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Fターム[5F031CA05]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | 矩形基板 (3,196) | ガラス基板、液晶基板 (2,994)

Fターム[5F031CA05]に分類される特許

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【課題】 搬送ワークの搬送中に生じるヨーイングを搬送しながら補正できるヨーイング補正機構を提供すること。
【解決手段】 搬送ワーク5の側部を保持する保持装置3と、レール6に沿って保持装置3をワーク送り方向Xに搬送する走行装置2と、保持装置3を走行装置2のワーク送り方向前部及び後部で支持する支持機構31,32とを備え、支持機構31,32は、走行装置2に設けた駆動軸の軸線O1 ,O2 に対して所定の偏心量eで前部又は後部の一方がワーク送り方向Xに偏心した位置で、他方がワーク送り方向Xと交差する方向に偏心した位置で保持装置3と係合する軸線O3 を具備した偏心軸38を有し、搬送ワーク5のヨーイングを、偏心軸38の軸線O3 を駆動軸36,37の軸線O1 ,O2 を中心に回動させることで保持装置3と走行装置2との位置を相対移動させて補正する。 (もっと読む)


【課題】イオンビーム照射装置において、安価かつ簡単な構成で、広範囲に渡って基板割れの検出を行う。
【解決手段】基板8の裏面と対向する面に1つ以上の開口部を有する基板支持部材9と、基板8を搭載した基板支持部材9を駆動させて、イオンビーム3の少なくとも一部が基板8上に照射される照射領域とイオンビーム3が基板8上に照射されない非照射領域に基板8を搬送する基板駆動機構と、基板8の下流側でイオンビーム3が照射される位置に配置されたビーム電流計測器11を備えたイオンビーム照射装置1で、照射領域内に基板8が搬送されているときに、ビーム電流計測器11によって計測されたビーム電流の計測値に基づいて、基板割れの有無を検出する。 (もっと読む)


【課題】処理装置側の処理速度が速くなった場合でも対応することが出来、また横行コンベア又はトラバーサーが故障してしまった場合であっても、上記ガラス基板の投入や回収を行うことが出来る高速マルチローダーを提供する。
【解決手段】ガラス基板を処理する処理装置にガラス基板を投入し、処理装置で処理されたガラス基板を回収するマルチローダーであって、ガラス基板を収納したカセットとガラス基板を回収するカセットをそれぞれ載置する部位を三個以上備えた載置部と、載置部から処理装置側に順に設けられた、ガラス基板の受け入れ受け渡しを行う上下二段からなる第一搬送手段と、第一搬送手段とガラス基板の受け入れ受け渡しを行う左右二列と上下二段からなる第二の搬送手段と、第二の搬送手段と処理装置との間でガラス基板の受け渡し受け入れを行う第三の搬送手段と、を備えたことを特徴とするガラス基板の高速マルチローダー。 (もっと読む)


【課題】プレートステージを駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計する。
【解決手段】 操作量に従って駆動されるプレートステージPSTの位置(第1制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置されたプレートテーブルPTBが示す共振モードに対して逆相の共振モードを示すキャリッジ30に、プレートステージPSTの位置(第2制御量)Xを計測する干渉計18Xが設置される。干渉計18X及び干渉計18Xを用いることにより、プレートステージPSTの駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】基板保持用枠体は、大型ガラス基板を載置し、複数枚を積層して搬送あるいは保管に用いられ、搬送時の衝撃や振動に対しての強度が求められると同時に発塵による基板への異物付着や傷による製品の品質不良の発生を防止することが求められる。2メートル角程度の大サイズ基板を安全に保管・輸送できる基板保持用枠体等を提供する。
【解決手段】少なくとも対向する2辺の金属枠部11のそれぞれの上面に、基板保持用枠体10を懸垂するための複数の開口部17を有する。 (もっと読む)


【課題】より確実にトレイからリフトアームを用いてガラス基板を離脱させることができる簡素な構成の基板移載装置を提供する。
【解決手段】基板移載装置1Aは、トレイ100上に載置されたガラス基板200をトレイ100から離脱させることによってガラス基板200を移載するものであって、トレイ100の周縁部を開放させた状態でトレイ100を支持する支持部20と、トレイ100の周縁部を下方に向けて撓み変形させることにより、トレイ100の周縁部とガラス基板200の周縁部との間に隙間を生じさせる押圧ピン14と、トレイ100の周縁部とガラス基板200の周縁部との間に生じた隙間に側方から挿入されることにより、ガラス基板200の周縁部を下方から支持してガラス基板200をトレイ100から離脱させるリフトアーム13とを備える。 (もっと読む)


【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 (もっと読む)


【課題】組み立て時の調整時間を短縮できる基板搬送装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】駆動部と、基板に当接することで搬送力を付与する搬送用コロを有する第1シャフトと、駆動部による駆動力を第1シャフトに伝達する第2シャフトと、第1シャフトを着脱可能に支持する支持部材と、第2シャフトに対して第1シャフトを着脱可能に連結する連結部材と、を備えた基板搬送装置に関する。連結部材は、第1シャフト及び第2シャフトにおける径方向に対する位置ズレを許容可能に構成される。 (もっと読む)


【課題】気体を効率的に置換してその作業の迅速化や効率化を図ることができ、容器本体からの蓋体の取り外しを容易にして基板を円滑に加工等できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ収納用の容器本体1と、容器本体1の開口した正面7に嵌合される蓋体20と、容器本体1と蓋体20の間に介在される変形可能なシールガスケット30とを備え、容器本体1の正面内周にシールガスケット30用のシール形成面8を形成し、蓋体20の裏面周縁部にシールガスケット30用の取付溝25を形成する。また、シールガスケット30を、取付溝25に嵌入される基体31と、基体31から突出する延出片33と、延出片33の先端部から伸びてシール形成面8に圧接する第一のシール片35と、延出片33から突出する第二のシール片37とから形成し、第二のシール片37を延出片33に直交させてシール形成面8に隣接する隣接面9に接触させる。 (もっと読む)


【課題】板材の受け渡しの際に、板材が滑ることのない板材の搬送システムを提供する。
【解決手段】第1送出装置10から第2送出装置11へ板材101が受け渡される前においては、第1送出装置10は搬送部20と加圧部40の流体104とによって板材101を挟むように保持しながら搬送するとともに、第2送出装置11の搬送部20は板材101と接触しないようにし、第1送出装置10から第2送出装置11へ板材101が受け渡された後においては、第2送出装置11は搬送部20と加圧部40の流体104とによって板材101を挟むように保持しながら搬送するとともに、第1送出装置10の搬送部20は板材101と接触しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 基板保持部の高さ調整に伴う残留応力の低減に有利なステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、基盤と、基板を保持する基板保持部と、前記基盤上に設置され前記基板保持部の位置を変更可能に前記基板保持部を支持する少なくとも1つの支持部とを備える。前記少なくとも1つの支持部のそれぞれは、1つの第1調整部と複数の第2調整部と制御部とを含む。第1調整部は、前記基盤上に固定された一端部と前記基板保持部に固定された他端部とを有し、該他端部の位置を調整可能である。第2調整部と、前記基盤上に固定された一端部と、前記基板保持部と結合している第1状態と前記基板保持部と結合していない第2状態とに切り替え可能な他端部とを有し、該他端部の位置を個別に調整可能である。制御部は、前記複数の第2調整部及び前記第1調整部の少なくとも1つの他端部の位置を調整する間、前記複数の第2調整部の他端部のすべての結合状態が前記第2状態となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Wの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット2と、ガラス基板Wの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ37を備え、エア浮上ユニット2は、ガラス基板Wの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔24aを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板24を具備し、搬送ローラ37をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット2のワーク非接触支持板24から上方に突出する周縁部をガラス基板Wの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 (もっと読む)


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