【課題】各生産装置の稼働率が低下することを抑制することができると共にリードタイムの増加を抑制することができる搬送システムおよびその制御方法を提供する。
【解決手段】複数の生産装置それぞれに対する保管庫に収容されている合計カセット数を示す保管庫データを作成し、保管庫データに基づいて合計カセット数が閾値以上である場合には当該カセットを処理する生産装置を特定装置とする特定装置データを作成する。そして、特定装置データに基づいて搬送元移載箇所または搬送先移載箇所が特定装置である搬送指示の優先度を高いものに変更し、搬送元エリアに搬送指示が割付けられていない搬送台車がなく、選択した搬送指示の優先度が搬送指示変更部で高いものに変更され、かつ搬送元エリアに搬送指示が割付けられているがカセットを搭載せずに搬送元エリアを搬送している搬送台車がある場合、当該搬送台車に改めて選択した搬送指示を割付ける特別割付けを行う。 （もっと読む）

【課題】輸送時に基板搬送容器格納棚の分解を必要とせず、又再組立てを必要とせず、輸送コストを低減できると共に作業性の向上を図る基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板２１が収納される基板搬送容器９と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置１５と、該基板搬送容器搬送装置１５により搬送された複数の基板搬送容器９が格納される基板搬送容器格納棚１１とを具備し、該基板搬送容器格納棚１１を高さ方向に伸縮可能とした。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理されたウエハの異常原因を分析する。
【解決手段】クラスタ型のプラズマ処理システム１０に配置された２以上のプロセスモジュールの少なくともいずれかにおいてプラズマ処理されたウエハＷの異常原因分析方法であって、ウエハＷがフープ１１５ａ〜１１５ｃから搬出され、前記２以上のプロセスモジュールの少なくともいずれかに搬送された後、前記フープ１１５ａ〜１１５ｃに戻るまでの搬送経路の情報を前記ウエハＷ毎に該ウエハの識別情報に関連付けて記憶する記憶工程と、処理済のウエハＷの状態を検査する検査工程と、前記検査工程の結果、異常と判定されたウエハＷの前記記憶された搬送経路の情報と、正常と判定されたウエハＷの前記記憶された搬送経路の情報とを比較し、比較の結果に基づき異常原因の分析を行う異常分析工程と、を含む異常原因分析方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】デバイス製造の変種変量生産に柔軟に対応すること。
【解決手段】０．５インチサイズのウェハによる枚葉処理方式でのデバイス製造方法及び装置であって、可搬とされ、望ましくは規格化された外形を有し、製造プロセスの内の１つの処理プロセスを処理する密閉型の単位処理装置１を多数配置して製造ラインを形成し、当該デバイスの製造単位数が単位処理装置の数より多い場合には、当該デバイスの処理プロセスの順序に対応させて該単位処理装置をフローショップ方式により配置し、当該デバイスの製造単位数が単位処理装置の数と同等の場合には、該単位処理装置を工程の順序の大分類ごとにクラス分け配置したクラスショップ方式により配置し、さらに製造単位数が工程数を大きく下回る場合には、プロセス種１種類に１台程度の単位製造装置を１つのセル内に配置し、そのセルが複数で構成されるマルチセルショップ方式により配置する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルチェック作業を短縮する。
【解決手段】基板に処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室のそれぞれへ前記基板を保持部に保持して搬送する第一搬送装置を備えた第一搬送室と、前記基板を大気圧状態で搬送する第二搬送装置を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送装置とを連結する減圧可能な予備室と、前記第一搬送室と前記第二搬送装置および前記予備室に対して設けられた排気装置と、前記基板が複数収納された収納容器と前記複数の処理室との間の前記第一搬送装置および前記第二搬送装置の搬送を制御する制御手段と、を有する基板処理装置において、前記制御手段は、システムスタンバイ処理を実行する前に、前記システムスタンバイ処理で実行する項目を設定する処理選択画面を表示部に表示し、選択された前記項目のみをシステムスタンバイ処理として実行する。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上と処理品質の向上とを両立させることが可能となる連続拡散処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台５０と、直線状に延びる筒状の加熱炉１と、加熱炉１内に搬送台５０を順次搬入し、加熱炉１内を搬送した搬送台５０を順次搬出する搬送装置２と、加熱炉１内を通過する搬送台５０に載せた被処理物を加熱する加熱装置３と、加熱炉１内の搬入部１１から搬出部１２までの間を、搬送方向に複数のゾーンに区画している複数の隔壁部材７と、ゾーン毎に個別にガスを供給すると共に、当該ゾーン毎に個別にガスを排出するガス給排装置４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】プロセス条件測定装置と処理システムとを製造環境と高度に統合化する。
【解決手段】統合化において、プロセス条件測定装置の寸法は製造基板の寸法に近い寸法となり、処理システム８８０は製造基板用として使用する基板搬送装置と類似のものとなる。製造環境に対する障害をほとんど伴うことなくプロセス条件の測定が可能となる。人間の介在をほとんど或いは全く伴うことなくプロセス条件測定装置からユーザへデータ転送を行うことも可能となる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板処理動作中に流体を分配する装置。
【解決手段】当該装置は、複数の流体源に結合された複数の分配ノズルを備える中央流体分配バンクと、中央流体分配バンクの第１の側に位置された第１の処理チャンバとを含む。また、当該装置は、中央流体分配バンクの第２の側に位置された第２の処理チャンバと、中央流体分配バンクと第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間で並進するようになっている分配アームとを含む。さらに、当該装置は、第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間に位置された分配アームアクセスシャッタを含む。 （もっと読む）

【課題】アンロード処理の実行中にロード処理の開始要求がなされた場合であっても、ロード処理を速やかに開始させ、基板処理の品質を向上させる。
【解決手段】基板を処理する処理室に連通する真空搬送室に連通し雰囲気可変に構成された予備室と、複数の予備室に連通する大気搬送室と、大気搬送室に接続され複数枚の基板を収納する基板収納部を載置する収納容器載置部と、基板収納部と予備室内との間で基板を搬送する大気搬送部と、少なくとも大気搬送部による搬送動作を制御する制御部と、を備え、制御部は、予備室内から基板収納部への基板を搬出するアンロード処理の実行中に、基板収納部から予備室内への基板を搬入するロード処理の開始要求を受け付けたら、アンロード処理の実行を中断させ、ロード処理の実行を優先的に開始させるように大気搬送部を制御する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ側にバイアス用の高周波電力を安定的に投入することによりプラズマ処理の再現性を高く維持することができる載置台構造を提供する。
【解決手段】金属膜を形成する被処理体Ｗを載置し、隙間９４を隔ててグランド側に接続された保護カバー部材９２により囲まれた載置台構造において、被処理体を載置する電極としての載置台本体４８と、載置台本体の下方に配置されて絶縁状態で設けられたベース台５０と、ベース台を支持してグランド側に接続された支柱４６と、載置台本体に接続されてバイアス用の高周波電力を供給する高周波給電ライン７０と、高周波電力が印加されるホット側とグランド側との間に形成された電力安定用コンデンサ部１２０とを備え、電力安定用コンデンサ部の静電容量は、載置台本体と保護カバー部材との間で形成される浮遊容量の静電容量よりも大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】必要なキャリアの個数を抑えながらプロセス中のロットの滞留を防止し、プロセス効率を向上させることを目的とする。
【解決手段】キャリア１に収納された複数のウェーハ１０の内、任意のウェーハ１０を保持し、プロセス装置５２に移載できるキャリア掛け換えフィンガー３０を供えることにより、プロセス処理を行うウェーハ１０を選択的にプロセス装置５２に移載し、他のウェーハ１０はキャリア１に残したまま他の工程に移動することができるため、必要なキャリア１の個数を抑えながらプロセス中のロットの滞留を防止し、プロセス効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】タクトの短縮化をより確実に実現可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する複数の塗布部とを備える塗布装置であって、前記基板搬送部は、基板搬送方向の一方の端部に前記基板を搬入する基板搬入領域を有し、前記基板搬送方向の他方の端部に前記基板を搬出する基板搬出領域を有し、複数の前記塗布部は、少なくとも隣接する２つの塗布部間の距離が前記基板の前記基板搬送方向の寸法よりも大きくなるように前記基板搬入領域と前記基板搬出領域との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】設備機器側でのウエハマッピングを省くことが可能なウエハカセット、半導体製造システム、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】カセット本体２と、カセット本体２に設けられ、ウエハWが収まる複数のスロットSを画定する複数のスロット区分板３と、複数のスロットSのそれぞれにウエハWが存在するか否かについてのスロット情報D_sを出力するウエハセンサ４と、少なくともスロット情報D_sを含んだカセット情報D_cが格納される記憶部７と、外部の設備機器３３ａ〜３３ｄと記憶部７との間の通信を媒介する通信部８とを有するウエハカセット１による。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＩ基板の製造に好適な処理システムを提供する。
【解決手段】この処理システム３０００は、ロボットハンド３１５２により貼り合わせ基板を保持して搬送するスカラーロボット３１５０と、スカラーロボット３１５０の駆動軸３１５１から略等距離の位置に夫々配置された芯出し装置３０７０、分離装置３０２０、反転装置３１３０と、洗浄／乾燥装置３１２０とを備え、駆動軸３１５２を中心としてロボットハンド３１５２を水平面内で回動させると共に該ロボットハンド３１５２を駆動軸３１５１から遠ざけたり近づけたりすることにより、各処理装置の間で貼り合わせ基板又は分離後の基板を搬送する。 （もっと読む）

【課題】基板の製造条件、検査結果、検査データ等の基板情報を表示できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板収納容器２０は、被処理基板もしくは処理済基板１０_iを収納する容器本体２２と、前記処理済基板１０_iに関する情報を受信する受信装置２４と、前記容器本体に設けられ、前記受信装置２４が受信した前記処理済基板１０_i情報を表示する情報表示装置としての表示パネル２６とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
複数のステージを有する露光装置を用いて基板を露光する場合に、あるステージが正常に動けない状態であっても、他のステージのみを用いて露光装置を稼動し、生産性の低下を低減する露光方法を提供する。
【解決手段】
複数のステージを有する露光装置を用いて複数の基板を露光する露光方法であって、前記複数のステージのそれぞれの破損状況または精度の劣化状況に応じて、前記複数のステージの内の少なくとも１つのステージは用いず、他のステージを用いて露光する。複数のステージを有する露光装置を用いて複数の基板を露光する露光方法であって、前記露光装置の稼動中に前記複数のステージのいずれかが破損し、または、精度が劣化した場合、露光シーケンスを止めずに、前記複数のステージの内、破損も精度劣化もしていないステージを用いて露光を行ない続ける。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工場内に備える天井走行車から処理装置へとコンテナを受け渡す工程において、天井走行車が処理装置による処理を天井走行車が待つことにより、工場全体のスループットが低下する不具合が生じていた。
【解決手段】天井走行車から一時コンテナを受け取って留置すると共に、留置したコンテナを重要度に応じて選択して処理装置等へ移載するために、天井走行車の下方であって処理装置の上方に天井から吊設して備えるコンテナの受渡、留置、並びに供給装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】同種機能を有する複数の処理装置をまとめて配置するとともに、ワークの搬送経路を簡素化することを可能とした生産ラインを提供する。
【解決手段】水平方向及び垂直方向にワークを搬送する搬送装置１１０を設置し、搬送装置１１０によるワーク搬送エリア１００の両側面に沿ってそれぞれ複数の処理装置群２１０、２２０を水平方向へ各別に一列を成すように配置し、各一列では、同種機能を有する処理装置２１１、２２１同士を処理階層順に配置する。 （もっと読む）

【課題】従来の基板収納装置では、基板識別情報及び基板に関して測定された基板に付随する情報を移動させることができず、基板の識別情報と基板データとの整合性を確保することが困難であった。
【解決手段】本発明にかかる基板収納装置は、上部板と下部板及び、当該上部板と当該下部板との間に形成された支持部材を有し、複数の基板を収納して移動あるいは搬送が可能な基板収納装置であって、前記複数の基板を一枚ずつ互いに間隔をあけて保持する前記支持部材に形成された保持部と、前記複数の基板のそれぞれの識別情報及び付帯情報を取得する情報取得部とを有する。 （もっと読む）

【課題】処理効率が高く、高品質の半導体装置が製造できる処理装置を提供する。
【解決手段】内部を所定の気圧に維持し得る移載室の周囲に配設され、被処理基体を処理する、窒化チタン層形成ユニット、窒化タンタル層形成ユニット、および窒化タングステン層形成ユニットからなる群から選択される一の処理ユニットと、チタン層形成ユニットと、タングステン層形成ユニットとを各二基以上と、前記移載室の周囲に配設され、前記所定の気圧下で前記被処理基体を処理する一または二以上の予備洗浄処理ユニットと、前記移載室内に配設され、被処理基体を移載する移載アームとを具備し、前記ユニットの少なくとも一つが他の前記ユニットに対して上下方向に配設されている。 （もっと読む）