説明

Fターム[5F031GA00]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送装置、手段 (13,292)

Fターム[5F031GA00]の下位に属するFターム

Fターム[5F031GA00]に分類される特許

1 - 6 / 6


【課題】簡易な構成で静電チャックの吸着面に対するウェハの載置状態を判定する。
【解決手段】試料に対して一次荷電粒子線を照射する機能を備えた荷電粒子線装置において、試料を吸着させる静電チャックに、斜孔或いは切り欠きを設ける。また、当該斜孔或いは切り欠きを斜光した光軸が通過するように一対の投光器および受光器を配置する。さらに、受光器の出力信号を用いて静電チャックに対する試料の載置状態を判定する制御部を設ける。制御部は、試料が昇降部により下降し、光軸を試料が遮光した時の受光器の出力信号を用いて、試料の載置状態を判定する。 (もっと読む)


【課題】貫通穴内にリフトピンが設けられたサセプタが配置された基板処理室内を腐食性物質でクリーニングしても、リフトピンとリフトピン挿通用穴部との間の摺動抵抗が著しく増大するという事態が発生しない基板処理装置、該基板処理装置の基板処理室のクリーニング方法、および当該基板処理装置を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置400および基板処理室410のクリーニング方法では、基板10sが無い状態でリフトピン440を下降させ、リフトピン挿通用穴部433をリフトピン440の頭部443によって塞いだ状態で、基板処理室410の内部にフッ素ラジカルを発生させる。この状態で、リフトピン挿通用穴部433のピン受け部435と頭部443とが全周で接する。ピン受け部435は平坦面になっているのに対して、頭部443の下面444には凹部446(環状凹部446a)が形成されている。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィマシンのワークピース208の交換中に、投影レンズ16に隣接するギャップに液浸流体212を維持するための装置及び方法が開示される。
【解決手段】装置及び方法は、ワークピース208上に像を投影するために構成された光学アセンブリ16と、光学アセンブリ16に隣接するワークピース208を支持するために構成されたワークピーステーブル204を含むステージアセンブリ202を備える。環境システム26が設けられて、光学アセンブリ16とステージアセンブリ202上のワークピース208の間のギャップに液浸流体212を供給し除去する。ワークピース208の露光が完了した後、交換システム216がワークピース208を取り出し、第2ワークピースに置き換える。液浸流体維持システム214が設けられて、第1ワークピース208を取り出し、第2ワークピースに置き換える間、ギャップに液浸流体212を維持する。 (もっと読む)


【課題】コロナ放電を用いたイオナイザの電極針先端部に堆積した不純物がウェーハの表面に落下することを防ぐ。
【解決手段】プリアライナ1の上方を覆うカバー13と、カバー13の外周部又は外周部の下方に設置されたイオン供給部14とを含み、イオン供給部14のイオン供給口15がカバー13とプリアライナ1との間の空間部に向けられているウェーハ除電装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】プロキシミティ露光装置において、基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。
【解決手段】ステージの温度を検出し、運転開始時又は運転中に、マスクホルダ20にマスク2が保持され、かつチャック10に基板1が搭載されていない状態で、検出したステージの温度が下限値未満であるとき、リニアモータによりステージを駆動して、リニアモータの熱でステージの温度を下限値より高い基準値以上に上げる第1の慣らし運転を行う。運転開始前又は運転中にステージの温度が下限値未満に下がっても、露光処理中のステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。 (もっと読む)


クラスターチャンバーとリニアソースとを組み合わせたシステムおよび方法が説明されている。複数のウェハがパレット上に搭載される。クラスターチャンバー内の中央ロボットは、クラスターチャンバーに接続されたチャンバーの間でパレットを移動する。クラスターチャンバーに接続された少なくとも1つのチャンバーは、リニアデポジションソースを有し、パレットはリニアデポジションソースに対して移動可能である。
(もっと読む)


1 - 6 / 6