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国際特許分類[C23C18/00]の内容

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【課題】 被めっき物の表面に、投入した反応液中の金属イオン濃度比からずれていない組成比を備えたフェライトめっき膜を析出する。
【解決手段】 めっき槽4と、2価の鉄イオン、または、2価の鉄イオンと鉄以外の2価の金属イオンを含む反応2液と、被めっき物1とを準備する工程と、めっき槽に、純水5および反応液2の少なくとも一方と、被めっき物1とを投入し、被めっき物の表面にフェライトめっき膜(図示せず)を析出させる工程とを備え、被めっき物1の表面にフェライトめっき膜を析出させる工程において、めっき槽4内の液体9の液面と被めっき物1との距離を一定に保つようにした。 (もっと読む)


【課題】安価で、印刷性に優れた、カルコパイライト膜の前駆体であるプリカーサ膜を形成するための厚膜組成物を提供する。
【解決手段】
無機成分として、銅、酸化銅、銀および酸化銀から選択される少なくとも1種のIb族元素粉末と、酸化インジウムおよび酸化ガリウムから選択される少なくとも1種のIIIb族元素粉末とからなり、平均粒径が0.1μm以上、10μm以下である無機粉末を含み、有機成分として、有機樹脂と、180℃以上、350℃以下の沸点を有する有機溶剤とからなる有機ビヒクルを含み、粘度が10Pa・s以上、190Pa・s以下であり、好ましくは、前記Ib族元素粉末とIIIb族元素粉末との含有量は、モル比で1.0:1.0以上、1.5:1.0未満である。 (もっと読む)


【課題】プラントを構成する炭素鋼部材の腐食をさらに抑制することができる炭素鋼部材の防食方法を提供する。
【解決手段】ニッケルイオン及びギ酸を含む薬液を、循環配管内に流れる皮膜形成水溶液に注入する(S4)。この皮膜形成水溶液をBWRプラントの炭素鋼製の給水配管に供給し、給水配管の内面にニッケル金属皮膜を形成する。ニッケル金属皮膜が形成された後、鉄(II)イオン、ギ酸、ニッケルイオン、過酸化水素及びヒドラジンを含む皮膜形成水溶液を、給水配管に供給する(S5〜S7)。給水配管内でニッケル金属皮膜の表面にニッケルフェライト皮膜が形成される。その後、酸素を含む150℃以上の水をニッケルフェライト皮膜に接触させ、ニッケル金属皮膜をニッケルフェライト皮膜に変換する(S10)。給水配管の内面に厚みの厚いニッケルフェライト皮膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】ニッケルフェライト皮膜の形成に要する時間をさらに短縮できる炭素鋼部材へのニッケルフェライト皮膜形成方法を提供する。
【解決手段】皮膜形成装置をBWRプラントの炭素鋼製の給水配管に接続する(S1)。
ニッケルイオン及びギ酸を含む薬液を、循環配管内に流れる、60〜100℃の範囲内の温度に加熱された皮膜形成水溶液に注入する(S4)。この皮膜形成水溶液が給水配管に供給され、給水配管の内面にニッケル金属皮膜が形成される。ニッケル金属皮膜が形成された後、鉄(II)イオン及びギ酸を含む薬液、過酸化水素及びヒドラジンを、ニッケルイオン及びギ酸を含む皮膜形成水溶液に注入する(S5〜S7)。鉄(II)イオン、過酸化水素、ヒドラジン、ニッケルイオン及びギ酸を含む皮膜形成水溶液が給水配管に供給される。給水配管内でニッケル金属皮膜の表面にニッケルフェライト皮膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】直立した状態の水晶振動子の電極上に形成される薄膜の厚さが鉛直方向にて偏ることを防止する。
【解決手段】主感応膜形成部6は、水晶片82が水平面に対して直立した状態にて水晶振動子81が内部に配置される処理槽61と、補助流体を処理槽61内にて鉛直方向に流しつつ成膜処理を行う形成液供給部62とを備え、薄膜となる物質の微粒子が処理槽61内に供給された後、静止状態の補助流体中において微粒子が鉛直方向の上側または下側である移動方向に移動する平均的な速度にて、成膜処理時に当該移動方向とは反対方向に補助流体を処理槽61内にて連続的に流すことにより、成膜処理時に処理槽61内の補助流体中の微粒子の一部が上昇し、一部が下降し、残りが滞留する状態が形成される。そして、処理槽61内にて滞留する微粒子を電極に付着させて成膜を行うことにより、電極上に形成される薄膜の厚さが鉛直方向にて偏ることを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】磁性膜を基体に付着させる際の適切な形成条件を定め、磁性膜の膜厚が2μmを超えるような場合であっても剥離の生じないような磁性膜付着体の製造方法を提供すること。
【解決手段】磁性膜5を基体3に付着してなる磁性膜付着体10の製造方法を提供する。この製造方法は、基体3を準備する工程と、交互に積層された有機物膜6及びフェライト膜7からなる磁性膜5を基体3上に形成する工程とを備える。この製造方法において、磁性膜5を形成する工程は、20μm以下の膜厚を有するフェライト膜7をフェライトメッキ法により形成する工程と、0.1μm以上20μm以下の膜厚を有する有機物膜6であって当該有機物膜6の膜厚tとヤング率Eとの比t/Eが0.025μm/GPa以上である有機物膜6を形成する工程とを交互に行うものである。 (もっと読む)


【課題】フェライトメッキ法に基づいたフェライト膜付着体の製造方法であって均質なフェライト膜を有するフェライト膜付着体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体3とその基体3に付着したフェライト膜とを備えるフェライト付着体を製造する製造方法を提供する。この製造方法は、基体3の裏側に100μm以上のスペースを空けた状態で基体3を支持し、少なくとも第1鉄イオンを含む反応液と少なくとも酸化剤を含む酸化液とを反応液ノズル1及び酸化液ノズル2から基体3の表側に供給し、反応液と前記酸化液に対して重力以外に起因する2〜150m/sの加速度を加える。 (もっと読む)


【課題】金属基板との密着性、膜硬度、耐擦傷性、耐水性、化学的耐久性に優れ、しかも、膜厚が5μm以下の薄膜状の貴金属被膜を形成することが可能な貴金属被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の貴金属被膜の形成方法は、ケイ素(Si)と、ジルコニウム(Zr)と、アルカリ金属(M)と、酸素(O)とを含有し、ケイ素(Si)を酸化ケイ素(SiO)に、ジルコニウム(Zr)を酸化ジルコニウム(ZrO)にそれぞれ換算したとき、酸化ケイ素(SiO)の、酸化ケイ素(SiO)及び酸化ジルコニウム(ZrO)の合計量に対する重量百分率が10重量%以上かつ90重量%以下である下地膜を、金属基板上に形成し、次いで、この下地膜上に貴金属被膜を形成する。 (もっと読む)


本発明の実施形態は、基板上に形成されたデバイスに高品質コンタクトレベル接続部を形成するプロセスを提供する。一実施形態において、基板上に物質を堆積させるための方法であって、基板を酸化物エッチング緩衝液にさらして、前処理プロセスで水素化シリコン層を形成するステップと、基板上に金属シリサイド層を堆積させるステップと、金属シリサイド層上に第一金属層(例えば、タングステン)を堆積させるステップと、を含む前記方法が提供される。酸化物エッチング緩衝液は、フッ化水素とアルカノールアミン化合物、例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、又はトリエタノールを含有することができる。金属シリサイド層は、コバルド、ニッケル、又はタングステンを含有することができ、無電解堆積プロセスによって堆積させることができる。一例において、基板は、溶媒と金属錯体化合物を含有する無電解堆積溶液にさらされる。 (もっと読む)


【課題】 基材表面上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が複雑な構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が酸化剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


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