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Fターム[4G001BC17]の内容

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Fターム[4G001BC17]に分類される特許

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【課題】3A族の酸化物をはじめとする焼結助剤は含有しておらず、研削加工を行っても表面粗さの小さい窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】耐食性を有する純度99%以上の窒化アルミニウム焼結体であって、密度が3.20×10kg/m以上であり、Caを200ppm以上400ppm以下、Siを10ppm以上100ppm以下、Cを220ppm以上1500ppm以下含有する。窒化アルミニウム焼結体は、3A族の酸化物をはじめとする焼結助剤を含有せず、緻密化を促進する物質であるCaと阻害する物質であるSiおよびCを所定量含有する。これにより、研削面において窒化アルミニウム焼結体の表面粗さを小さくすることが可能となる。その結果、研削面の表面積が小さくなり、窒化アルミニウム焼結体の耐食性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】 粒界内炭素の含有量が少なく、焼結性に優れ、さらに高い熱伝導率を有する焼結体を得ることのできる、窒化アルミニウム粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元窒化法により窒化アルミニウム粉末を製造する方法であり、アルミナ粉末、カーボン粉末、ナトリウム化合物、及び、上記還元窒化温度下でアルミナと共融解し得るアルカリ土類金属化合物又は希土類金属化合物を特定量使用した組成物を、1300℃〜1750℃の温度で還元窒化する。 (もっと読む)


【課題】 脱粒が少なく、優れた機械的特性および耐磨耗性を有する窒化珪素質焼結体およびこれを用いた溶湯金属用部材ならびに耐磨耗性部材を提供する。
【解決手段】 窒化珪素を主成分とし、ジルコニアと、イットリア,セリア,マグネシアおよびカルシアの少なくともいずれか1種とを含んでなり、主結晶を構成する窒化珪素に単斜晶のジルコニアを含む窒化珪素質焼結体である。この窒化珪素質焼結体は、高い圧縮応力が主結晶にかかった状態となっており窒化珪素の粒子の脱粒が少なく、優れた機械的特性や耐磨耗性を有する。 (もっと読む)


【課題】複合材料における強化材の充填率を高くすることができる複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化ホウ素および炭化ケイ素のそれぞれの強化材と金属ケイ素のマトリックスとからなる複合材料の製造方法であって、炭化ホウ素の粉粒体に液体フェノールをバインダとして加え、セディメント成形する工程と、セディメント成形の結果、作製されたプリフォームに金属ケイ素を含浸させる工程とを含む。これにより、プリフォームにおける炭化ホウ素粒子の充填阻害を回避し、充填率を高く維持でき、製造した複合材料における炭化ホウ素粒子の充填率を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明では、電気抵抗率の温度変化依存性が抑制されたハニカム構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】セル壁によって区画されたセルを有する柱状のハニカムユニットを含むハニカム構造体であって、前記セル壁は、炭化ケイ素粒子を含み、前記炭化ケイ素粒子の表面には、窒素含有層が形成されていることを特徴とするハニカム構造体。 (もっと読む)


【課題】 冷却効率が良好で、密着強度が高く信頼性に優れた半導体製造装置用部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体製造装置用部材は、窒化アルミニウム質基体1の表面に水酸化アルミニウムからなる被膜(水酸化アルミニウム膜2)が設けられていることを特徴とするものである。これにより、水酸化アルミニウム膜2は水分との濡れ性がいいので、水酸化アルミニウム膜2から窒化アルミニウム質基体1への伝熱が良くなり、冷却効率が良好な半導体製造装置用部材を実現できる。また、水酸化アルミニウム膜2と窒化アルミニウム質基体1との界面へのクラックの発生が抑制され、密着強度が高く信頼性に優れたものとすることができる。 (もっと読む)


【課題】 大粒径の窒化アルミニウム焼結顆粒を工業的に製造することを可能とする窒化アルミニウム焼結顆粒の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機バインダー、窒化アルミニウム粉末及び焼結助剤を含有するグリーンシートを細片に切断加工することにより、好ましくは、個々のグリーン片の体積が1.5×10〜1.0×10μmであるグリーン片を得、次いで、得られたグリーン片を、例えば、1500〜2000℃の温度で焼成して窒化アルミニウム焼結顆粒を得る。 (もっと読む)


【課題】難削性遠心鋳造鋳鉄加工において、耐欠損性、及び耐摩耗性に優れるcBN焼結体を提供する。
【解決手段】本発明は、体積で50%以上90%以下又は40%以上85%以下のcBN成分からなるcBN焼結体であって、前記cBN焼結体中に、アルミナ及びジルコニアが体積で、9%以上50%以下を含有し、ジルコニア/アルミナの重量比が0.1以上4以下であることを特徴とするcBN焼結体である。本発明に係るcBN焼結体を切削に関与する部位に用いた工具は、cBN焼結体の強度、硬度、靭性に優れるために、従来のcBN焼結体工具と比較し、難削性遠心鋳造鋳鉄加工において性能が向上する。 (もっと読む)


【課題】大面積樹脂フィルム上への連続的かつ均一な窒化チタン膜の工業的な成膜を可能とする。
【解決手段】平均粒径が0.4〜1.5μmのTiN粉末を用い、分散剤を、TiN粉末100質量部に対して0.5〜2.0質量部添加し、湿式粉砕し、噴霧乾燥し、98〜294MPaの圧力で成形し、大気圧還元性雰囲気で400〜1000℃で還元処理した後、大気圧窒素雰囲気中で、1800〜2100℃の温度で焼成し、加工し、一般式:TiNxにおいて0.8≦x≦1.0、相対密度:93〜100%、平均空孔径が0.1〜1.5μmの窒化チタンスパッタリングターゲットを得る。 (もっと読む)


【課題】セラミックス充填率が低く尚且つ均質な金属−セラミックス複合材料からなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、セラミックス及びマトリックス金属からなる多孔質焼結体に金属を含浸させてなり、セラミックスがSiC、Al、Siの何れかであり、マトリックス金属及び金属が同種でSi、Al、Cuの何れかであり、セラミックスの充填率が20〜50体積%である金属−セラミックス複合材料からなる。 (もっと読む)


【課題】新規な炭化ケイ素−炭素複合材の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素が表面に付着した炭素質材料2を含む成形体を焼成することにより炭化ケイ素−炭素複合材1を製造する。 (もっと読む)


【課題】基板の厚みを低減させることなく、放熱性を向上させたパワーモジュール用のセラミックス焼結板を提供する。
【解決手段】少なくとも針状Si粒子と粒状非晶質Si粒子とが焼結されたセラミックス焼結板であって、針状Si粒子がC軸配向し、かつ、相対密度が94〜98%であるセラミックス焼結板により、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、窒化アルミニウム基板の製造に関し、酸化性、非酸化性と雰囲気の相反する脱脂炉と焼結炉において共用可能な台板を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム粒子と焼結助剤と有機バインダーとから成る窒化アルミニウム成形体を酸化性雰囲気の脱脂炉中で脱脂し、次いで1600〜2100℃の非酸化性雰囲気の焼結炉中で焼成して窒化アルミニウム焼結体を得る製造方法において、窒化アルミニウム成形体を積載した耐酸化性及び耐熱性を有する台板を前記脱脂炉及び焼結炉内で共用可能に使用すること、また前記台板が、グラファイト板の全表面を炭化珪素の皮膜で被覆していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 加工効率が高く、しかも欠けにくい窒化珪素質焼結体およびこれを用いた装飾部品を提供する。
【解決手段】 β−窒化珪素を主成分としてなり、X線回折法を用いて得られる、β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101),I(210)としたとき、内部における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも小さく、研磨された表面における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも大きい窒化珪素質焼結体である。回折強度の比I(101)/I(210)を上述のようにすることによって、内部から表面に向かって結晶の配向性が変化するので、内部および表面における回折強度の比I(101
)/I(210)が1よりも小さい場合に比べて、表面における破壊靱性は低くなり、加工
効率が高くなる。 (もっと読む)


【課題】ほぼ化学量論組成を有するとともに緻密な焼結体が得られる易焼結性炭化ケイ素粉末、比抵抗の低い炭化ケイ素セラミックス焼結体、その製造方法を提供する。
【解決手段】炭素/ケイ素の元素比率が0.96〜1.04であり、かつ、平均粒径が1.0〜100μmであり、かつ、13C-NMRスペクトルにおいてケミカルシフトが0〜30ppmの範囲における吸収強度の積分値の、0〜170ppmの範囲における吸収強度の積分値に対する比が20%以下であることを特徴とする易焼結性炭化ケイ素粉末。該炭化ケイ素粉末を加圧下で焼結して比抵抗が小さく緻密で純度の高い焼結体を製造する。 (もっと読む)


【課題】 YSiAlONの結晶が存在した場合でも破壊靭性を低下させることなく、強度に優れた窒化珪素質焼結体を提供する。
【解決手段】 窒化珪素の結晶を主相とし、粒界相にYSiAlONの結晶およびYSiAlONの結晶が存在する窒化珪素質焼結体である。これにより、強度に優れた窒化珪素質焼結体とすることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、熱伝導性に優れた窒化ホウ素粒子及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】
ホウ酸メラミンと、粉末X線回折法による黒鉛化指数(GI)2.0以下、平均粒子径5〜40μmの鱗片状窒化ホウ素粉末からなり、平均粒子径が40〜300μmである複合粒子。有機バインダーを0.05〜1.0質量%含有した水溶液100質量部に対し、ホウ酸メラミン100質量部に対して鱗片状窒化ホウ素が1.0〜20質量部の混合物10〜50質量部含有するスラリーを用いて、噴霧造粒する複合粒子の製造方法。複合粒子を、非酸化性雰囲気下600〜1300℃で焼成後、非酸化性雰囲気下1600〜2200℃で焼成する窒化ホウ素粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】強化繊維の形態を適切に調整することで、破壊エネルギーが高く、かつ熱伝導率や曲げ強度の特性も適切に制御された、炭素繊維強化炭化ケイ素系セラミックスを提供する。
【解決手段】炭素繊維31からなる短繊維を集合してその外表面に炭素被膜32を形成することで被膜付き繊維集合体3を作製する工程と、炭化ケイ素と炭素材料とを混合して基材部原料2を作製する工程と、これらに炭素被膜のない炭素繊維からなる短繊維4とを混合して混合体を作製する工程と、前記混合体を成型,加圧して成形体を作製し、前記成形体を還元雰囲気下で焼成して焼成体を作製したのち、焼成体に対して減圧下でシリコン含浸を行うことを特徴とする、炭素繊維強化炭化ケイ素系セラミックス1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高剛性でかつ高熱伝導率のSiC/Si複合材料を支障なく提供する。
【解決手段】SiC粒子の間にSiが充填された構造を有するSiC/Si複合材料において、SiC粒子が、粒度が異なる粗粉及び微粉により構成され、SiCの充填率が、86〜94体積%となるようにする。この場合、SiC粒子の結晶相は、粗粉においてはα相のみであり、微粉においてはβ相のみであるか又はβ相及びα相が混在しており、α相及びβ相の結晶の含有率をそれぞれα体積%及びβ体積%とすれば、64≦β/(100−α)≦86が成立する。 (もっと読む)


【課題】 低温〜高温の広い温度域ですぐれた抵抗値特性を有する炭化ケイ素発熱体,ハニカムを製造することができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の製造方法は、炭化ケイ素と、ケイ素と、炭素と、アルミニウム原料と、を混合する工程と、混合物を焼成する工程と、を有する製造方法である。そして、アルミニウム原料の割合,焼成条件を調節することで、優れた抵抗値特性が得られるものとなっている。 (もっと読む)


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