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Fターム[4F209PN09]の内容

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【課題】パターンを担持したブランケット等の担持体と基板を互いに密着させた後、両者を互いに離間させることで剥離して担持体上のパターンを基板に転写するパターン転写技術において、担持体と基板との剥離を良好に行う。
【解決手段】離間開始時では第1離間速度V1でブランケットBLおよび基板SBを互いに離間移動させてブランケットBLと基板SBとの密着領域CPの各角部でブランケットBLおよび基板SBを部分剥離させた(第1工程)後、当該部分剥離後に離間速度を、第1離間速度V1よりも遅い第2離間速度V2に切り替えて、少なくとも密着領域CPが円弧を描く前までの間、この第2離間速度V2でブランケットBLに対して基板SBを離間移動されてブランケットBLおよび基板SBの剥離を進行させる(第2工程)。 (もっと読む)


【課題】 離型力が小さいパターン方法を提供すること。
【解決手段】 表面に凹部および/または凸部を有するモールドに硬化性組成物を接触させた状態で該硬化性組成物を硬化させ、前記モールドと前記硬化性組成物とを剥離して前記硬化性組成物の凹部および/または凸部を有するパターンを得るパターン形成方法であって、(i)前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物との間に且つそれぞれに接触するように、ガス発生剤を有するガス発生領域を設ける工程、(ii)前記(i)工程で設けられた前記ガス発生領域からガスを発生させる工程、(iii)前記(ii)工程と同時またはその後に、前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物とを剥離する工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】テンプレート表面に充填性と離型性を両立した離型層を形成する。
【解決手段】本実施形態では、インプリント処理時に光硬化性樹脂に接触させる凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面処理を行う。この表面処理方法は、テンプレート1のパターン面に第1シランカップリング剤を供給する工程と、テンプレート1のパターン面に第2シランカップリング剤を供給する工程と、を備えている。第1シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層は、第2シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層と比較して、前記光硬化性樹脂に対する接触角及び水に対する接触角が低い。 (もっと読む)


【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第1領域に第1パターンを形成する工程と、前記第1パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第1領域とは異なる第2領域において、前記反転材膜を第2パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第1パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第1領域において前記反転材膜を第3パターンに加工する工程と、前記第2パターン及び前記第3パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光硬化後に短時間且つ簡便に離型することができ、離型力が小さい硬化性組成物を提供する。また、離型力が小さいパターン形成方法を提供する。
【解決手段】硬化用組成物は、重合性モノマーと重合開始剤とを有し、前記重合開始剤が前記重合性モノマーの重合を開始させ、前記重合性モノマーが重合することで硬化する硬化性組成物において、前記硬化性組成物は圧力を受けてガスを発生するガス発生剤を更に有する。 (もっと読む)


【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第1のパターンと、前記第1のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第2のパターンとを具備し、かつ、前記第1のパターンは第1の材料を含み、前記第2のパターンは前記第1の材料とは異なる第2の材料を含むテンプレート1を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第1および第2の材料とは異なる第3の材料を含む被覆部材11で前記第2のパターンを被覆する。次に、被覆部材11で前記第2のパターンを被覆した状態で、テンプレート1を洗浄する。次に、被覆部材11を除去して前記第2のパターンを露出させる。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパを用いて光硬化性樹脂に微細な凹凸パターンを形成する方法であって、その中間スタンパと、微細な凹凸パターンが転写された光硬化性樹脂との離型性が向上された方法及びそれに用いる装置を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層31を有する光硬化性転写シート30の転写層31に、表面に微細な凹凸パターンを有する金型34の当該凹凸パターンを転写し、転写層31に微細な反転凹凸パターンを形成する工程、及び前記反転凹凸パターンを基板40上に形成された光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層41に転写し、光硬化性樹脂層41に金型34と同一の凹凸パターンを形成する工程、を含む凹凸パターンの形成方法において、前記反転凹凸パターンが形成された転写層31cに対してUVオゾン処理を行うことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】離型力が小さく、発泡による欠陥が少なく、かつ生産性に優れた膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜(被形状転写層1)を形成する工程と、前記塗布膜にモールド3を接触させる工程と、モールド3を介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜からモールド3を離し、基板2上に所定のパターン形状を有する膜(硬化膜11)を形成する工程と、を含み、前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板の上の樹脂に型を押し付ける際に型の一部に応力が集中することを抑制し、インプリント装置における重ね合わせ精度の改善に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材と型とを接触させた状態で当該インプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材から前記型を離型することで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型の前記基板に転写すべきパターンが形成されたパターン面とは反対側の裏面と接触する接触面を含み、前記接触面を介して前記型を保持するチャックと、前記型及び前記基板の少なくとも一方を駆動して前記インプリント材に前記型を押印する押印機構と、を有し、前記接触面は、前記型の裏面に対して前記パターン面とは反対側に湾曲した湾曲面を含むことを特徴とするインプリント装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料2が提供される。このような被膜形成材料2を基板1上に形成し、モールド3を押し当て、モールド3の反転パターン3bを転写した被膜2aを形成し、モールド3を被膜2aから引き離す(離型)。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料2を用いることで、離型の際、モールド3への被膜2aの付着が抑制される。 (もっと読む)


【課題】樹脂スタンパの変形が生じた場合であっても、樹脂スタンパと基板との位置合わせを精確に行うことができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16の該微細な凹凸パターンを基板18上に形成された光硬化性樹脂層20に転写する際に、前記樹脂スタンパ16と前記基板18とを位置合わせするアライメント方法であって、以下の工程:前記基板18に対向するように配置されたステージ12に、前記凹凸パターン形成面16aとは反対側の面が接するように前記樹脂スタンパ16を載置し、該樹脂スタンパ16を前記反対側の面側から固定する固定工程;前記樹脂スタンパ16の変形部位を検出する検出工程;及び前記変形部位の検出結果に基づいて、前記固定した状態で前記樹脂スタンパ16をその平面方向に伸縮する伸縮工程;を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は、前記樹脂スタンパの反対側の面を吸引する複数の吸引孔15を有する吸引機構14と、前記複数の吸引孔15を、前記樹脂スタンパが載置される載置面12aの平面方向にそれぞれ独立して移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置にて、型と樹脂とを引き離す際の離型性と、使用可能期間の長期化の点で有利な型を提供する。
【解決手段】型1は、石英からなり、被処理体としての樹脂を成形するパターン部3を有する。この型1は、樹脂と接触するパターン部3の表面上に形成された、フッ化水素を含む液体に対して不溶である材料からなる第1層4と、第1層4の表面上に積層する形で形成された、シランカップリング剤を含む化学吸着膜としての第2層5とを有する。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は複数に分割され、該分割されてなる複数の分割載置部12−1〜12−9の少なくとも一部は、前記樹脂スタンパの前記反対側の面側から前記樹脂スタンパを固定する固定機構と、前記載置台の載置面の平面方向に移動する移動機構と、を有することを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ10。 (もっと読む)


【課題】基板上に予め存在するパターン領域に形成されるパターンと、新たに形成する樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置1は、型8に形成されているパターンを基板10上の樹脂14に転写する。このインプリント装置1は、型8に力を加え、型8に形成されているパターン領域を変形させるモールド形状補正機構201と、基板10上に形成されている基板側パターン領域20を加熱し、基板側パターン領域20を変形させるウエハ加熱機構6と、型8に形成されているパターン領域8aと、基板側パターン領域20との形状の差に関する情報を得、得られた情報に基づいて、型8に形成されているパターン領域8aと基板側パターン領域20との形状の差を低減するように、モールド形状補正機構201およびウエハ加熱機構6を制御する制御部7とを備える。 (もっと読む)


【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント材料。(A)成分:特定の式で表されるビフェニル(メタ)アクリレート。(B)成分:下記式(2)で表されるフルオレン(メタ)アクリレート及び/又は特定の式で表されるビスフェノール(メタ)アクリレート。


(式中、R及びRは互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A及びAは互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。)(C)成分:光重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】インプリント処理時の重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置は、基板上の未硬化樹脂を型により成形して硬化させて、基板上に硬化した樹脂のパターンを形成する。このインプリント装置は、型に外力または変位を与え、型に形成されているパターン部の形状を補正する型変形機構と、パターンを形成すべき基板上のパターン形成領域に予め存在する基板側パターンに温度分布を形成し、基板側パターンの形状を補正する基板変形機構と、基板変形機構により基板側パターンの形状を補正(S106)させた後に、基板側パターン上に塗布された樹脂とパターン部とを押し付けた状態(S108)にて、型変形機構によりパターン部の形状を補正(S109)させることで、パターン部の形状と基板側パターンの形状とを合わせる制御を実行する制御部と、を備える。 (もっと読む)


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