d)が、ロール形状のモールド(10)の外周に沿って設けられているとともに、互いに並列して配置されており、パターン部(10a〜10d)には、モールド(10)の外周に微細構造が形成されており、各パターン部(10a〜10d)を構成する微細構造の大きさは1μm以下である。 (もっと読む)


【課題】基板処理のスループットを向上させると共に、基板と塗布膜の密着性を向上することができる基板の処理方法及び基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハWの表面に形成された密着膜の少なくとも一部の表面に形成された塗布膜に、凹凸パターンが設けられた転写面を備えるテンプレートの転写面を転写するインプリント処理に供するウエハの処理方法であって、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に密着剤を供給する供給工程(ステップS−5)と、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に気体を供給して、余剰な密着剤を除去する除去工程(ステップS−7)を具備する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン13を表面に有するモールド本体12と、この表面に形成された離型層14とを備えたナノインプリント用のモールド1において、離型層14が、主鎖を構成する原子数が20未満である短鎖離型剤20と、主鎖を構成する原子数が20以上である長鎖離型剤22とを含むものとする。 (もっと読む)


【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Iとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートB、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートAを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 (もっと読む)


【課題】量産性に優れ、微細パターンに欠陥が生じるのを抑制することのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、第1基板上に、凹凸パターンを有し第1被インプリント剤を含む材料からなるパターン膜を形成する工程と、第2基板上に、前記第1被インプリント剤よりもエッチングレートの高い第2被インプリント剤を含む材料膜を形成する工程と、前記パターン膜を前記材料膜に対向させて前記第1基板と前記第2基板間に圧力を印加するとともに、前記第2被インプリント剤を硬化させることにより前記パターン膜の前記凹凸パターンを、前記材料膜に転写する工程と、前記第1基板を前記パターン膜から剥離する工程と、前記材料膜をエッチングにより除去し、前記第2基板上に前記パターン膜を残す工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】繊細な凹凸形状を有し、高級感のある樹脂化粧板を提供すること。
【解決手段】基板の上面に、接着剤層、化粧シート層を順に積層し、該化粧シート層上に樹脂組成物を塗布し、次いで賦型シートを当接して一体的に硬化させた後に、該賦型シートを剥離して樹脂層を形成した樹脂化粧板であって、該賦型シートが基材上に少なくとも、部分的に又は全面にわたって設けられたインキ層と、該インキ層上に存在してこれと接触すると共に、全面にわたって被覆する表面賦型層を有する賦型シートであって、該表面賦型層が電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化したものである樹脂化粧板である。 (もっと読む)


【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールド用硬化性樹脂組成物、及び樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】 ポリシロキサンセグメント(a1)と、ビニル系重合体セグメント(a2)とを有する複合樹脂(A)を含有する樹脂モールド用硬化性樹脂組成物を提供することで、ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールドを提供することができる。また、該樹脂モールドから作成されるレプリカモールド、及びレプリカモールドの製造方法を提供する (もっと読む)


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