本発明は、半導体工業において使用するのに十分な不純物水準にまでＣＯ_２を除染するための方法である。本発明は、汚染物の除去に適した条件下で、少なくとも１種の金属の組み合わせ金属状態に流体ＣＯ_２を曝すことを含む。次いで、各吸着剤を除染／活性化することにより、吸着剤を混合酸化状態に戻し、さらなる回数の除染を可能にする。各吸着剤は、互いに補完し合い、別々の汚染物を選択的に吸着するように選択される。加えて、各吸着剤は、再生時に金属の一部のみが還元され、その１種の吸着剤が元の状態に戻されるように、異なる程度の還元を受ける。 （もっと読む）

【課題】改良された地域汚染浄化製品およびその使用方法の提供。
【解決手段】活性型ナノ粒子（例えば、金属酸化物、水酸化物およびこれらの混合物）および一つかより多くの殺生物剤、およびナノ粒子と殺生物剤用の液状担体が含まれる。製品は地域汚染浄化用にスプレー、霧剤、エアロゾル、ペースト、ゲル、拭き取り剤あるいは泡剤に形成することができ、反応型ナノ粒子の存在が望ましくない化学ないし生物化合物や物質の中和を促進する。ナノ粒子はアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、アクチニドおよびランタニドの酸化物、水酸化物およびこれらの混合物を含む群からのものがよい。形状としては、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｓｎ、ＴｉおよびＺｎの酸化物および水酸化物で単結晶の大きさが約２０ｎｍまで、表面積が少なくとも１５ｍ^２／ｇのものを使用するのが好ましい。 （もっと読む）

金属含有溶液をスカベンジャー担体と接触させ、スカベンジャー担体を少なくとも幾分かの溶液中金属と結合させ、溶液中金属の量を減少させる溶液から金属を除去する方法において、スカベンジャー担体が、1,3-ケトエステル又は1,3-ケトアミド又はこれらの混合物から選択される担体に結合しているペンダント基を含み、多数のペンダント基はアミンと反応する、官能性化担体を含むことを特徴とする方法が提供される。式（1）（式中R¹は場合によっては置換されているヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；XはO又はNR²であり（式中、O又はNR²の自由原子価は場合によってはリンカーを介して担体に結合している）；R²は水素、場合によっては置換されているヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基である）の1,3--ケトエステルペンダント基又は1,3-ケトアミドペンダント基を含む官能性化担体を含有し、多数のペンダント基がアミンと反応するスカベンジャー担体も提供される。好ましいスカベンジャー担体としては、式（3）又は（4）（式中、R¹は場合によっては置換されているヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；XはO又はNR²であり、ここでO又はNR²の自由原子価は場合によってはリンカーを介して結合しており；R²は水素、場合によっては置換されているヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；R⁴は置換基であり；R⁵は水素又は置換基であるか、又はR⁴及びR⁵は場合によっては置換されている複素環を形成するような態様で場合によっては結合している）又は互変異性体又はこれらの塩の3--イミノエステルペンダント基、3-イミノアミドペンダント基、2,3-エナミノエステルペンダント基又は2,3-エナミノアミドペンダント基を含むスカベンジャー担体を挙げることができる。
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本発明に係るろ過装置は、圧縮および／またはバインダ材を用いることにより単に吸着材を共に結合させることとは対照的に後の段階で他の吸着材の添加に適応しうる構造性マトリックスの形成を達成する材料および方法に依拠する。本発明に係るフィルタ装置は、（ｉ）材料の最大密度が達成されるように加工する特有の方法、（ｉｉ）明確なモルフォロジーを有する高分子材料、および（ｉｉｉ）均一性を生成する高分子材料の微小ミクロン直径に依拠する。たとえば、圧縮して密度を増大させる代わりに、むしろ、本発明に係るろ過装置を構成する材料は、成形型キャビティー中に振動導入される。したがって、本発明に係る方法は、ろ過装置を構成する材料のすべてをいかにして圧縮することなく共に当接させるかに関して最適化を行う。成形型中に徐々に注ぎながら、加工される材料を振動させる。それ以上の材料が保持されなくなるまで成形型キャビティーを満たした後、加熱しそして次に冷却する。外部バインダの代わりに、構造性材料は、軟化したときに自己接着する。この結果として、絶対細孔バリヤではなく細孔の蛇行通路マトリックスが得られる。 （もっと読む）

キトサン誘導体から構成される高表面積質量比を有する多孔性樹脂を含む喫煙品用フィルター。好ましい態様は、グルタアルデヒドまたはグリオキサールで架橋されたキトサンなどが挙げられる。このキトサン誘導体は、紙巻きタバコ煙の選択的ろ過、特にアルデヒド、シアン化水素、重金属およびカルボニルなどを除去する。 （もっと読む）

水溶性オキソアニオン除去用の修正基質で、天然の中乃至高カチオン交換容量を有する鉱物か鉱物相当物から基質を選択し、一つ以上のＩＩＩＢ属かＩＶＢ属元素の塩の高温で水に溶解してこの塩から基質修正剤を形成し、基質を基質修正剤と高剪断速度下で混合することにより形成する修正基質。 （もっと読む）

本発明の排ガス処理剤は、粒状で、多孔質であり、その表面の一部が水酸化カルシウムとなっている酸化カルシウムからなる排ガス処理剤である。表面積が１ｍ^２／ｇ以上であり、空間率が１０〜５０体積％であることが好ましい。この酸化カルシウムは、粒状の炭酸カルシウムを焼成して得られたものであり、半導体製造装置から排出される排ガスを気体状のまま、この排ガス処理剤に接触させて有害ガス成分を反応させて除去する。 （もっと読む）

土壌培地１で栽培してなる観葉植物２や草花、花木植物に、ノニオン系樹脂や、ノニオン系樹脂とアクリル系樹脂との混合物や、ノニオン系樹脂とチタンと液体肥料との混合物などを振りかけて栽培し、このノニオン系樹脂を更に殺菌剤、保水剤、除草剤、断熱剤等として働く。また、培地にチタンを混合して植物を栽培する。また、培地にチタン、ノニオン樹脂、天然にがり、バイタルアトム活水等の水に含有して振り掛けて植物を栽培する。また、水にチタン、ノニオン樹脂を添加して、水の鮮度を保持する。 （もっと読む）

腐食性ガス、特にハロゲン含有ガスから不純物を約１００ｐｐｂの濃度に低下するまで除去するための方法、組成物、および装置が開示される。重要な構成要素はジルコニア（ＺｒＯ_２）であり、これは種々の物理形態で、このようなガスを脱水することができる。ジルコニアは、基体上のコーティングの形態であってもよいし、粒状バルク材料であってもよいし、多孔質体の細孔内部に堆積させることもできる。このジルコニアは簡単な容器中に維持され、気相堆積または蒸着製造ユニットなどへのガス供給ライン中に容易に取り付けられる。本発明の精製方法は、これらのガスの存在下で長期間実施することができる。本発明によって、高純度の電子製品、補綴製品、または類似の製品の気相堆積または蒸着の形成を意図したガス流への最終的な精製が行われ、上流の予備脱水プロセスまたは固体粒子除去ユニットと併用することができる。 （もっと読む）

【課題】 金属や類金属に対して優れたキレート捕捉能を有し、焼却処理などが容易で簡単かつ安全な方法で安価に製造することのできる新たなキレート形成性繊維を提供するとともに、その製法と利用法を開発すること。
【解決手段】 繊維分子中に、下記式（１）で示される基を有し、金属あるいは類金属元素とのキレート形成能を与えたキレート形成性繊維、とその製法並びに該繊維を用いた金属あるいは類金属の捕捉法を開示する。


［式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ヒドロキシエチル基、またはヒドロキシプロピル基、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基、ヒドロキシエチル基、またはヒドロキシプロピル基を表し、Ｒ¹とＲ²とは同一もしくは異なる基であってもよい］ （もっと読む）