【課題】金属イオン不純物濃度が低く、半導体リソグラフィーに好適に用いることができる、半導体リソグラフィー用重合体または重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体リソグラフィー用重合体、または該重合体を含む重合体溶液の製造方法において、原料または生成物と接触する容器として、該容器に対して１０体積％のメタノールで還流した時に、該還流後のメタノール中の各金属イオン不純物濃度が１０ｐｐｂ以下である容器を用いる工程を有する、半導体リソグラフィー用重合体または該重合体を含む重合体溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ５−０）で表される構成単位（ａ５）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 酸化ジルコニウム粒子及び有機ケイ素化合物を多量に配合しても低粘度であり、黄変を抑制することができ、透明性、耐熱性に優れた高屈折率の樹脂を形成する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
平均粒子径が１〜３０ｎｍである酸化ジルコニウム粒子と、下記式（１）で示される化合物からなる分散剤と、有機ケイ素化合物と、重合性不飽和基を有する化合物とを含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物である。
ただし、式（１）のＲは、分岐鎖を有し炭素数が３ないし２４のアルキル基および／又はアルケニル基であり、ＡＯは炭素数が１ないし４のオキシアルキレン基であり、ｎはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す３〜３０の範囲の数値であり、Ｘは炭素原子、水素原子及び／又は酸素原子からなる連結基である。
【化１】
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【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン位相差フィルムの形成に用いることで、配向方向をより厳密に制御し、また、帯電による外観不良を改善する重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物は、酸素原子以外の孤立電子対を有する原子を有さない孤立電子対非含有化合物のみで構成されている１種又は２種以上の重合性液晶化合物を含有する。重合性液晶化合物は、分子中にシアノ基又はハロゲン基を有さないこと、分子末端にシアノ基又はハロゲン基を有さないこと、フェニル基のパラ位をシアノ基又はハロゲン基で置換したｐ−置換フェニル基を分子末端に有さないことが好適である。また、重合性液晶組成物はパターン位相差フィルムに用いられ、パターン位相差フィルムは、基材上に、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含むパターン配向層が形成され、このパターン配向層上に上記重合性液晶組成物を含む位相差層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】機械的強度、配向性等の特性に優れ、かつ重合後の透明性に優れる重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物であって、かかる重合性組成物を硬化して得られる重合膜を薄膜化しても、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる重合性組成物、及び該重合性組成物を重合して得られる重合物を含有する重合膜を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性化合物、該重合性化合物を含有する重合性組成物及び該重合性組成物を重合して得られる重合物を含有する重合膜。


（式中、環Ａ₁、Ａ₂、Ａ₃及びＡ₄は、それぞれ独立に、ベンゼン環、シクロヘキサン環又はナフタレン環を表し、Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。ｍ及びｎはそれぞれ独立に０か１である。） （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料２が提供される。このような被膜形成材料２を基板１上に形成し、モールド３を押し当て、モールド３の反転パターン３ｂを転写した被膜２ａを形成し、モールド３を被膜２ａから引き離す（離型）。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料２を用いることで、離型の際、モールド３への被膜２ａの付着が抑制される。 （もっと読む）

【課題】耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性が良好な光記録媒体の光透過層に使用する硬化性組成物、光記録媒体を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含み、ラジカル重合性化合物として１分子あたり７〜２２個のプロピレンオキシドにより変性された多官能（メタ）アクリレート化合物をラジカル重合性化合物の全量に対して２０〜１００質量％含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物層からなる光透過層を形成させることにより、耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性に優れる光記録媒体が得られる。 （もっと読む）

【課題】光学等方性、機械的強度及び高温下における寸法安定性に優れる光学フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル類から選ばれる第一の単量体から形成される第一の構造単位５０〜９５質量％、特定のＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第二の単量体から形成される第二の構造単位０．１〜２０質量％及び第二の単量体とは異なる、特定のＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第三の単量体から形成される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％を有するアクリル系熱可塑性樹脂を主成分として含み、１２０℃で３０分間加熱した時の熱収縮率の絶対値が、ＭＤ方向及びＴＤ方向のいずれも１．５％以下であり、耐折回数が、ＭＤ方向及びＴＤ方向のいずれも５回以上であり、面内方向の位相差の絶対値が２０ｎｍ以下であり、厚さ方向の位相差の絶対値が２０ｎｍ以下である光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】厚膜においても微細パターンの形成が可能であり、優れた可視光透過率を有し、かつ、高温で長時間の熱履歴においても樹脂着色が少ない優れた耐熱性を有する感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いた電子部品を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及びヒンダードフェノール系構造を有する化合物（Ｃ）を含む感光性樹脂組成物であって、（Ａ）成分が、（メタ）アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）