Fターム[5F152]の内容
再結晶化技術 (53,633)
Fターム[5F152]の下位に属するFターム
目的、効果 (2,853)
半導体素子等への用途 (2,062)
基板 (3,980)
被結晶化層の下方の層 (4,095)
被結晶化層 (7,497)
被結晶化層の上方の層 (1,379)
被結晶化層の側方の層 (282)
被結晶化層の後処理 (501)
結晶化装置 (2,197)
結晶化のための手段 (7,250)
照射方法 (3,274)
走査方法 (1,865)
半導体膜成長技術(半導体層) (1,668)
一般エピタキシャル成長技術 (652)
格子整合、格子不整合技術 (1,553)
その他技術(接着、分離) (1,205)
半導体素子等への用途 (2,408)
基板材料(積層体を基板として扱う場合も含む) (4,266)
基板と活性層の間の層(バッファ層、マスク等)の材料 (2,042)
動作層、活性層、素子構成層の材料 (2,604)
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