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Fターム[5F031GA43]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送装置、手段 (13,292) | アーム部 (5,670) | 駆動機構 (1,726) | リンク機構 (995)

Fターム[5F031GA43]に分類される特許

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【課題】被処理基板と支持基板を適切に接合する。
【解決手段】接合装置の接合部113は、被処理ウェハWを保持する第1の保持部200と、第1の保持部200に対向配置され、支持ウェハSを保持する第2の保持部201と、第2の保持部201に保持された支持ウェハSを覆うように設けられた鉛直方向に伸縮自在の圧力容器271を備え、当該圧力容器271内に気体を流入出させることで第2の保持部201を第1の保持部200側に押圧する加圧機構270と、第1の保持部200、第2の保持部201及び圧力容器271を内部に収容し、内部を密閉可能な処理容器290と、処理容器290内の雰囲気を減圧する減圧機構300と、を有している。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ等の試料の処理の歩留まりの低下を抑制する。
【解決手段】ロック室の後方に相互に連結され減圧された内部を前記ウエハが搬送される真空搬送室の容器の並びと、前記真空搬送室の容器の間に配置され前記ウエハが内部に載せられて収納される中間室と、前記真空搬送室の容器の各々の左右方向のいずれかの側の側壁に連結され内部で前記ウエハが処理される処理容器を含む複数の処理ユニットと、これらの処理ユニットを連結するバイパス路を構成するバイパス室とを備え、前記複数の真空搬送室の容器は、前記ロック室から前記複数の処理ユニットのいずれかに向けて搬送される前記ウエハまたは前記複数の処理ユニットの何れかで処理された後に前記バイパス室を通り別の処理ユニットで処理されて前記ロック室へ向けて搬送される前記ウエハのいずれかのみが搬送される。 (もっと読む)


【課題】搬送アームのベース上方に設けた撮像装置だけで,搬送アームのピック上の基板を検出する。
【解決手段】搬送アーム210と共に旋回自在に支持され,ピック側に配置されるピック側ミラー310を備えたピック側ユニット304とベース側に配置されるベース側ミラー312を備えたベース側ユニット306とを少なくとも有し,ピック側ミラーはピックに保持されたウエハWの周縁を含む画像をベース側に向けて反射するように配置し,ベース側ミラーはピック側ミラーからの画像をベースの上側に向けて反射するように配置したミラーユニットと,ベース側ミラーからの画像が撮像領域に含まれるようにベースの上方に設けられた撮像装置130とを設け,撮像装置で取り込んだ当該画像に基づいて基板状態を検出する。 (もっと読む)


【課題】温度の高い比較的大型の搬送対象物を搬送する場合であっても、熱の影響による軸受の摩耗や損傷を抑制すること、熱の影響によるアームの変形を抑制すること、および、ハンドの重量を軽減することが可能な産業用ロボットを提供する。
【解決手段】この産業用ロボットは、搬送対象物が搭載される搭載部27を有するハンド3と、その先端側でハンド3を保持するアームと、アームの基端側を保持する本体部と、搭載部27の少なくとも上面を覆うカバー部材30とを備えている。カバー部材30における輻射熱の反射率は、搭載部27における輻射熱の反射率よりも高く、カバー部材30の熱伝導率は、搭載部27の熱伝導率よりも低く、搭載部27の比重は、カバー部材30の比重よりも小さくなっている。 (もっと読む)


【課題】搬送機構及び反転機構が各々独立したチャンバーに設けられているため、チャンバーの数が複数必要となり、設置面積が大きくなる。
【解決手段】、基板搬送装置1は、基板90を搬送方向へ移動させる搬送機構2と、基板90の上下を反転させる反転機構3と、を具備し、搬送機構2は、基板90を搬送方向へ摺動させる搬送アーム14を備え、反転機構3は、基板90を反転させる際に上方向から抑える上部チャック34と、基板90を反転させる際に下方向から支持する下部チャック35と、上部チャック34及び下部チャック35を上下方向に回動可能に軸支する回動軸32とを備え、搬送機構2及び反転機構3は一つの支持台5に固定支持される。搬送機構2及び反転機構3が同一チャンバー内に設けられることにより必要なチャンバーの数を少なくし、配置するための面積を小さくすることができる。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット100と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査する検査ユニット101と、各ユニット100、101の間で基板を搬送するアームを備えたウェハ搬送機構120、130と、ウェハ搬送機構120、130の動作を制御するウェハ搬送制御部を有している。ウェハ搬送制御部は、検査の結果、ウェハの状態が洗浄ユニット100での再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該ウェハを洗浄ユニット100に再度搬送するように、ウェハ搬送機構120、130を制御する。 (もっと読む)


【課題】複数台の搬送ロボットを備えた線形ツールにおいて、スループットを低下させない搬送効率の高い搬送制御を提供する。
【解決手段】真空処理装置の制御部を、処理室、搬送機構部、中間室、保持機構部のそれぞれにおける動作状態、並びに被処理体の有無およびその処理状態を表わす装置状態情報を実時間に更新して保持し、装置状態情報と、被処理体の処理時間とに基づいて、予め処理室の数・配置と被処理体の処理時間との組合せの条件毎に被処理体の搬送を制御する複数の搬送アルゴリズムをシミュレーションして得られた搬送アルゴリズム判定ルールの中から搬送アルゴリズムを選択し、および選択された前記搬送アルゴリズムに基づいて、前記被処理体の搬送先を算出するように構成した。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板搬送の負荷を低減させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄するウェハ洗浄部141と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査するウェハ検査部142と、ウェハ洗浄部141とウェハ検査部142との間でウェハWを搬送する搬送手段143を有している。ウェハ洗浄部141、ウェハ検査部142及び搬送手段143は、筐体140の内部に設けられている。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備え、処理ユニットの構成を変更することなくフットプリントを小さくする、基板処理システムを提供する。
【解決手段】処理ステーションと、インターフェイスステーション5と、を備えた塗布現像処理システムにおいて、インターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前にウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット100と、洗浄後のウェハが露光可能な状態かどうかを検査する検査ユニット101と、洗浄ユニット100と検査ユニット101との間でウェハを搬送するアームを備えたウェハ搬送機構120を有している。洗浄ユニット100と検査ユニット101は、インターフェイスステーション5の正面側に、上下方向に多段に設けられ、ウェハ搬送機構120は、洗浄ユニット100及び検査ユニット101に隣接した領域に設けられている。 (もっと読む)


【課題】ウエーハ等の板状物を収容したカセットを上下に2段以上重ねた状態で板状物の搬出および搬入を行うことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】板状物を保持する保持手段と保持手段を支持するアーム機構とアーム機構を駆動するための駆動機構を備えた保持ユニットと、保持ユニットを上下方向に移動可能に支持する支持機構とを具備する搬送装置であって、支持機構は、保持ユニットが装着される第1の移動基板と、第1の移動基板を上下方向に移動可能に支持する第1の案内レールを備えた第1の基台と、第1の移動基板を第1の案内レールに沿って移動せしめる第1の移動手段とを備えた第1の支持機構と、第1の基台が装着される第2の移動基板と、第2の移動基板を上下方向に移動可能に支持する第2の案内レールを備えた第2の基台と、第2の移動基板を第2の案内レールに沿って移動せしめる第2の移動手段とを備えた第2の支持機構とを具備している。 (もっと読む)


【課題】アーム型搬送装置とは別の場所に設置したアライナー等に逐一搬送対象物を搬送することなく、搬送対象物の中心位置を検出可能なアーム型搬送装置を提供する。
【解決手段】正円形搬送対象物Wを保持する第一のリンク21を回転軸C1を介して水平面内で回動可能となるようにベース部材たる第二のリンク22に取り付けたアーム機構2と、前記第二のリンク22に前記回転軸C1とともに取り付けられ、取り付け位置に応じて定まる検出位置Seに正円形搬送対象物Wのエッジが位置したことを検出するエッジ検出部3と、前記第二のリンク22に対する前記第一のリンク21の回転角度θを検出する回転角度検出部27と、正円形搬送対象物Wのエッジがエッジ検出部3を通過した際に回転角度検出部27で検出された対応する回転角度θに基づいて前記リンク21に対する正円形搬送対象物Wの中心位置を算出する中心位置算出部41とを具備して構成した。 (もっと読む)


【課題】複数の搬送機構を有する搬送ロボットにおいて、スループットを向上させるとともに、搬送ロボット及びこれを配置する真空装置の高さを低く抑える技術を提供する。
【解決手段】回転軸Oを中心として同心状に配置され水平面内でそれぞれ独立して回転可能に設けられた第1〜3の駆動軸11〜13と、第1の駆動軸11によって駆動されて伸縮する上側搬送機構1Aと、上側搬送機構1Aに対して下方に配置されるとともに、第2の駆動軸12によって駆動されて伸縮する左下側搬送機構2Lと、上側搬送機構1Aに対して下方で左下側搬送機構2Lと同じ高さ位置に配置されるとともに、第3の駆動軸13によって駆動されて伸縮する右下側搬送機構2Rとを備える。左下側搬送機構2Lと、右下側搬送機構2Rとが、第1〜第3の駆動軸11〜13を挟んで基板搬送方向Pの両側に配置されている。 (もっと読む)


【課題】基体を処理するための処理システムの基体搬送装置において、搬送チャンバ内でのケーブル引き回し処理を不要とする。
【解決手段】基体搬送装置は、チャンバ壁12、テーブル14、リニアモータ搬送機構16、光学窓18、及び、レーザ計測器を備える。チャンバ壁は、搬送空間Sを画成する。テーブルは、搬送空間内に収容されている。当該テーブル上には基体を載置可能である。リニアモータ搬送機構は、搬送空間内においてリニアモータによりテーブルを移動させる。光学窓は、搬送空間と当該搬送空間の外部空間との間に設けられている。例えば、光学窓は、チャンバ壁に画成された開口を封止するように設けられる。レーザ計測器は、光学窓を介してテーブルに向けてレーザ光を照射し、テーブルからの反射光を受けて、テーブルの位置を計測する。 (もっと読む)


【課題】複数の搬送機構を有する搬送ロボットにおいて、スループットを向上させるとともに、搬送ロボット及びこれを配置する真空装置の高さを低く抑える技術を提供する。
【解決手段】第1及び第2の駆動軸11、12に固定された第1及び第2の上側駆動アーム21、22によって構成される上側搬送機構1Aと、第2及び第3の駆動軸12、13に固定された第1及び第2の下側駆動アーム51、52によって構成される下側搬送機構1Bとを有する。第1〜3の駆動軸11〜13は同心状に設けられている。上側搬送機構1Aは、第1の上側平行クランク機構4と第2の上側平行クランク機構5とによって構成される。下側搬送機構1Bは、第1の下側平行クランク機構6と第2の下側平行クランク機構7とによって構成される。 (もっと読む)


【課題】内部気圧の変動によるチャンバの変形によってもロボットハンドの位置変動がなく、かつ、比較的安価に実現可能な構造の基板搬送装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、搬入された基板を保持して所望の位置に搬送するための搬送ロボットを備えた基板搬送装置であって、前記搬送ロボットは、当該基板搬送装置を設置する床面に固定されると共に、その一部を、Oリングを介して、前記真空チャンバを構成する壁の一部に、当該真空チャンバ内を気密に保持可能で、かつ、相互に移動可能して、取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】回動駆動機構を設けることなく水平方向に対する移動体の移動量差に応じた回転角度で回転させて位置決めすることができ、装置自体を小型化及び軽量化する。
【解決手段】各電動モータを同期駆動してそれぞれの送りねじ9、11を所要の方向へ回転することにより各水平可動体17、19を一致する送り量で水平方向へ移動させ、水平方向に対する各水平可動体17,19の移動量の差に応じて一対のアーム37,41を平行揺動して取り付け部材35を回転して被位置決め手段を位置決めする。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ搬送室内に搬送可能なウェーハの数を効果的に増大させることができ、EFEMに用いた場合にはウェーハ搬送の処理能力を向上させることが可能な装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ搬送室B及びロードポートCとともにEFEMを構成し、載置テーブルを、ロードポートCがFOUP搬送装置との間でFOUPxを受け渡す位置と同一直線L上に設定したFOUP受渡位置と、ウェーハ搬送室Bの側面にFOUPxを密着させ得る位置に設定したウェーハ出入位置との間で移動させる移動機構を備えたサイド用ロードポート1を案出した。 (もっと読む)


【課題】アーム部の昇降範囲を大きくしつつ、最低限必要な高さ位置までアーム部を降下可能とした搬送ロボットおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】アーム部(12)を水平方向に回転自在に支持し、所定の基台設置フレーム(23)に設置される基台部(13)と、基台部(13)内に立設した縦軸に沿ってアーム部(12)を、基台部(13)の上方に規定されたアーム部昇降範囲(α)内で昇降させる昇降機構(7)とを備える。基台部(13)は、基台設置フレーム(23)に形成された基台収容凹部(25)内に、底壁(131)から所定高さ(h)に設定された基台固定用フランジ(8)までを埋没させた状態で固定されている。 (もっと読む)


【課題】搬送途上において基板を反転することを容易に可能とする。
【解決手段】基板処理装置は、基板の上方を向く主面を処理する処理部と、基板が載置される載置部近傍の前部移載位置501と処理部近傍の後部移載位置502との間にて基板を搬送する基板搬送部5とを有する。基板搬送部5では、基板を保持する基板保持部51の両側部に一対の円筒部55が設けられ、搬送方向におよそ沿って伸びる一対の外側レール部53が基板保持部51の両側に設けられる。昇降機構571,572は、搬送方向における一対の外側レール部53の両端部に高低差を設けることにより、前部移載位置501から後部移載位置502へと一対の円筒部55を転がして、基板を反転しつつ基板保持部51を搬送する。これにより、搬送途上において基板を反転することが容易に可能となり、基板処理装置におけるスループットを向上することができる。 (もっと読む)


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