国際特許分類[H01L21/28]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | 少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置 (97,574) | 不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置 (83,040) | 21/20〜21/268に分類されない方法または装置を用いる半導体本体上への電極の製造 (9,571)
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電極用の導電または絶縁材料の析出 (3,372)
国際特許分類[H01L21/28]に分類される特許
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半導体装置の製造方法
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太陽電池電極用ペースト組成物
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Cu層形成方法及び半導体装置の製造方法
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電界効果トランジスタ
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半導体装置及び半導体装置の製造方法
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炭化珪素半導体装置の製造方法
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配線の製造方法、およびこれを用いた立体的な配線を有する回路形成体の製造方法
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酸化ルテニウム膜の成膜方法
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層選択レーザーアブレーションパターニング
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化合物半導体装置及びその製造方法
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