Fターム[4J100BA22]の内容
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パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物及び該重合性化合物の重合物を含有する重合膜
【課題】機械的強度、配向性等の特性に優れ、かつ重合後の透明性に優れる重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物であって、かかる重合性組成物を硬化して得られる重合膜を薄膜化しても、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる重合性組成物、及び該重合性組成物を重合して得られる重合物を含有する重合膜を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物及び該重合性組成物を重合して得られる重合物を含有する重合膜。
(式中、環A1、A2、A3及びA4は、それぞれ独立に、ベンゼン環、シクロヘキサン環又はナフタレン環を表し、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。m及びnはそれぞれ独立に0か1である。)
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樹脂及びレジスト組成物
【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが広いレジスト組成物に用いられる樹脂を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位を含む樹脂。
[T1は、環骨格中に−O−SO2−を有する炭素数3〜34の脂環式炭化水素基を表し、置換基を有してもよい。X1は、酸素原子又は−N(Rc)−;Rcは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基;Z1は、−X2−又は−X3−X4−CO−X5−;X2、X3及びX5は、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルカンジイル基;X4は、酸素原子又は−N(Rd)−;Rdは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基;R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。]
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ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【解決手段】(A)酸不安定基を含む繰り返し単位(a1)と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも1つを含む繰り返し単位(a2)と、オキシラン環を有する繰り返し単位(a3)を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、良好なライン幅ラフネス(LWR)とマスク忠実性(MEF)を有し、微細パターンにおいても矩形性が高く、パターン倒れ耐性に優れたレジスト組成物を提供することができる。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。
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パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びにこれらを用いた電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス
【課題】高感度で、現像後のパターン倒れの発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスの提供。
【解決手段】(A)下記一般式(A0)で表される部分構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程(4)を有するパターン形成方法。
上記一般式中、Arは樹脂(A)の主鎖と直接又は間接的に結合する芳香環基を表し、Raは水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。
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ラジカル重合性化合物及びラジカル硬化性組成物
【課題】多価アリルエステル化合物を硬化して得られる硬化物の高い透明性と耐熱性を維持しながら、柔軟性とハンドリング性を両立させたラジカル組成物の提供。
【解決手段】一般式(1)及び式(2)で示される末端基、並びに一般式(3)で示される構造を有し、数平均分子量が500〜50000であることを特徴とするラジカル重合性化合物(多価アリルエステル化合物)を含有するラジカル硬化性組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたCD均一性(CDU)で、欠陥数の少ないレジストパターンの製造。
【解決手段】式(aa)、(ab)の構造単位を有する樹脂(X)、酸発生剤(B)を含有する組成物。
[式中、Aaa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基;Raa2は、脂肪族炭化水素基;Rab2は芳香族炭化水素基を表す。]
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樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れらマスクエラーファクターのレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位(aa)と、式(ab)で表される構造単位(ab)とを有する樹脂及びこれを用いたレジスト組成物。
[式中、Raa2は、水素原子又はフッ化アルキル基;Raa3はフッ化アルキル基;Raa4は、酸により、酸素原子との間の結合〔O−Raa4〕が切断される1価の基
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の1つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された(メタ)アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
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重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−SO2−含有環式基を含む構成単位(a0)を有する重合体;該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含む、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位とスルホニウム塩の繰り返し単位を含有する高分子化合物と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によるフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高くエッチング耐性が高い特徴を有する。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なフォトレジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】分岐状アルキレン基もしくは脂環式基上のヒドロキシ基が酸不安定基で置換された側鎖を有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】上記パターン形成方法で得られるレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴を有する。
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低収縮且つ低応力の歯科用組成物
【課題】主に歯科用複合材に使用して、低硬化収縮及び低硬化応力をもたらし得る組成物およびその製造方法の提供。
【解決手段】重合性基として、少なくとも1つの(メタ)アクリレートを有する重合性環状オリゴマーを含む組成物の製造方法において、該製造方法は、(A)該少なくとも1つの(メタ)アクリレートを含む、反応性で且つフリーラジカル重合性の前駆体と;第一級ジオール、第二級アミン又は二価酸を含むカップリング剤とまたは(B)活性化カップリング剤と;反応性で且つフリーラジカル重合性の前駆体との縮合反応を介して、該重合性環状オリゴマーを製造することを含むことを特徴とする製造方法。
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10−(置換カルボニルオキシ)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物、その製造法及びその重合物
【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】10−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタのアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる10−(置換カルボニルオキシ)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物の製造法及び、該(メタ)アクリレート化合物並びに該(メタ)アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたマスクエラーファクター(MEF)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。
[式中、R1は水素原子又はメチル基;nは1〜3の整数;A1は式(a−g1)で表される基;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、s=0の時、A11は単結合ではない;X10は、酸素原子を含む基を表す。]
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重合性組成物
【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物(A)並びに(メタ)アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物(B)を含有する重合性組成物。下記式中、R1及びR2は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環A1〜A3は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、X、Y及びZは、各々独立にC1〜8アルキル基等を表し、L1〜L4は、各々独立に単結合、−COO−、−OCO等を表し、a、b及びcはそれぞれ環A1〜A3における置換基の数であって、環A1〜A3に含まれる6員環の数をvとすると、a、b及びcは各々独立に2v+2以下の整数を表す。
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パターン位相差フィルム用液晶組成物、パターン位相差フィルム及び立体表示装置
【課題】表面の凹凸が小さいパターン位相差フィルムを製造できるパターン位相差フィルム用液晶組成物を提供する。
【解決手段】パターン位相差フィルム用液晶組成物に、(A)重合性液晶モノマー70重量部以上99重量部以下と、(B)重合性非液晶モノマー1重量部以上30重量部以下と、(C)光重合開始剤0.1重量部以上10重量部以下と、(D)フッ素を含む界面活性剤0.01重量部以上1重量部以下とを含有させる。
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(メタ)アクリル酸エステルおよびその重合体
【課題】本発明の目的は、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得る製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の一は、所定の式(1)または(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル(a)である。また、本発明の一は、前記(メタ)アクリル酸エステル(a)を含む単量体成分を重合して得られる重合体である。また、本発明の一は、前記重合体にエネルギーを与え、所定の式(3)で表される単量体(a’)構造単位を含む重合体を得る製造方法である。該製造方法により、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得ることができる。
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重合性組成物
【課題】硬化性に優れる重合性組成物並びに透明性及び耐熱性に優れる硬化物を提供すること。
【解決手段】光重合開始剤としてアシルホスフィン系光重合開始剤、好ましくは、モノアシルホスフィンオキサイド系化合物又はビスアシルホスフィン系化合物を、一般式(I)で表される重合性液晶化合物、好ましくは、一般式(II)で表わされる化合物に含有させた重合性組成物或いはこれを重合させて得られる硬化物を用いる。必要に応じ、上記重合性組成物に、光学活性化合物、好ましくは、一般式(III)又は(IV)で表わされる化合物を含有させる。一般式(I)、(II)、(III)及び(IV)の具体的内容は明細書に記載の通りである。
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