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Fターム[4F209AK03]の内容

Fターム[4F209AK03]に分類される特許

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【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第1領域に第1パターンを形成する工程と、前記第1パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第1領域とは異なる第2領域において、前記反転材膜を第2パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第1パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第1領域において前記反転材膜を第3パターンに加工する工程と、前記第2パターン及び前記第3パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板上に予め存在するパターン領域に形成されるパターンと、新たに形成する樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置1は、型8に形成されているパターンを基板10上の樹脂14に転写する。このインプリント装置1は、型8に力を加え、型8に形成されているパターン領域を変形させるモールド形状補正機構201と、基板10上に形成されている基板側パターン領域20を加熱し、基板側パターン領域20を変形させるウエハ加熱機構6と、型8に形成されているパターン領域8aと、基板側パターン領域20との形状の差に関する情報を得、得られた情報に基づいて、型8に形成されているパターン領域8aと基板側パターン領域20との形状の差を低減するように、モールド形状補正機構201およびウエハ加熱機構6を制御する制御部7とを備える。 (もっと読む)


【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント材料。(A)成分:特定の式で表されるビフェニル(メタ)アクリレート。(B)成分:下記式(2)で表されるフルオレン(メタ)アクリレート及び/又は特定の式で表されるビスフェノール(メタ)アクリレート。


(式中、R及びRは互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A及びAは互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。)(C)成分:光重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】 モールドの表面に励起光を照射することなく、モールドのパターン欠陥を検知するインプリント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、型に形成されたパターンと、基板に供給されたインプリント材とを接触させることで、インプリント材にパターンを転写するインプリント装置であって、発光物質を発光させる励起光を照射する照射部と、発光物質から発光する光を検出する検出部と、発光物質を含む型を保持する型保持部と、を備え、インプリント材にパターンが転写された後、照射部はインプリント材に転写されたパターンに励起光を照射し、検出部はインプリント材に残留した発光物質から発光する光を検出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド1は、ナノインプリント用の複製モールド1であって、基体10と、基体10上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体20とを具備する。複製モールド構造体20は、押し込み弾性率が4000N/mm以上、74000N/mm以下であり、線熱膨脹係数が10×10−5−1未満であり、かつ、365nmにおける透過率が70%以上である。 (もっと読む)


【課題】加工自由度に優れたモールドの製造方法及びこのモールドを用いて得られる表面微細構造部材を提供すること。
【解決手段】モールド(10)は、ロール表面にレジスト層を形成した後、レジスト層にレーザー光を照射してパターニングされる。このように得られたモールド(10)には、2つ以上のパターン部(10a〜10d)が、ロール形状のモールド(10)の外周に沿って設けられているとともに、互いに並列して配置されており、パターン部(10a〜10d)には、モールド(10)の外周に微細構造が形成されており、各パターン部(10a〜10d)を構成する微細構造の大きさは1μm以下である。 (もっと読む)


【課題】シリンダー状の金型をパターン母型として使用して透光性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂を用いて作成することで、所望のレンズ形状及び強拡散性能を得ることができ、高い表面耐擦傷性能を得ることが可能となる。
【解決手段】凹凸部が活性エネルギー線硬化性樹脂を介して透光性基材表面に凹凸構造が付与された金型40を圧着させ、前記硬化性樹脂を介さない金型40と透光性基材との圧着部における金型40の幅方向接線長L0に対する透光性基材の幅方向接線長L2との接触長さ率Aが0.1≦A≦0.7であり、成形離型補助部42が金型40の表面に付与された箇所と、透光性基材とが接触点を有さず、その接触部と非接触部とが少なくとも1回以上繰り返してなり、透光性基材の法線方向での成形離型補助部42の凹部42aとの距離hが20μm<h<200μmとなるように製造される光学シートの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、インプリント部材の剛性によらず、いかなるインプリント部材を使用しても、モールドの凹凸パターンをその中央部分からレジストに接触させることを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント装置10において、インプリント部材1が所定の撓み状態を維持するように、インプリント部材1に外力を作用させてそのインプリント部材1に永久歪みを付与する歪み付与デバイス20と、歪み付与デバイス20によって永久歪みが付与されたインプリント部材1を使用して、モールド1の凹凸パターン2を基板6上に配置されたレジスト7に押し付けて、レジスト7に上記凹凸パターン2を転写するインプリントユニット40とを備える。 (もっと読む)


【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Iとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートB、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートAを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 (もっと読む)


【課題】下層膜にダメージを与えることなく基板上のパターンを反転させることができるパターン材料を、基板上に成膜することが可能な成膜方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、成膜方法が提供される。前記成膜方法では、所望のレイアウトパターンを反転させた反転パターンを第1の基板上に形成する。そして、前記所望のレイアウトパターンのパターン材料を反転材料として第2の基板上に供給する。この後、前記反転パターンを前記反転材料に対向して接触させることにより、毛細管現象を利用して前記反転材料を前記反転パターンに充填する。 (もっと読む)


【課題】モールドを樹脂に押し付けたときの圧力によって凝縮する気体の樹脂に対する溶解量の不均一性を低減し、転写されるパターンの均一性の向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上にモールドのパターンを転写するインプリント装置であって、前記基板の上に供給された樹脂に前記モールドを押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板の上に前記モールドのパターンを転写するインプリント処理を行う処理部を有し、前記樹脂には、フッ素化合物を含む気体又は液体が溶解されていることを特徴とするインプリント装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式(1)及び/又は式(2)で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型8は、被処理体13に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部8aを有する。パターン部8aが設置されている側の面は、パターン部8aが配置された第1面と、パターン部8aが配置されていない第2面8bとを含む。型8は、第2面8bの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜40(42、45)を有する。 (もっと読む)


【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)および非重合性化合物(C)を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物(C)の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段10を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段10により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段12を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段12により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段13を具備する。 (もっと読む)


【課題】 光硬化性ナノインプリント用組成物を用いて、金型パターンよりも微細なパターンを基板上に形成するパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類の加水分解物を含有する光硬化性ナノインプリント用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成し、金型と前記塗膜とを接触させ、金型のパターンを転写し、光照射して塗膜を硬化させた後に、120℃〜250℃で熱処理をすることで金型のパターンよりも微細なパターンを基板上に形成する。 (もっと読む)


【課題】光源からの光を被照射面に均一に照射し、被照射面を均一に加熱することができる加熱装置及び加熱方法、並びに、転写率や生産性などを向上させることができる成形装置及びプラスチック成形品の成形方法の提供を目的とする。
【解決手段】加熱装置1は、断面形状が正方形のライトパイプ2と、このライトパイプ2と連結され、断面形状が正方形のライトボックス3と、このライトボックス3内に収容される光源4とを備えている。 (もっと読む)


【課題】表面の微細凹凸構造に欠陥が少ない高品質な物品を、安定的かつ容易に製造できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有する金型6とフィルム7(基材)との間に活性エネルギー線硬化性組成物を挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、フィルム7の表面に微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層12を形成することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品14を製造する方法であって、活性エネルギー線硬化性組成物として、1分子鎖中におけるジメチルシロキサン構造の比率の低い成分の含有量が高い、ジメチルシロキサン構造とエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性シリコーンオイルモノマーと、他の重合性化合物とを含むものを用い、金型6として、表面積1m当りに付着したタンパク質が1000個以下である金型を用いる。 (もっと読む)


【課題】消失し難い隠しマークをシンプルに形成可能であるマーキング方法等を提供する。
【解決手段】プラスチックの表面に対し、レーザー光を、マークの形状に対応するように照射して、当該表面のうち当該レーザー光を照射した部分を隆起させることで、当該マークを形成するマーキング方法であって、前記マークの形状に対応する前記レーザー光の照射を複数回行い、少なくとも一部の当該照射を、他の当該照射に対して一部重なるように行う。このようなレーザー光の照射により、マークの幅方向の断面形状が台形状となる。 (もっと読む)


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