本発明は、珪素とHClガスとを、流動床反応器、攪拌床反応器または固定床反応器中で、２５０℃ないし１１００℃の範囲の温度及び０．５−３０気圧の絶対圧力の条件下で反応させることによってトリクロルシランを製造する際、反応器に供給される珪素が３０ないし１００００ppmの範囲のクロムを含有することを特徴とするトリクロルシランの製造法に関する。本発明はまた、珪素とHClガスとの反応によるトリクロルシランの製造に使用するための珪素であって、該珪素が３０ないし１００００ppmの範囲のクロムを含有し、残部は通常の不純物以外は珪素であることを特徴とする前記目的に使用する珪素に関する。

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製紙のための、特に紙歩留まりのための、マイクロ粒子としてのスルホン酸基及び／又はメルカプト基含有のシリカゾルの使用。 （もっと読む）

過酸化水素及び疎水化した、熱分解的に製造された二酸化ケイ素粉体を含有する粉体状混合物であって、その際疎水化二酸化ケイ素粉体は、少なくとも４０のメタノール湿潤性を有し、かつ総質量に基づいて９質量％より少ない程度で存在し、かつ過酸化水素の含量は総質量に基づいて１０〜５０質量％である。これは、４０より大きいメタノール湿潤性を有する疎水化二酸化ケイ素粉体を、７０℃以下の温度において、過酸化水素水溶液で処理する方法によって製造される。これは、洗剤、清浄用組成物、及び、皮膚及び毛髪処置用組成物において使用されてよい。 （もっと読む）

本発明は、極度に僅かな微孔性および高いゴム活性を有する沈降珪酸、その製造法およびゴム混合物のための充填剤としての該沈降珪酸の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ゴム加硫物の極めて高い強度を有する高分散性の沈降珪酸、その製造法およびゴム混合物のための充填剤としての該沈降珪酸の使用に関する。 （もっと読む）