Fターム[5F152CD00]の内容
再結晶化技術 (53,633) | 被結晶化層の下方の層 (4,095)
Fターム[5F152CD00]の下位に属するFターム
目的(結晶化のためのもの) (284)
材料(結晶化直前の状態) (3,330)
形状(結晶化直前の状態) (465)
基板裏面側に層 (12)
その他 (4)
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再結晶化技術 (53,633) | 被結晶化層の下方の層 (4,095)
目的(結晶化のためのもの) (284)
材料(結晶化直前の状態) (3,330)
形状(結晶化直前の状態) (465)
基板裏面側に層 (12)
その他 (4)
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