説明

Fターム[4G072MM23]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 反応、分離系操作 (4,111) | 洗浄 (322)

Fターム[4G072MM23]の下位に属するFターム

 (83)
アルカリ (26)

Fターム[4G072MM23]に分類される特許

1 - 20 / 213



【課題】シリカ殻の任意の部位に選択的に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子を担持させたシリカ殻からなる複合ナノ中空粒子を提供すること、またナノ粒子の分散性を維持しつつ、中空粒子が持つ特性を保持したまま安定して供給する方法を提供することである。
【解決手段】平均細孔径の異なるシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造し、シリカ殻外表面、シリカ殻内、あるいはシリカ殻内表面の少なくとも一部位に選択的に金属または金属酸化物を担持させる。 (もっと読む)


【課題】良好な多孔質シリカ内包粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)多孔質シリカを準備する工程と、(b)多孔質シリカと金属または前記金属を元素組成として有する化合物を含有する液とを接触させ、多孔質シリカの孔内に前記液を含浸させる工程と、(c)前記(b)工程の後、熱処理を施すことにより、前記多孔質シリカの孔内において前記金属または前記金属化合物を含有する微細粒子を形成する工程と、を有する。また、無溶媒系でアルコキシシランの加水分解することにより多孔質シリカを合成すれば、微細な孔径を有する多孔質シリカの合成が可能であり、この多孔質シリカを鋳型とすることで、バルクの状態では見られない特異な性質を示す粒子(例えば、W、Cu、Cr、Mn、Fe、CoまたはNiやこれらの金属酸化物)も容易に形成することができる。 (もっと読む)


【目的】
ゾルーゲル法によってシリカ系の湿潤ゲルを合成する際に、シリカ末端のOH基に疎水化反応をさせるシラン系表面処理剤を添加する方法において、所望の疎水化された湿潤ゲルを得、最終的に疎水性に優れたナノ構造を有する多孔質体を提供することを目的とする。
【構成】
本発明は、テトラアルコキシシランにシラン系表面処理剤を添加し、アルカリ触媒下でのゾルーゲル法で湿潤ゲルを得、得られた湿潤ゲルを超臨界炭酸ガス乾燥法によって乾燥して得られるナノ構造多孔質体の製造方法であって、前記シラン系表面処理剤は、Si(OCH)4−n(n=2〜3、X=アルキル基)の化学式で表されるものであり、かつ、モル比率でテトラアルコキシシラン/シラン系表面処理剤=9/1〜2/8の範囲で添加されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微粒子状炭素がシリカ骨格の内部にまで均一に分散した状態にあって優れた電気伝導性を示すシリカ・炭素複合多孔質体と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ・炭素複合多孔質体は、界面活性剤によって水に分散させた微粒子状の炭素と、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液と、鉱酸とを混合することにより、アルカリ金属ケイ酸塩と鉱酸との反応生成物であるシリカと微粒子状の炭素が均一に分散した共分散体を作製し、当該共分散体中に含まれるシリカをゲル化させ、共分散体を多孔質化することによって得られる。このシリカ・炭素複合多孔質体は、比表面積が20−1000m2/g、細孔容積が0.3−2.0ml/g、平均細孔径が2−100nmに調製される。このようなシリカ・炭素複合多孔質体は、微粒子状炭素がシリカ骨格の内部に均一に分散した状態にあり、優れた電気伝導性を示す。 (もっと読む)


【課題】カーボン粒子の表面に板状のシリコンが付着した複合材料に比べて充放電サイクル特性が更に向上した蓄電デバイス用電極材料を提供する。
【解決手段】本発明の蓄電デバイスは、正極と、負極と、正極と負極との間に介在するイオン伝導媒体とを備えている。ここで、正極および負極のうち少なくとも一方は、活物質として炭素で被覆された層状ポリシランを含んでいる。こうした活物質は、層状ポリシランを合成し、その層状ポリシランの粉末を撹拌しながら乾式の皮膜形成法によってカーボンで被覆することにより得ることができる。 (もっと読む)


【課題】結晶性が高く、微細であり、しかも不純物量の少ないMg2Si微粒子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】比表面積が30m2/g以上であり、Mg2SiのXRD最強線強度(IMg2Si)に対するSiのXRD最強線強度(ISi)の比(=ISi×100/IMg2Si)が5.0%以下であるMg2Si微粒子。このようなMg2Si微粒子は、Na−Si系化合物及びMgのハロゲン化物、並びに、必要に応じてNaを、Mg/Si比(モル比)が2以下となり、かつ、Na/Si比(モル比)が1以上9以下となるように配合し、配合物を、0.7Tmin以上Tmin未満の温度(但し、Tminは、前記Na−Si系化合物の融点、共晶点、及び分解温度の内の最も低い温度)で加熱し、反応物を溶媒で洗浄し、未反応原料及び副生成物を除去することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】 流動性を大幅に改善した粉体のキトサン組成物を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸塩を含有する第1水溶液と、キトサンの酸水溶液である第2水溶液と、を混合し、第1の懸濁液を形成する第1ステップと、第1ステップにより形成された第1の懸濁液とカチオン性界面活性剤とを混合し、カチオン性界面活性剤に接触したキトサン−ケイ酸複合体を含む第2の懸濁液を形成する第2ステップと、を含んでなる、キトサン−ケイ酸複合体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】(B)液分中のSi濃度が10.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と10.0体積%以上の濃度の鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させるシリカ回収工程と、(C)工程(B)で得られたSiOを含む固形分と鉱酸を混合する酸洗浄工程と、(D)工程(C)で得られたSiOを含む固形分と水道水を混合する水道水洗浄工程と、(E)前工程で得られたSiOを含む固形分とイオン交換水を混合するイオン交換水洗浄工程と、を含む高純度シリカの製造方法。 (もっと読む)


【課題】電気伝導性および安全性を高めると共に、組成や粒径を良好に制御できる二次電池用正極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】Aabcd1e1(AはLi、Na、K、MはFe、Mn、Co、Ni、XはSi、P、S、B、Al、V、Mo、W、As、Ge、Sb、Zはハロゲン、0.8≦a≦2.7、0.6≦b≦1.4、0.9≦c≦1.1、d1はa、b、c、e1、Mの価数、Xの価数に依存する数、e1≦a、0≦e1≦2.2)組成を有する溶融物を冷却して固化物を得る。固化物を粉砕した後に不活性ガス中または還元ガス中で加熱し、Aabcde組成を有する化合物の表面の少なくとも一部が導電材で被覆された被覆粒子を得る。被覆粒子と溶媒と、該溶媒に分散または溶解した含フッ素ポリマーとを混合した後、溶媒を除去し、次に加熱して二次電池用正極活物質を得る。 (もっと読む)


【課題】透明被膜の白化が抑制され、優れた耐擦傷性や密着性を発揮することが可能な中空シリカ微粒子とその製造方法を提供する。
【解決手段】動的光散乱法により測定される平均粒子径が5〜300nm、比表面積が50〜1500m/gであり、外殻の内部に空洞が形成されてなる中空のシリカ微粒子であって、熱重量測定(TG)により、200℃〜500℃の温度範囲において1.0重量%以上の重量減少を示す。また、この中空シリカ微粒子は、200℃〜500℃の温度範囲での示差熱保持測定(DTA)において、正のDTAピークを有する。中空シリカ微粒子が分散したオルガノゾルを調製し、30℃〜300℃の温度範囲で、該オルガノゾルにシラン化合物およびアルカリ触媒を添加し、シリカ配合量に対して水分量が0.1〜50重量%の条件で、該シラン化合物と該中空シリカ微粒子を反応させ製造する。 (もっと読む)


【課題】空隙率が高く、小粒径で、かつ温湿度等の環境変化に強い球状の中空粒子、これを用いた赤外線反射フィルム及び赤外線反射体を提供することにある。
【解決手段】シェルがシリカ(SiO)と金属酸化物(MOx)を含有し、その組成がモル比で、
1<(Si/M)<100
で、かつ体積換算平均粒子径が、10〜200nmであることを特徴とする中空粒子。
(式中、Mは第3族、第4族、第5族、第13族またはSiを除く第14族の金属元素を表す。) (もっと読む)


【課題】半導体材料用シリコンについて、アルミニウムおよび鉄の洗浄効果に優れた洗浄方法とその多結晶シリコン塊、洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体材料用シリコンを用意する工程と、逆浸透精製処理と、イオン交換精製処理とを行った純水を用意する工程と、前記純水を用いて半導体材料用シリコンを洗浄する工程と、前記洗浄によって、純水洗浄後のシリコン表面に残留するアルミニウムおよび鉄が低減された半導体材料用シリコンを得る工程と、を含む洗浄方法および洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】シリコン芯線と他の導電部材の間での火花放電の発生を抑制し、多結晶シリコンの生産性の向上を図ること。
【解決手段】シリコン芯線は単結晶シリコン又は多結晶シリコンの円柱形状のインゴットから切り出され(S101)、切断化工時に生じた残留歪を除去する目的で、取りしろが通常50μm〜200μm程度となるようなフッ酸と硝酸の混酸溶液によるエッチング処理が行われ(S102)、そのエッチングの後に多結晶シリコンの析出反応に用いられる(S103)。エッチング処理の工程でシリコン芯線表面に厚い酸化膜が形成され、これが火花放電を引き起こす原因となる。そこで、本発明では、シリコン芯線をフッ酸と硝酸の混酸溶液でエッチングして表面の加工歪みを除去する工程に続いて、シリコン芯線の表面をフッ酸溶液で洗浄して表面酸化膜を除去する工程(S104)を備える。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンを収納した容器を洗浄槽との間で円滑かつ確実に搬送することができ、作業効率を向上させて安定した品質を維持できる多結晶シリコン洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンSを容器3に収納した状態で洗浄槽21〜27に浸漬して洗浄する多結晶シリコンの洗浄装置1であって、洗浄槽21〜27の内底部に容器3を載置状態に保持するガイド枠5を有しており、ガイド枠5には上方から容器3の導入を案内する複数のガイド板52が上方に向かうにしたがってガイド枠5の保持中心から離間する方向に傾斜して設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 酸性領域で非常に安定なシリカ系微粒子分散ゾル、該ゾルの製造方法、および該分散ゾルを含む塗料組成物に関する。
【解決手段】 異方形状のシリカ系微粒子を含む分散ゾルであって、該シリカ系微粒子の表面が負電荷を有し、かつ該シリカ系微粒子の表面がアルミニウムで修飾されており、該アルミニウムの修飾量はAl換算基準でシリカ系微粒子の単位表面積当り0.01×10−6〜2.0×10−6モル/mの範囲にある。前記シリカ系微粒子の動的光散乱法により測定された平均粒子径(D1)が15〜70nmの範囲にあり、BET法により測定された平均粒子径(D2)が10〜50nmの範囲にあり、異形度(D1/D2)が1.55〜4.00の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】種々の金属イオンについて室温で高いイオン伝導性を示し、安価かつ簡便に製造可能な無機固体イオン伝導体とその製造方法およびそれを用いた電気化学デバイスを提供する。
【解決手段】無機固体イオン伝導体は、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化スズ、および酸化インジウムからなる群より選択される1または複数からなる非晶質の金属酸化物と、前記金属酸化物中に含有された1価、2価、または3価の金属イオンとを含み、25℃(室温)において1×10−7S・cm−1以上のイオン伝導度を有する。 (もっと読む)


【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】(B)液分中のSi濃度が10.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と10.0体積%以上の濃度の鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiOを含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程、を含み、前記工程(B)において、ケイ酸アルカリ水溶液、及び鉱酸の少なくともいずれか一方と過酸化水素を混合することを特徴とする高純度シリカの製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、焼成工程を必要としないシリカナノチューブの製造方法を提供すること、更には、様々な大きさのシリカナノチューブを選択的に製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】その目的を達成するために、本発明は、ノニオン界面活性剤及び自己反応性を有するシリカ前駆体化合物によりミエリン像を形成し、該シリカ前駆体化合物を反応させた後、溶媒洗浄にて該ノニオン界面活性剤を除去する精製工程を行うことを特徴とするシリカナノチューブの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高比表面積を有するシリカ含有含水酸化チタンの製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子シリカとシリカゾルから選ばれる少なくとも1種のシリカ材料の存在下に、このシリカ材料に対してハロゲン化チタンを酸化チタン換算にてTiO2/SiO2 重量比で90/10〜50/50の範囲にて含むハロゲン化チタン水溶液を60〜95℃の範囲の温度に加熱し、上記ハロゲン化チタン水溶液のpHが1.0以下にあるように上記ハロゲン化チタン水溶液にアルカリ性物質を加えながら、上記ハロゲン化チタンを熱加水分解すると共に、上記ハロゲン化チタンの熱加水分解によって生成するハロゲン化水素を上記アルカリ性物質で中和して、沈殿物を生成させ、この後、得られた反応混合物に更に上記アルカリ性物質を加えて、その反応混合物のpHを3〜7の範囲とし、次いで、上記沈殿物を濾過し、水洗し、乾燥することによって、高比表面積のシリカ含有含水酸化チタンを得る。これを焼成すれば、高比表面積のアナターゼ型酸化チタンを得る。 (もっと読む)


1 - 20 / 213