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Fターム[4K029BB00]の内容

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Fターム[4K029BB00]に分類される特許

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【課題】本発明の課題は、反射防止効果に優れ、且つ膜強度、耐環境信頼性に優れた反射防止膜を提供することである。
【解決手段】複数の層からなる反射防止膜であって、該複数層のうち少なくとも一層が、複数の微細な管状空間を有する構造体からなる光学薄膜であって、前記光学薄膜が有する全ての管状空間が基板の接平面垂直方向において平行に配列されていることを特徴とする構成とした。 (もっと読む)


【課題】指向性よくスパッタリング粒子が基板上に到達して成膜ができるスパッタリング装置および液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板Wを保持し搬送可能な基板ホルダー6を有する成膜室2と、成膜室2に連通し第1ターゲット5aと第2ターゲット5bとが平行に対向して配置された一対のターゲットを有するスパッタリング粒子放出部3と、基板ホルダー6とスパッタリング粒子放出部3との間に配置された制御板31a〜31eを有する制御板ユニット30と、を備え、スパッタリング粒子放出部3の一対のターゲットが基板ホルダー6の搬送経路に対して斜めに傾いた状態で配置され、一対のターゲットからプラズマによりスパッタリング粒子5Pを生じさせて、搬送される基板ホルダー6に向けてスパッタリング粒子5Pを放出させ、制御板31a〜31eは一対のターゲットと平行に配置され、スパッタリング粒子5Pを選択的に通過させる。 (もっと読む)


【課題】反応性スパッタリングを行う際に、酸素ラジカル濃度分布の均一性を高め、磁性層中に取り込まれる酸素濃度を面方向において一様とし、磁気特性、記録再生特性が安定した磁性層の形成方法を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリングにより形成する磁性層の形成方法であって、反応容器内に、基板を配置するとともに、スパッタ電極と、該スパッタ電極の表面に配設された酸化物以外のクロムを含むターゲットとからなる電極ユニットを、一対、それぞれ前記ターゲットを前記基板側にして、前記基板の両面と対向するように配置し、アルゴン及び水を含む混合ガスを、前記一対の電極ユニットの各前記基板側の表面付近に供給し、前記ターゲットに含まれる酸化物以外のクロムを、反応性スパッタリングにより、グラニュラ構造を有する磁性層に含まれる酸化クロムとして形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 固体ポリマー電解質またはその他のイオン導電性ポリマー表面上に金属、金属酸化物または金属合金を被覆するための新規方法を提供することである。
【解決手段】 薄い金属または金属酸化物のフィルムを備えたイオン導電性の膜を製造するための方法であって、減圧下、イオン導電性膜を低エネルギーの電子ビームに賦して、その膜表面を清浄とし、この清浄とした膜を、減圧下、析出されるその金属のイオンを含有する高エネルギービームに賦して、金属フィルムを形成することを含む方法。この方法によって得られる金属化された膜構造物およびそれを内蔵する燃料電池も、また、本発明の範囲に含まれる。 (もっと読む)


【課題】主として、Si-O結合から成る低誘電率多孔質膜を気相法で形成する方法を与える。
【解決手段】被処理体上に多孔質膜を形成する方法は、気相中で有機化合物を重合させることで、有機化合物から成る微粒子を合成する工程と、該微粒子と、Si-O結合を有するシリコン系化合物とを反応させ、被処理体上に該微粒子を含む膜を形成する工程と、膜から該微粒子を除去する工程と、から成る。微粒子を合成する工程は、プラズマを用いて有機化合物を重合反応させる工程から成る。 (もっと読む)


【課題】 大型のセラミックス部材を迅速且つ経済的に提供することは困難な状況になっている。
【解決手段】 比較的製作し易い材料によって形成された基材上に、セラミックス膜を製膜することによって多層構造体を構成する。セラミックス膜はプラズマ溶射、CVD、PVD或いは、ゾル・ゲル法等または溶射膜との組み合わせによる方法によって成膜される。 (もっと読む)


【課題】書き込み性能と熱揺らぎ耐性とを両立させることが可能な磁気記録媒体及び磁気記録装置を提供すること。
【解決手段】基材1と、基材1の上に形成された下地層12と、下地層12の上に形成され、異方性磁界がHk1で磁化曲線の反転部の傾きがα1である垂直磁気異方性を有する主記録層7と、主記録層7の上又は下に該主記録層7に接して形成され、異方性磁界がHk2で磁化曲線の反転部の傾きがα2である書き込み補助層8とを有し、異方性磁界Hk1、Hk2と傾きα1、α2とが、それぞれHk2<Hk1及びα2>α1を満たすことを特徴とする磁気記録媒体11による。 (もっと読む)


【課題】有機高分子を有する基板にITO透明導電膜を成膜する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバーに設置された圧力勾配型プラズマガンを使用するイオンプレーティング装置によるITO透明導電膜の成膜方法において、成膜前の基板の温度を80〜145℃とし、ITO蒸発原料から基板に、単位時間単位面積あたり入射する輻射熱を、1.5〜10J/cm・minの範囲にして、ITO透明導電膜を成膜する。真空チャンバー内の圧力を0.05〜0.3Paとする。ITO透明導電膜が酸化インジウムにスズを酸化物換算で5〜10wt%添加したものであり、比抵抗が1.2×10―4〜3.0×10―4Ω・cmの範囲にある。 (もっと読む)


【課題】波長純度の高い紫外光を得ることのできるEL素子及びレーザ発光素子を提供する。
【解決手段】ポリシラン又はオリゴシラン等、Si,Ge,Sn,Pbから選ばれた同種又は異種の元素が直接連結したポリマー又はオリゴマーからなる薄膜を発光層13として透明電極12と上部電極14の間に配置してEL素子10を構成する。発光層としてポリ−ジ−n−ヘキシルポリシリレン(PDHS)を用いた場合、両電極12,14間に直流電圧を印加することで約370nmに鋭いピークを有するELスペクトルが得られる。 (もっと読む)


【課題】 膜厚傾斜量や基板形状が異なる複数種類の膜厚傾斜膜を効率的に製造するための製造方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダと蒸発源の中間位置に、独立して作用する二種類以上の膜厚調整機構を有し、少なくても一種類が基板ホルダ内の膜厚分布を均一化する機能を、更に他の膜厚補正機構が各被成膜基板に所定の膜厚傾斜を与える機能を有する構造にするとともに、各被成膜基板に所定の膜厚傾斜量を与える機能を有する膜厚補正機構が、基板ホルダと同一形状を有する傾斜量調整マスクホルダと、それにセットして使用される傾斜量調整マスク板により構成される事を特徴とする成膜装置を使用して膜厚傾斜膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】高面圧下あるいは無潤滑環境下でも耐久する摺動表面を有する耐摩耗摺動用被膜及び耐摩耗摺動用被膜形成部材を提供。
【解決手段】物理蒸着法で基材または基材と被膜から放出されるガスを利用して基材表面に直径が50μm以下の被膜表面に通じる微細気孔を、0.1 〜20%の面積率で有する被膜を形成することで、潤滑油剤の保持力が高く、高い耐摩耗性と耐焼き付き性を持つ耐摩耗摺動用被膜を得た。又、微細気孔を有する耐摩耗摺動用被膜の気孔内に潤滑剤を浸入させることで、無潤滑環境下でも高い耐久性を持つ耐摩耗摺動用被膜形成部材を得た。 (もっと読む)


本発明は、
−ケイ素イオンまたはゲルマニウムイオンのビームを使用して、基材を照射することによる核生成サイト(4)の形成と、
−形成された核生成サイト上でのナノストラクチャー(8)の成長
とを含むナノストラクチャーの形成方法に関する。
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