Fターム[5C135HH11]の内容
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ワイヤー形態の金属シリサイドを備えるSiベースの物質層及びその製造方法
【課題】ワイヤー形態の金属シリサイドを備えるSiベースの物質層及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のグレインを備え、グレイン境界に金属シリサイドが形成されたSiベースの物質層である。また、Siベースの基板に所定厚さの非晶質層を形成する工程と、非晶質層に所定の金属イオンをドーピングする工程と、金属イオンがドーピングされた非晶質層をアニーリングする工程とを含むSiベースの物質層の製造方法である。
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