ホルダ装置、チャンバ装置、および、極端紫外光生成装置
【課題】光学素子の光学特性を安定させる。
【解決手段】ホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。
【解決手段】ホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ホルダ装置、チャンバ装置、および、極端紫外光生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスのさらなる集積化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、たとえば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式装置との３種類が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００７−５１７７５９号公報
【特許文献２】特表２００３−５２９７８１号公報
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の他の態様によるチャンバ装置は、上述したホルダ装置と、前記圧力隔壁を含むチャンバと、前記ホルダ部と前記圧力隔壁との間を封止する第３封止部材と、を備えてもよい。
【０００７】
本開示の他の態様による極端紫外光生成装置は、上述したチャンバ装置と、レーザ光を出力するレーザ装置と、前記チャンバ内部にターゲットを供給するターゲット供給装置と、前記レーザ装置から出力された前記レーザ光を前記チャンバ内部の前記ターゲットに前記光学素子を介して集光させる光学系と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。なお、本願に記載の偏光子は光フィルタの一例でもよい。
【図１】図１は、例示的なＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図２】図２は、本開示の実施の形態２によるＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図３】図３は、図２に示されるウィンドウホルダの分解図を示す。
【図４】図４は、図３に示される第１部材を第２部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図５】図５は、図３に示される第２部材を第１部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図６】図６は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面がウィンドウホルダと直接接触する構成を概略的に示す。
【図７】図７は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面とウィンドウホルダとの間に熱伝導率の高い部材が介在する構成を概略的に示す。
【図８】図８は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面とウィンドウホルダとの間がロウ付けされた構成を概略的に示す。
【図９】図９は、本開示の他の実施の形態に係るチャンバ内部でウィンドウを保持するウィンドウホルダの断面構成を概略的に示す。
【図１０】図１０は、図９に示される第１部材を第２部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図１１】図１１は、本開示のさらに他の実施の形態に係るウィンドウに集光レンズを用いた場合のウィンドウホルダの断面構成を概略的に示す。
【図１２】図１２は、図１１に示される集光レンズの構成を概略的に示す。
【図１３】図１３は、図１１に示される第２部材の構成を概略的に示す。
【図１４】図１４は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが面接触する場合の例を示す。
【図１５】図１５は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが点接触する場合の例を示す。
【図１６】図１６は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが線接触する場合の例を示す。
【図１７】図１７は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが複数の面で接触する場合の例を示す。
【実施の形態】
【０００９】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下に説明される実施の形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施の形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
以下では、下記目次に沿って説明する。
目次
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
３．２ 動作
４．レーザ光の透過型光学素子を含むＥＵＶチャンバ
４．１ 構成
４．２ 動作
５．レーザ光透過型光学素子ホルダの基本構造
５．１ 構成
５．２ 作用
６．透過型光学素子とホルダとの接触形態
６．１ 光学素子がホルダに直接接触する場合
６．２ 光学素子がホルダに金属を介して接触する場合
６．３ 光学素子がホルダにロウ付けされる場合
７．レーザ光透過型光学素子ホルダの他の構造例
８．透過型光学素子が集光レンズの場合
９．接触面の形態
９．１ 面接触
９．２ 点接触
９．３ 線接触
９．４ 複数の面で接触
【００１１】
１．概要
以下の実施の形態は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型のウィンドウを保持可能なホルダ装置に関する。このホルダ装置は、２つの空間のうちウィンドウに対して低圧側の空間に配される部分と、高圧側の空間に配される部分とを含むウィンドウホルダを備えてもよい。また、ホルダ装置は、高圧側に配される部分とウィンドウの間を封止する封止部材を備えてもよい。このような構成によれば、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に設けられた光学ウィンドウの温度上昇を抑制しつつ、２つの空間の圧力差を維持し得る。
【００１２】
２．用語の説明
つぎに、本開示において使用される用語について、以下のように定義する。「ドロップレット」とは、溶融したターゲット物質の液滴でもよい。その形状は、表面張力によって略球形となり得る。「プラズマ生成領域」とは、プラズマが生成される空間として予め設定された３次元空間でもよい。「光路」とは、レーザ光が通過する空間領域であってもよい。「上流」とは、光路に沿ってレーザ光の光源に近い側でもよい。「下流」とは、光路に沿って露光装置等の外部装置に近い側でもよい。
【００１３】
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
以下に、例示的なＥＵＶ光生成システムを、図面を参照に詳細に説明する。
【００１４】
３．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示され、かつ以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２およびターゲット供給装置（例えばドロップレット生成器２６）を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能でもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ２に取り付けられてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又はそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１５】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられてもよく、その貫通孔をパルスレーザ光３１が通過してもよい。或いは、チャンバ２には、少なくとも１つのウィンドウ２１が設けられてもよく、パルスレーザ光３１がウィンドウ２１を透過してもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ光集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ光集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点がたとえば中間焦点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ光集光ミラー２３の中央部には、貫通孔２４が設けられてもよく、パルスレーザ光３１が貫通孔２４を通過してもよい。
【００１６】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続されてもよい。また、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲットセンサ４を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲットの存在、軌道、位置、速度、ある位置に存在した時刻、ターゲット２７の生成周波数等を検出するよう構成されてもよい。
【００１７】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ光集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１８】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、ビームデリバリシステム３４、レーザ光集光光学系２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。ビームデリバリシステム３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１９】
３．２ 動作
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、ビームデリバリシステム３４を経て、ウィンドウ２１を透過し、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３１は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
【００２０】
ドロップレット生成器２６からは、ターゲット２７がドロップレットの形態でチャンバ２内部に規定されるプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３１に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光３１が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。放射光２５１に含まれる光のうち少なくともＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって選択的に反射されるとともに集光されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６等の外部装置に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３１に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【００２１】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミングやターゲット２７の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミングやパルスレーザ光３１の進行方向や集光位置等を制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２２】
チャンバ２内に入射するパルスレーザ光３１は、たとえば１０ｋＷ以上の高出力であってもよい。ただし、パルスレーザ光３１を高出力とした場合、ウィンドウ２１などの光学素子の光学性能が熱ストレスなどによって低下する可能性があり得る。また、光学素子の熱膨張などによって、チャンバ２と光学素子との間の気密性が損なわれる可能性も存在する。そこで、本開示では、以下のような実施の形態が提案される。ただし、本開示は、以下の構成に限定されるものではない。
【００２３】
４．レーザ光の透過型光学素子を含むＥＵＶチャンバ
図２は、本開示の実施の形態２によるＥＵＶ光生成システム１１Ａの構成を概略的に示す。以下の説明において、上述と同様の構成には、同一の符号を付し、その重複する説明を省略する。
【００２４】
４．１ 構成
図２に示されるように、ＥＵＶ光生成システム１１Ａは、ＥＵＶ光生成装置１Ａと、レーザ装置３とを備えてもよい。ＥＵＶ光生成装置１Ａは、ビームデリバリシステム３４と、チャンバ２Ａと、接続部２９と、冷却水循環装置１３０と、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａとを備えてもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、ＥＵＶ光生成制御部５１と、ターゲット制御部５２とを含んでもよい。
【００２５】
ビームデリバリシステム３４は、高反射ミラー３４１および３４２を含む複数の光学素子を備えてもよい。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、ビームデリバリシステム３４によってチャンバ２Ａ内へ導かれてもよい。
【００２６】
チャンバ２Ａは、隔壁８０によって２つの部屋２ａおよび２ｂに区画されていてもよい。部屋２ｂは、パルスレーザ光３１の光路において、部屋２ａよりも上流側に位置してもよい。部屋２ａと部屋２ｂとの間の隔壁８０には、貫通孔８１があってもよい。
【００２７】
図２に示されるように、ウィンドウホルダ１００があってもよく、そのウィンドウホルダは第１部財１１０と第２部財１２０とを含んでも良い。ウィンドウ２１と、ウィンドウホルダ１００と、レーザ光集光光学系２２Ａとは、部屋２ａに設けられてもよい。ウィンドウホルダ１００は、チャンバ２Ａの外壁に取り付けられてもよい。チャンバ２Ａの外壁は、圧力差のあるチャンバ２Ａ内部の空間とチャンバ２Ａ外部の空間とを隔離する圧力隔壁であってもよい。冷却水循環装置１３０は、配管１３５を介してウィンドウホルダ１００に接続されてもよい。ウィンドウ２１は、第１部材１１０と第２部材１２０との間に挟まれてもよい。ウィンドウホルダ１００は、チャンバ２Ａに形成された開口にウィンドウ２１が対向するように、チャンバ２Ａの外壁に固定されてもよい。チャンバ２Ａと第１部材１１０との間は、気密に封止されてもよい。これに加え、第１部材と第２部材との間、および、第２部材１２０とウィンドウ２１との間は、気密に封止されてもよい。または、第１部材１１０とウィンドウ２１との間が、気密に封止されてもよい。もしくは、第１部材と第２部材との間、第２部材１２０とウィンドウ２１との間、および第１部材１１０とウィンドウ２１との間の全てが、気密に封止されてもよい。
【００２８】
レーザ光集光光学系２２Ａは、レーザ光集光ミラー２２４と、高反射ミラー２２１とを備えてもよい。レーザ光集光光学系２２Ａは、移動プレート２２５と、プレート移動機構２２６と、ミラーホルダ２２２および２２３とをさらに備えてもよい。ミラーホルダ２２２は、図示しない自動アオリ機構を備えてもよい。レーザ光集光ミラー２２４は、軸外放物面ミラーでもよい。レーザ光集光ミラー２２４は、ミラーホルダ２２３を介して移動プレート２２５に固定されてもよい。高反射ミラー２２１は、ミラーホルダ２２２を介して移動プレート２２５に取り付けられてもよい。プレート移動機構２２６は、レーザ光集光ミラー２２４および高反射ミラー２２１を、移動プレート２２５とともに移動させてもよい。
【００２９】
一方、部屋２ａには、ＥＵＶ光集光ミラー２３と、ドロップレット生成器２６と、ターゲット回収部２８と、ターゲットセンサ４と、ビームダンパ８２とが設けられてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、ミラーホルダ２３ａを介して隔壁８０に固定されてもよい。この際、ＥＵＶ光集光ミラー２３の貫通穴２４は、隔壁８０の貫通孔８１に位置合わせされてもよい。ビームダンパ８２は、レーザ光集光光学系２２Ａ側からプラズマ生成領域２５を通過したパルスレーザ光３１の光路上に配置されてもよい。ビームダンパ８２は、レーザ光集光光学系２２Ａ側からプラズマ生成領域２５を通過したパルスレーザ光３１を吸収してもよい。ビームダンパ８２は、支持部材８３によって、チャンバ２Ａの内壁に固定されてもよい。
【００３０】
４．２ 動作
つづいて、図２に示すＥＵＶ光生成システム１１Ａの動作を説明する。ＥＵＶ光生成システム１１Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａの制御に従って動作するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、露光装置コントローラ６１からＥＵＶ光２５２の生成位置またはプラズマ生成領域２５の位置に関する要求を受信してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、この要求が示すＥＵＶ光生成要求位置でＥＵＶ光２５２が生成されるように各部を制御してもよい。あるいは、ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、この要求が示すＥＵＶ光生成要求位置がプラズマ生成領域２５の位置と一致するように各部を制御してもよい。
【００３１】
ＥＵＶ光生成制御部５１５１は、レーザ光集光光学系２２Ａを制御してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５１は、ミラーホルダ２２２とプレート移動機構２２６とに駆動信号を送信してもよい。ミラーホルダ２２２は、ＥＵＶ光生成制御部５１から受信した駆動信号にしたがって、図２に示されるＸＹＺ座標系のＸ軸とＹ軸を中心に、それぞれ高反射ミラー２２１のθｘ方向およびθｙ方向のアオリ角を制御してもよい。プレート移動機構２２６は、ＥＵＶ光生成制御部５１からの駆動信号にしたがって、Ｚ方向に移動プレート２２５を移動させてもよい。
【００３２】
ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、露光装置コントローラ６１からＥＵＶ光２５２の生成を要求するＥＵＶ光生成要求信号を受信してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、ＥＵＶ光生成要求信号を受信すると、ターゲット制御部５２に、ＥＵＶ光生成要求信号を入力してもよい。ターゲット制御部５２は、ＥＵＶ光生成要求信号を受信すると、ドロップレット生成器２６にターゲット２７の出力信号を送信してもよい。
【００３３】
ターゲットセンサ４は、ターゲット２７のプラズマ生成領域２５における到達位置および到達タイミングを検出してもよい。この検出値は、ターゲット制御部５２に入力されてもよい。ターゲット制御部５２は、入力された検出値に応じて、ドロップレット生成器２６の不図示の２軸移動機構を制御して、ドロップレット生成器２６をＸＺ平面内で移動してもよい。レーザ装置３は、ターゲット制御部５２から与えられたタイミングに基づいて、パルスレーザ光３１を出力してもよい。これにより、チャンバ２Ａ内のプラズマ生成領域２５で、ターゲット２７がパルスレーザ光３１に照射されてもよい。その結果、ターゲット２７がプラズマ化してもよい。このプラズマから放射された放射光２５１のうち、少なくともＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって、接続部２９へ向けて選択的に反射されてもよい。
【００３４】
５．レーザ光透過型光学素子ホルダの基本構造
つぎに、上述した実施の形態におけるミラーホルダ１００の基本構造を、図面を用いて詳細に説明する。
【００３５】
５．１ 構成
図３は、図２に示されるウィンドウホルダ１００の分解図を示す。図４は、図３に示される第１部材１１０を第２部材１２０との接触面側から見た際の構成を示す。図５は、図３に示される第２部材１２０を第１部材１１０との接触面側から見た際の構成を示す。
【００３６】
図３に示されるように、ウィンドウホルダ１００は、第１部材１１０と、第２部材１２０と、ガスケット１３４、１４３および１４４と、複数のボルト１０１とを含んでもよい。ウィンドウ２１がダイヤモンド製である場合、第１部材１１０および第２部材１２０の材料には、アルミニウム、銅、ステンレス、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）などが用いられてもよい。ただし、これらの材料に限定されず、種々の材料が用いられてもよい。その際、十分な強度を有し、耐熱性に優れ、且つ、熱伝導率の高い材料が用いられるとよい。
【００３７】
図３および図４に示されるように、第１部材１１０は、円盤状の部材であってもよい。第１部材１１０は、２つの平面を備えてもよい。これら２つの平面は、平行であってもよいし、互いに傾いていてもよい。以下では、２つの平面のうち、第２部材１２０側に配される面を表面とし、チャンバ２Ａ側に配される面を裏面という。
【００３８】
第１部材１１０の表面および裏面は、それぞれ円形であってもよい。裏面の略中央部には、表面まで貫通する貫通孔１１１が開口していてもよい。貫通孔１１１の開口形状は、円形であってもよい。以下では、第１部材１１０の外周側で表面および裏面それぞれから連続する面を外側面といい、内周側で表面および裏面それぞれから連続する面を内側面という。
【００３９】
第１部材１１０の内部には、流路１１２が設けられていてもよい。流路１１２は、内側面に沿った略リング状の空洞であってもよい。前記表面に直交する方向での流路１１２の断面は、円形（楕円を含む）であってもよいし、四角形や三角形などの多角形であってもよい。流路１１２の一部は不連続であってもよい。流路１１２の不連続部分の２つの端は、それぞれ第１部材１１０の外側面で開口する流入出路１１３にそれぞれ連続していてもよい。各流入出路１１３には、冷却水循環装置１３０に連結された配管１３５が接続されてもよい。一方の流入出路１１３は、冷却水循環装置１３０から配管１３５を介して流れてきた冷却水が流路１１２へ流れ込むための流入路として使用されてもよい。他方の流入出路１１３は、流路１１２を通過した冷却水が冷却水循環装置１３０に接続された配管１３５へ流出するための流出路として使用されてもよい。
【００４０】
各流入出路１１３の開口部先端には、配管１３５と連結するためのジョイント１３１が取り付けられてもよい。ジョイント１３１は、貫通穴１３２と、ガスケット１３３とを備えていてもよい。ジョイント１３１は、不図示のボルトを用いて、第１部材１１０に取り付けられてもよい。または、ジョイント１３１は、不図示の螺子山を備え、この螺子山が第１部材１１０に設けられた不図示の螺子穴にねじ込まれることで第１部材に固定されてもよい。ガスケット１３３は、ジョイント１３１が第１部材１１０に取り付けられた際に、両者の間を気密に封止してもよい。貫通穴１３２は、ジョイント１３１が第１部材１１０に取り付けられることで、流入出路１１３と連通してもよい。
【００４１】
また、第１部材１１０の表面には、第２部材１２０を第１部材１１０に固定するためのボルト１０１がねじ込まれる螺子穴１１５が設けられてもよい。螺子穴１１５は、第１部材１１０を貫通していなくてもよい。さらに、第１部材１１０は、第１部材１１０をチャンバ２Ａの外壁に固定するためのボルト１０１が嵌挿される貫通孔１１６を備えてもよい。ボルト１０１は、不図示のワッシャを挟んで貫通孔１１６に嵌挿されてもよい。貫通孔１１６に嵌挿されたボルト１０１は、チャンバ２Ａの外壁に設けられた螺子穴２０６にねじ込まれてもよい。この際、第１部材１１０の貫通孔１１１は、チャンバ２Ａの開口２０１と位置合わせされるとよい。
【００４２】
第１部材１１０の裏面には、ガスケット１３４が嵌め込まれる溝１１４が設けられていてもよい。溝１１４は、ガスケット１３４の少なくとも一部が溝１１４全体から突出する程度の深さであるとよい。ガスケット１３４は、第１部材１１０をボルト１０１でチャンバ２Ａの外壁に固定した際、チャンバ２Ａの表面および溝１１４の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、第１部材１１０とチャンバ２Ａとの間が気密に封止され得る。ガスケット１３４は、たとえばオーリングであってもよい。このガスケット１３４は、フッ素系のゴム製であっても、銅などの金属製であってもよい。ただし、これらの材料に限定されず、ガスケットとして使用可能な材料であれば、種々の材料が適用され得る。
【００４３】
また、図３および図５に示されるように、第２部材１２０は、リング状の部材であってもよい。第２部材１２０は、２つの平面を備えてもよい。これら２つの平面は、平行であってもよい。以下では、少なくとも２つの平面のうち、パルスレーザ光３１の入射側を表面とし、第１部材１１０側に配される面を裏面という。
【００４４】
第２部材１２０の表面および裏面は、それぞれ円形であってもよい。裏面の略中央には、表面まで貫通する貫通孔１２１が開口していてもよい。貫通孔１２１の開口形状は、円形であってもよい。以下では、第２部材１２０の外周側で表面および裏面それぞれから連続する面を外側面といい、内周側で表面および裏面それぞれから連続する面を内側面という。
【００４５】
第２部材１２０の裏面には、ウィンドウ２１が嵌め込まれる溝１２２が設けられていてもよい。溝１２２は、貫通孔１２１に対して同心円となる位置に設けられてもよい。溝１２２の深さは、ウィンドウ２１の厚さと同程度であってもよい。溝１２２の底面には、貫通孔１２１を一周する溝１２３が設けられていてもよい。この溝１２３には、ガスケット１４３が嵌め込まれてもよい。溝１２３は、ガスケット１４３の少なくとも一部が溝１２３全体から突出する程度の深さであるとよい。
【００４６】
また、第２部材１２０の表面には、第２部材１２０を第１部材１１０に固定するためのボルト１０１が嵌挿される貫通孔１２５が設けられてもよい。ボルト１０１は、不図示のワッシャを挟んで貫通孔１２５に嵌挿されてもよい。貫通孔１２５に嵌挿されたボルト１０１は、第１部材１１０の表面に設けられた螺子穴１１５にねじ込まれてもよい。この際、第２部材１２０の貫通孔１２１は、第１部材１１０の貫通孔１１１と位置合わせされるとよい。
【００４７】
第２部材１２０の裏面には、ガスケット１４４が嵌め込まれる溝１２４が設けられていてもよい。溝１２４は、ガスケット１４４の少なくとも一部が溝１４４全体から突出する程度の深さであるとよい。ガスケット１４４は、第２部材１２０をボルト１０１で第１部材１１０の表面に固定した際、第１部材１１０の表面および溝１２４の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、第１部材１１０と第２部材１２０との間が気密に封止され得る。この際、溝１２３に嵌められたガスケット１４３も、ウィンドウ２１の表面および溝１２３の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、ウィンドウ２１と第２部材１２０との間が気密に封止され得る。ガスケット１４３および１４４は、たとえばオーリングであってもよい。これらのガスケット１４３および１４４は、フッ素系のゴム製であっても、銅などの金属製であってもよい。ただし、これらの材料に限定されず、ガスケットとして使用可能な材料であれば、種々の材料が適用され得る。
【００４８】
また、第２部材１２０をボルト１０１で第１部材１１０の表面に固定した際、ウィンドウ２１と第１部材１１０の表面とが接触してもよい。この接触面の形状は、貫通孔１１１の開口の中心を貫通方向に沿って通る軸に対して軸対称であってもよい。ウィンドウ２１と第１部材１１０との間は、気密であってもよいし、気密でなくてもよい。
【００４９】
なお、ＥＵＶ光生成システム１１Ａの運転時、チャンバ２Ａ内は、チャンバ２Ａ外よりも低圧であってもよい。ウィンドウ２１と第２部材１２０との間を気密に封止するオーリング（本例では、ガスケット１４３）は、ウィンドウ２１に対して高圧側の面に配されるとよい。一方、ウィンドウ２１における低圧側に配される面は、後述において具体例を挙げて説明するように、熱伝導効率が比較的高い構造で、部材（本例では、第１部材１１０）と接触しているとよい。部材を冷却する冷却水は、ウィンドウ２１に対して高圧側の面に接触する部材（本例では、第１部材１１０）を冷却するとよい。この際、冷却される部材（本例では、第１部材１１０）とウィンドウ２１との接触面積は、大きい方が好ましい。
【００５０】
５．２ 作用
以上のように、冷却される部材（本例では、第１部材１１０）とウィンドウ２１とが熱伝導効率が比較的高い構造で接触することで、通過するパルスレーザ光３１の一部を吸収することで加熱されたウィンドウ２１が効果的に冷却され得る。それにより、ウィンドウ２１の光学特性の低下を抑制し得る。
【００５１】
また、冷却される第１部材１１０をウィンドウ２１に対して低圧側の面に配することで、運転時に圧力差によってウィンドウ２１が第１部材１１０から離れることを防止し得る。それにより、より効率的にウィンドウ２１を冷却し得る。その際、ウィンドウ２１に対して高圧側の面が変形可能なガスケット１４３で封止されることで、チャンバ２Ａの気密性が低下することを防止し得る。
【００５２】
６．透過型光学素子とホルダとの接触形態
つぎに、上述した実施の形態におけるウィンドウ２１とウィンドウホルダ１００との接触形態について、いくつか具体例を挙げて説明する。
【００５３】
６．１ 光学素子がホルダに直接接触する場合
まず、ウィンドウ２１における低圧側に配される面がウィンドウホルダ１００と直接接触する場合について例を挙げる。図６は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面がウィンドウホルダ１００と直接接触する構成を概略的に示す。
【００５４】
図６に示されるように、ウィンドウ２１は、低圧側の面で第１部材１１０と直接接触してもよい。この直接接触部分２１１は、第１部材１１０とウィンドウ２１との間を気密に封止してもよいし、封止していなくてもよい。冷却される第１部材１１０とウィンドウ２１とが直接接触することで、ウィンドウ２１の熱が第１部材１１０へ効率的に流れ得る。それにより、ウィンドウ２１が効率的に冷却され得る。
【００５５】
なお、ウィンドウ２１およびウィンドウホルダ１００部分の気密性は、ガスケット１４３、１４４および１３４によって保持されてもよい。すなわち、ガスケット１４３が第２部材１２０とウィンドウ２１との間の気密性を保持し、ガスケット１４４が第２部材１２０と第１部材１１０との間の気密性を保持し、ガスケット１３４が第１部材１１０とチャンバ２Ａとの間の気密性を保持してもよい。このような構成によれば、チャンバ２Ａ内を低圧にすることでウィンドウ２１が低圧側に付勢された場合でも、変形可能なガスケット１４３が第２部材１２０とウィンドウ２１との間の気密性を保持し得る。その結果、チャンバ２Ａの気密性を保持することができる。
【００５６】
６．２ 光学素子がホルダに金属を介して接触する場合
つぎに、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間に熱伝導率の高い部材を介在させた場合について例を挙げる。図７は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間に熱伝導率の高い部材が介在する構成を概略的に示す。
【００５７】
図７に示されるように、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間には、接触部材２１２が設けられても良い。接触部材２１２は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面および第１部材１１０それぞれと直接接触していても良い。接触部材２１２とウィンドウ２１との間、および、接触部材２１２と第１部材１１０との間は、それぞれ気密に封止されていてもよいし、封止されていなくてもよい。
【００５８】
接触部材２１２は、金属などの比較的高い熱伝導率を備えた材料で構成されてもよい。これにより、ウィンドウ２１の熱が第１部材１１０へ効率的に流れ得る。その結果、ウィンドウ２１が効率的に冷却され得る。
【００５９】
接触部材２１２は、金（Ａｕ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）などの比較的柔らかい材料で構成されてもよい。その場合、接触部材２１２とウィンドウ２１との接触面積および接触部材２１２と第１部材１１０との接触面積を大きくすることができる。その結果、ウィンドウ２１から第１部材１１０への熱伝導効率を高めることが可能となり、ウィンドウ２１をより効率的に冷却することが可能となる。また、接触部材２１２とウィンドウ２１との間の気密性および接触部材２１２と第１部材１１０との間の気密性を高めることが可能となり得る。
【００６０】
６．３ 光学素子がホルダにロウ付けされる場合
つぎに、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間をロウ付けする場合について例を挙げる。図８は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間がロウ付けされた構成を概略的に示す。
【００６１】
図８に示されるように、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間には、ロウ付けにより形成されたロウ付け部分２１３が介在してもよい。ロウ付けに使用する材料は、たとえば半田や銀ろうなどであってもよい。その場合、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００とが直接接触する場合よりも両者の接触面積を大きくできる場合がある。その結果、ウィンドウ２１から第１部材１１０への熱伝導効率を高めることが可能となり、ウィンドウ２１をより効率的に冷却することが可能となる。また、ウィンドウ２１と第１部材１１０との間の気密性を高めることが可能となる場合もある。
【００６２】
７．レーザ光透過型光学素子ホルダの他の構造例
上述した実施の形態では、チャンバ２Ａの外壁にウィンドウホルダ１００が保持されていた。ただし、これに限定されるものではなく、チャンバ２Ａの内壁にウィンドウホルダ１００が保持されてもよい。図９は、チャンバ２Ａ内部でウィンドウ２１を保持するウィンドウホルダ１００Ａの断面構成を概略的に示す。図１０は、図９に示される第１部材１１０Ａを第２部材１２０との接触面側から見た際の構成を示す。なお、第２部材１２０は、たとえば図５に示される第２部材１２０と同様の構成であってよい。
【００６３】
図９および図１０に示されるように、第１部材１１０Ａは、チャンバ２Ａの内壁に、ボルト１０１を用いて固定されてもよい。チャンバ２Ａの内壁と第１部材１１０Ａとの間は、溝１１４ａに嵌め込まれたガスケット１３４によって気密に封止されるとよい。
【００６４】
第１部材１１０Ａは、チャンバ２Ａに固定される側の面に、第２部材１２０を収容する溝１１７を備えてもよい。溝１１７の開口径は、チャンバ２Ａの開口２０１の開口径に対して、小さくてもよいし、大きくてもよい。溝１１７の開口径が開口２０１の開口径よりも小さい場合、溝１１７の深さは、第２部材１２０の厚さよりも深いことが好ましい。第２部材１２０は、溝１１７の底面に、ボルト１０１を用いて固定されてもよい。溝１１７の底面に対する第２部材１２０の取り付けは、上述したウィンドウホルダ１００と同様であってよい。
【００６５】
第１部材１１０Ａ内部の流路１１２とジョイント１３１とを連通する流入出路１１３Ａは、流路１１２の端部からそれぞれ延出する第１路１１３ａと、第１路１１３ａからカーブして第１部材１１０Ａの表面で開口する第２路１１３ｂとを含んでもよい。第２路１１３ｂの開口部には、ジョイント１３１が取り付けられてもよい。これにより、第２路１１３ｂと貫通穴１３２とが連通してもよい。なお、チャンバ２Ａには、ジョイント１３１を嵌設するための貫通穴が設けられてもよい。
【００６６】
第１部材１１０Ａおよびチャンバ２Ａ間を封止するガスケット１３４が嵌め込まれる溝１１４ａは、溝１１７および第２路１１３ｂとジョイント１３１との接続部を取り囲むように設けられてもよい。これにより、第１部材１１０Ａおよびチャンバ２Ａ間が気密に封止され得る。また、第２路１１３ｂとジョイント１３１との間から冷却水が漏れ出たとしても、この冷却水がチャンバ２Ａ内に流れ込むことを防止し得る。なお、溝１１７は、第１部材１１０Ａの表面に設けられても、チャンバ２Ａの内壁に設けられてもよい。
【００６７】
８．透過型光学素子が集光レンズの場合
また、上述した実施の形態では、パルスレーザ光３１の入出射面が互いに平行な平行平板、または、これらが互いに傾いているウェッジ基板が、ウィンドウ２１に用いられた場合を例示した。ただし、これに限定されるものではない。たとえば、ウィンドウ２１の代わりに、少なくとも一方の入出射面が凸面の集光レンズが用いられてもよい。
【００６８】
図１１は、ウィンドウに集光レンズ２１Ｂを用いた場合のウィンドウホルダ１００Ａの断面構成を概略的に示す。図１１に示されるように、ウィンドウホルダ１００Ａは、第２部材１２０の代わりに第２部材１２０Ａを備えてもよい。ウィンドウホルダ１００Ａは、ウィンドウ２１の代わりに集光レンズ２１Ｂを保持してもよい。第１部材１１０は、ウィンドウホルダ１００の第１部材１１０と同様であってよい。ウィンドウホルダ１００Ａは、チャンバ２Ａに直接固定されるのではなく、チャンバ２Ａに設けられた可動フランジ２４１に固定されてもよい。
【００６９】
図１２は、図１１に示される集光レンズ２１Ｂの構成を概略的に示す斜視図である。図１２に示されるように、集光レンズ２１Ｂは、少なくとも一方の入出射面２１ａが凸面であってもよい。この集光レンズ２１Ｂは、たとえばダイヤモンド製であってもよい。
【００７０】
図１３は、図１１に示される第２部材１２０Ａの構成を概略的に示す斜視図である。図１１および図１３に示されるように、第２部材１２０Ｂの溝１２２の底面は、集光レンズ２１Ｂの入出射面２１ａの歪曲形状と一致するように歪曲していてもよい。第２部材１２０Ａと集光レンズ２１Ｂとの間を気密に封止するためのガスケット１３４は、溝１２２あａの歪曲する底面に形成された溝１２４に嵌め込まれてもよい。その他の構成は、第２部材１２０と同様であってもよい。
【００７１】
また、図１１に示されるように、集光レンズ２１Ｂと第１部材１１０とは、上述において図６〜図８を用いて説明した接触形態のいずれの形態で接触していてもよい。第１部材１１０は、チャンバ２Ａの可動フランジ２４１の先端に設けられたリング状基板２４２に固定されてもよい。リング状基板２４２に対する第１部材１１０の取り付けは、上述したチャンバ２Ａに対する第１部材１１０の取り付けと同様であってもよい。
【００７２】
可動フランジ２４１は、蛇腹状の筒であってもよい。可動フランジ２４１の一方の開口部は、チャンバ２Ａの開口２０１を囲む位置に固定されてもよい。リング状基板２４２は、可動フランジ２４１の他方の開口に取り付けられてもよい。可動フランジ２４１は、不図示の駆動機構によってリング状基板２４２の３次元位置を変化させるように変形可能であってもよい。
【００７３】
以上のような構成とすることで、ウィンドウ２１の代わりに集光レンズ２１Ｂを用いた場合でも、上述した実施の形態と同様の効果を得ることが可能となる。
【００７４】
９．接触面の形態
つぎに、上述した実施の形態におけるウィンドウ２１（または集光レンズ２１Ｂ）と第１部材１１０（または第１部材１１０Ａ）もしくは接触部材２１２との接触面の形態を、以下にいくつかの例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが直接接触する場合を引用するが、これに限定されず、他の組合せも同様であってよい。
【００７５】
９．１ 面接触
まず、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが面接触する場合の例を説明する。図１４は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが面接触する場合の例を示す。図１４に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が一様に接触する面接触２３１を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１における少なくとも第１部材１１０と接触する領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されてもよい。同様に、第１部材１１０における少なくともウィンドウ２１と接触する領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されていてもよい。
【００７６】
ウィンドウ２１と第１部材１１０とが重なり合う領域で一様な面接触２３１を形成することで、ウィンドウ２１と第１部材１１０との接触面積を大きくすることが可能となる。これにより、ウィンドウ２１を効率よく冷却することが可能となる。
【００７７】
なお、ウィンドウ２１と第１部材１１０との面接触２３１の形状は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。接触面を回転対称とすることで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００７８】
９．２ 点接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の点で接触する場合の例を説明する。図１５は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが点接触する場合の例を示す。図１５に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が多数の点で接触する点接触２３２を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、無数の突起が形成されていてもよい。この領域の突起は、たとえばサンドブラストなどで形成されてもよい。
【００７９】
突起の分布は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。突起が回転対称で分布することで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８０】
９．３ 線接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが１つ以上の線で接触する場合の例を説明する。図１６は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが線接触する場合の例を示す。図１６に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が貫通孔１１１と同心円である１つ以上の複数の線で接触する線接触２３３を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、貫通孔１１１と同心円である１つ以上の円状の隆起部が形成されていてもよい。
【００８１】
隆起部は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。隆起部が回転対称であることで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８２】
９．４ 複数の面で接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の分断された面で接触する場合の例を説明する。図１７は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の面で接触する場合の例を示す。図１７に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域における複数の分断された領域で接触する面接触２３４を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、複数の島状の隆起部が形成されていてもよい。
【００８３】
隆起部の上面は、比較的高い平坦性を備えているとよい。また、複数の隆起部の上面のレベルは、均一であるとよい。この平坦性および均一性は、たとえば研磨などによって向上されてもよい。また、ウィンドウ２１および第１部材１１０のうち隆起部が形成されていない方の接触領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されていてもよい。
【００８４】
島状の隆起部の分布は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。隆起部が回転対称で分布することで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８５】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施の形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【００８６】
本明細書および添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、限定的でない用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」または「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書および添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」または「１もしくはそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００８７】
１、１Ａ ＥＵＶ光生成装置
１１、１１Ａ ＥＵＶ光生成システム
２、２Ａ チャンバ
２ａ、２ｂ 部屋
３ レーザ装置
４ ターゲットセンサ
５、５Ａ ＥＵＶ光生成制御部
５１ ＥＵＶ光生成制御部
５２ ターゲット制御部
６ 露光装置
２１ ウィンドウ
２１Ｂ 集光レンズ
２１ａ 入出射面
２２、２２Ａ レーザ光集光光学系
２２１ 高反射ミラー
２２２、２２３ ミラーホルダ
２２４ レーザ光集光ミラー
２２５ 移動プレート
２２６ プレート移動機構
２３ ＥＵＶ光集光ミラー
２３ａ ミラーホルダ
２４ 貫通孔
２５ プラズマ生成領域
２６ ドロップレット生成器
２７ ターゲット
２８ ターゲット回収部
２９ 接続部
２９１ 壁
２９２ 中間焦点（ＩＦ）
３１ パルスレーザ光
３４ ビームデリバリシステム
３４１、３４２ 高反射ミラー
８０ 隔壁
８１ 貫通孔
８２ ビームダンパ
８３ 支持部材
１００、１００Ａ ウィンドウホルダ
１０１ ボルト
１１０、１１０Ａ 第１部材
１１１ 貫通孔
１１２ 流路
１１３ 流入出路
１１３ａ 第１路
１１３ｂ 第２路
１１４、１１４ａ 溝
１１５、１１６ 螺子穴
１２０、１２０Ｂ 第２部材
１２１ 貫通孔
１２２、１２２ａ、１２３、１２３ａ、１２４ 溝
１２５ 螺子穴
１３０ 冷却水循環装置
１３１ ジョイント
１３２ 貫通穴
１３３ ガスケット
１３４、１４３、１４４ ガスケット
１３５ 配管
２０１ 開口
２１１ 直接接触部分
２１２ 接触部材
２１３ ロウ付け部分
２２１ 可動フランジ
２２２ リング状基板
２３１、２３４ 面接触
２３２ 点接触
２３３ 線接触
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ホルダ装置、チャンバ装置、および、極端紫外光生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスのさらなる集積化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、たとえば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式装置との３種類が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００７−５１７７５９号公報
【特許文献２】特表２００３−５２９７８１号公報
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の他の態様によるチャンバ装置は、上述したホルダ装置と、前記圧力隔壁を含むチャンバと、前記ホルダ部と前記圧力隔壁との間を封止する第３封止部材と、を備えてもよい。
【０００７】
本開示の他の態様による極端紫外光生成装置は、上述したチャンバ装置と、レーザ光を出力するレーザ装置と、前記チャンバ内部にターゲットを供給するターゲット供給装置と、前記レーザ装置から出力された前記レーザ光を前記チャンバ内部の前記ターゲットに前記光学素子を介して集光させる光学系と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。なお、本願に記載の偏光子は光フィルタの一例でもよい。
【図１】図１は、例示的なＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図２】図２は、本開示の実施の形態２によるＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図３】図３は、図２に示されるウィンドウホルダの分解図を示す。
【図４】図４は、図３に示される第１部材を第２部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図５】図５は、図３に示される第２部材を第１部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図６】図６は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面がウィンドウホルダと直接接触する構成を概略的に示す。
【図７】図７は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面とウィンドウホルダとの間に熱伝導率の高い部材が介在する構成を概略的に示す。
【図８】図８は、図２に示されるウィンドウにおける低圧側に配される面とウィンドウホルダとの間がロウ付けされた構成を概略的に示す。
【図９】図９は、本開示の他の実施の形態に係るチャンバ内部でウィンドウを保持するウィンドウホルダの断面構成を概略的に示す。
【図１０】図１０は、図９に示される第１部材を第２部材との接触面側から見た際の構成を示す。
【図１１】図１１は、本開示のさらに他の実施の形態に係るウィンドウに集光レンズを用いた場合のウィンドウホルダの断面構成を概略的に示す。
【図１２】図１２は、図１１に示される集光レンズの構成を概略的に示す。
【図１３】図１３は、図１１に示される第２部材の構成を概略的に示す。
【図１４】図１４は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが面接触する場合の例を示す。
【図１５】図１５は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが点接触する場合の例を示す。
【図１６】図１６は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが線接触する場合の例を示す。
【図１７】図１７は、本開示の実施の形態にかかるウィンドウと第１部材とが複数の面で接触する場合の例を示す。
【実施の形態】
【０００９】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下に説明される実施の形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施の形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
以下では、下記目次に沿って説明する。
目次
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
３．２ 動作
４．レーザ光の透過型光学素子を含むＥＵＶチャンバ
４．１ 構成
４．２ 動作
５．レーザ光透過型光学素子ホルダの基本構造
５．１ 構成
５．２ 作用
６．透過型光学素子とホルダとの接触形態
６．１ 光学素子がホルダに直接接触する場合
６．２ 光学素子がホルダに金属を介して接触する場合
６．３ 光学素子がホルダにロウ付けされる場合
７．レーザ光透過型光学素子ホルダの他の構造例
８．透過型光学素子が集光レンズの場合
９．接触面の形態
９．１ 面接触
９．２ 点接触
９．３ 線接触
９．４ 複数の面で接触
【００１１】
１．概要
以下の実施の形態は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型のウィンドウを保持可能なホルダ装置に関する。このホルダ装置は、２つの空間のうちウィンドウに対して低圧側の空間に配される部分と、高圧側の空間に配される部分とを含むウィンドウホルダを備えてもよい。また、ホルダ装置は、高圧側に配される部分とウィンドウの間を封止する封止部材を備えてもよい。このような構成によれば、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に設けられた光学ウィンドウの温度上昇を抑制しつつ、２つの空間の圧力差を維持し得る。
【００１２】
２．用語の説明
つぎに、本開示において使用される用語について、以下のように定義する。「ドロップレット」とは、溶融したターゲット物質の液滴でもよい。その形状は、表面張力によって略球形となり得る。「プラズマ生成領域」とは、プラズマが生成される空間として予め設定された３次元空間でもよい。「光路」とは、レーザ光が通過する空間領域であってもよい。「上流」とは、光路に沿ってレーザ光の光源に近い側でもよい。「下流」とは、光路に沿って露光装置等の外部装置に近い側でもよい。
【００１３】
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
以下に、例示的なＥＵＶ光生成システムを、図面を参照に詳細に説明する。
【００１４】
３．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示され、かつ以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２およびターゲット供給装置（例えばドロップレット生成器２６）を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能でもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ２に取り付けられてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又はそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１５】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられてもよく、その貫通孔をパルスレーザ光３１が通過してもよい。或いは、チャンバ２には、少なくとも１つのウィンドウ２１が設けられてもよく、パルスレーザ光３１がウィンドウ２１を透過してもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ光集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ光集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点がたとえば中間焦点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ光集光ミラー２３の中央部には、貫通孔２４が設けられてもよく、パルスレーザ光３１が貫通孔２４を通過してもよい。
【００１６】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続されてもよい。また、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲットセンサ４を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲットの存在、軌道、位置、速度、ある位置に存在した時刻、ターゲット２７の生成周波数等を検出するよう構成されてもよい。
【００１７】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ光集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１８】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、ビームデリバリシステム３４、レーザ光集光光学系２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。ビームデリバリシステム３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１９】
３．２ 動作
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、ビームデリバリシステム３４を経て、ウィンドウ２１を透過し、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３１は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
【００２０】
ドロップレット生成器２６からは、ターゲット２７がドロップレットの形態でチャンバ２内部に規定されるプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３１に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光３１が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。放射光２５１に含まれる光のうち少なくともＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって選択的に反射されるとともに集光されてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６等の外部装置に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３１に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【００２１】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミングやターゲット２７の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミングやパルスレーザ光３１の進行方向や集光位置等を制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２２】
チャンバ２内に入射するパルスレーザ光３１は、たとえば１０ｋＷ以上の高出力であってもよい。ただし、パルスレーザ光３１を高出力とした場合、ウィンドウ２１などの光学素子の光学性能が熱ストレスなどによって低下する可能性があり得る。また、光学素子の熱膨張などによって、チャンバ２と光学素子との間の気密性が損なわれる可能性も存在する。そこで、本開示では、以下のような実施の形態が提案される。ただし、本開示は、以下の構成に限定されるものではない。
【００２３】
４．レーザ光の透過型光学素子を含むＥＵＶチャンバ
図２は、本開示の実施の形態２によるＥＵＶ光生成システム１１Ａの構成を概略的に示す。以下の説明において、上述と同様の構成には、同一の符号を付し、その重複する説明を省略する。
【００２４】
４．１ 構成
図２に示されるように、ＥＵＶ光生成システム１１Ａは、ＥＵＶ光生成装置１Ａと、レーザ装置３とを備えてもよい。ＥＵＶ光生成装置１Ａは、ビームデリバリシステム３４と、チャンバ２Ａと、接続部２９と、冷却水循環装置１３０と、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａとを備えてもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、ＥＵＶ光生成制御部５１と、ターゲット制御部５２とを含んでもよい。
【００２５】
ビームデリバリシステム３４は、高反射ミラー３４１および３４２を含む複数の光学素子を備えてもよい。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、ビームデリバリシステム３４によってチャンバ２Ａ内へ導かれてもよい。
【００２６】
チャンバ２Ａは、隔壁８０によって２つの部屋２ａおよび２ｂに区画されていてもよい。部屋２ｂは、パルスレーザ光３１の光路において、部屋２ａよりも上流側に位置してもよい。部屋２ａと部屋２ｂとの間の隔壁８０には、貫通孔８１があってもよい。
【００２７】
図２に示されるように、ウィンドウホルダ１００があってもよく、そのウィンドウホルダは第１部財１１０と第２部財１２０とを含んでも良い。ウィンドウ２１と、ウィンドウホルダ１００と、レーザ光集光光学系２２Ａとは、部屋２ａに設けられてもよい。ウィンドウホルダ１００は、チャンバ２Ａの外壁に取り付けられてもよい。チャンバ２Ａの外壁は、圧力差のあるチャンバ２Ａ内部の空間とチャンバ２Ａ外部の空間とを隔離する圧力隔壁であってもよい。冷却水循環装置１３０は、配管１３５を介してウィンドウホルダ１００に接続されてもよい。ウィンドウ２１は、第１部材１１０と第２部材１２０との間に挟まれてもよい。ウィンドウホルダ１００は、チャンバ２Ａに形成された開口にウィンドウ２１が対向するように、チャンバ２Ａの外壁に固定されてもよい。チャンバ２Ａと第１部材１１０との間は、気密に封止されてもよい。これに加え、第１部材と第２部材との間、および、第２部材１２０とウィンドウ２１との間は、気密に封止されてもよい。または、第１部材１１０とウィンドウ２１との間が、気密に封止されてもよい。もしくは、第１部材と第２部材との間、第２部材１２０とウィンドウ２１との間、および第１部材１１０とウィンドウ２１との間の全てが、気密に封止されてもよい。
【００２８】
レーザ光集光光学系２２Ａは、レーザ光集光ミラー２２４と、高反射ミラー２２１とを備えてもよい。レーザ光集光光学系２２Ａは、移動プレート２２５と、プレート移動機構２２６と、ミラーホルダ２２２および２２３とをさらに備えてもよい。ミラーホルダ２２２は、図示しない自動アオリ機構を備えてもよい。レーザ光集光ミラー２２４は、軸外放物面ミラーでもよい。レーザ光集光ミラー２２４は、ミラーホルダ２２３を介して移動プレート２２５に固定されてもよい。高反射ミラー２２１は、ミラーホルダ２２２を介して移動プレート２２５に取り付けられてもよい。プレート移動機構２２６は、レーザ光集光ミラー２２４および高反射ミラー２２１を、移動プレート２２５とともに移動させてもよい。
【００２９】
一方、部屋２ａには、ＥＵＶ光集光ミラー２３と、ドロップレット生成器２６と、ターゲット回収部２８と、ターゲットセンサ４と、ビームダンパ８２とが設けられてもよい。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、ミラーホルダ２３ａを介して隔壁８０に固定されてもよい。この際、ＥＵＶ光集光ミラー２３の貫通穴２４は、隔壁８０の貫通孔８１に位置合わせされてもよい。ビームダンパ８２は、レーザ光集光光学系２２Ａ側からプラズマ生成領域２５を通過したパルスレーザ光３１の光路上に配置されてもよい。ビームダンパ８２は、レーザ光集光光学系２２Ａ側からプラズマ生成領域２５を通過したパルスレーザ光３１を吸収してもよい。ビームダンパ８２は、支持部材８３によって、チャンバ２Ａの内壁に固定されてもよい。
【００３０】
４．２ 動作
つづいて、図２に示すＥＵＶ光生成システム１１Ａの動作を説明する。ＥＵＶ光生成システム１１Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａの制御に従って動作するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、露光装置コントローラ６１からＥＵＶ光２５２の生成位置またはプラズマ生成領域２５の位置に関する要求を受信してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、この要求が示すＥＵＶ光生成要求位置でＥＵＶ光２５２が生成されるように各部を制御してもよい。あるいは、ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、この要求が示すＥＵＶ光生成要求位置がプラズマ生成領域２５の位置と一致するように各部を制御してもよい。
【００３１】
ＥＵＶ光生成制御部５１５１は、レーザ光集光光学系２２Ａを制御してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５１は、ミラーホルダ２２２とプレート移動機構２２６とに駆動信号を送信してもよい。ミラーホルダ２２２は、ＥＵＶ光生成制御部５１から受信した駆動信号にしたがって、図２に示されるＸＹＺ座標系のＸ軸とＹ軸を中心に、それぞれ高反射ミラー２２１のθｘ方向およびθｙ方向のアオリ角を制御してもよい。プレート移動機構２２６は、ＥＵＶ光生成制御部５１からの駆動信号にしたがって、Ｚ方向に移動プレート２２５を移動させてもよい。
【００３２】
ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、露光装置コントローラ６１からＥＵＶ光２５２の生成を要求するＥＵＶ光生成要求信号を受信してもよい。ＥＵＶ光生成制御部５Ａは、ＥＵＶ光生成要求信号を受信すると、ターゲット制御部５２に、ＥＵＶ光生成要求信号を入力してもよい。ターゲット制御部５２は、ＥＵＶ光生成要求信号を受信すると、ドロップレット生成器２６にターゲット２７の出力信号を送信してもよい。
【００３３】
ターゲットセンサ４は、ターゲット２７のプラズマ生成領域２５における到達位置および到達タイミングを検出してもよい。この検出値は、ターゲット制御部５２に入力されてもよい。ターゲット制御部５２は、入力された検出値に応じて、ドロップレット生成器２６の不図示の２軸移動機構を制御して、ドロップレット生成器２６をＸＺ平面内で移動してもよい。レーザ装置３は、ターゲット制御部５２から与えられたタイミングに基づいて、パルスレーザ光３１を出力してもよい。これにより、チャンバ２Ａ内のプラズマ生成領域２５で、ターゲット２７がパルスレーザ光３１に照射されてもよい。その結果、ターゲット２７がプラズマ化してもよい。このプラズマから放射された放射光２５１のうち、少なくともＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ光集光ミラー２３によって、接続部２９へ向けて選択的に反射されてもよい。
【００３４】
５．レーザ光透過型光学素子ホルダの基本構造
つぎに、上述した実施の形態におけるミラーホルダ１００の基本構造を、図面を用いて詳細に説明する。
【００３５】
５．１ 構成
図３は、図２に示されるウィンドウホルダ１００の分解図を示す。図４は、図３に示される第１部材１１０を第２部材１２０との接触面側から見た際の構成を示す。図５は、図３に示される第２部材１２０を第１部材１１０との接触面側から見た際の構成を示す。
【００３６】
図３に示されるように、ウィンドウホルダ１００は、第１部材１１０と、第２部材１２０と、ガスケット１３４、１４３および１４４と、複数のボルト１０１とを含んでもよい。ウィンドウ２１がダイヤモンド製である場合、第１部材１１０および第２部材１２０の材料には、アルミニウム、銅、ステンレス、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）などが用いられてもよい。ただし、これらの材料に限定されず、種々の材料が用いられてもよい。その際、十分な強度を有し、耐熱性に優れ、且つ、熱伝導率の高い材料が用いられるとよい。
【００３７】
図３および図４に示されるように、第１部材１１０は、円盤状の部材であってもよい。第１部材１１０は、２つの平面を備えてもよい。これら２つの平面は、平行であってもよいし、互いに傾いていてもよい。以下では、２つの平面のうち、第２部材１２０側に配される面を表面とし、チャンバ２Ａ側に配される面を裏面という。
【００３８】
第１部材１１０の表面および裏面は、それぞれ円形であってもよい。裏面の略中央部には、表面まで貫通する貫通孔１１１が開口していてもよい。貫通孔１１１の開口形状は、円形であってもよい。以下では、第１部材１１０の外周側で表面および裏面それぞれから連続する面を外側面といい、内周側で表面および裏面それぞれから連続する面を内側面という。
【００３９】
第１部材１１０の内部には、流路１１２が設けられていてもよい。流路１１２は、内側面に沿った略リング状の空洞であってもよい。前記表面に直交する方向での流路１１２の断面は、円形（楕円を含む）であってもよいし、四角形や三角形などの多角形であってもよい。流路１１２の一部は不連続であってもよい。流路１１２の不連続部分の２つの端は、それぞれ第１部材１１０の外側面で開口する流入出路１１３にそれぞれ連続していてもよい。各流入出路１１３には、冷却水循環装置１３０に連結された配管１３５が接続されてもよい。一方の流入出路１１３は、冷却水循環装置１３０から配管１３５を介して流れてきた冷却水が流路１１２へ流れ込むための流入路として使用されてもよい。他方の流入出路１１３は、流路１１２を通過した冷却水が冷却水循環装置１３０に接続された配管１３５へ流出するための流出路として使用されてもよい。
【００４０】
各流入出路１１３の開口部先端には、配管１３５と連結するためのジョイント１３１が取り付けられてもよい。ジョイント１３１は、貫通穴１３２と、ガスケット１３３とを備えていてもよい。ジョイント１３１は、不図示のボルトを用いて、第１部材１１０に取り付けられてもよい。または、ジョイント１３１は、不図示の螺子山を備え、この螺子山が第１部材１１０に設けられた不図示の螺子穴にねじ込まれることで第１部材に固定されてもよい。ガスケット１３３は、ジョイント１３１が第１部材１１０に取り付けられた際に、両者の間を気密に封止してもよい。貫通穴１３２は、ジョイント１３１が第１部材１１０に取り付けられることで、流入出路１１３と連通してもよい。
【００４１】
また、第１部材１１０の表面には、第２部材１２０を第１部材１１０に固定するためのボルト１０１がねじ込まれる螺子穴１１５が設けられてもよい。螺子穴１１５は、第１部材１１０を貫通していなくてもよい。さらに、第１部材１１０は、第１部材１１０をチャンバ２Ａの外壁に固定するためのボルト１０１が嵌挿される貫通孔１１６を備えてもよい。ボルト１０１は、不図示のワッシャを挟んで貫通孔１１６に嵌挿されてもよい。貫通孔１１６に嵌挿されたボルト１０１は、チャンバ２Ａの外壁に設けられた螺子穴２０６にねじ込まれてもよい。この際、第１部材１１０の貫通孔１１１は、チャンバ２Ａの開口２０１と位置合わせされるとよい。
【００４２】
第１部材１１０の裏面には、ガスケット１３４が嵌め込まれる溝１１４が設けられていてもよい。溝１１４は、ガスケット１３４の少なくとも一部が溝１１４全体から突出する程度の深さであるとよい。ガスケット１３４は、第１部材１１０をボルト１０１でチャンバ２Ａの外壁に固定した際、チャンバ２Ａの表面および溝１１４の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、第１部材１１０とチャンバ２Ａとの間が気密に封止され得る。ガスケット１３４は、たとえばオーリングであってもよい。このガスケット１３４は、フッ素系のゴム製であっても、銅などの金属製であってもよい。ただし、これらの材料に限定されず、ガスケットとして使用可能な材料であれば、種々の材料が適用され得る。
【００４３】
また、図３および図５に示されるように、第２部材１２０は、リング状の部材であってもよい。第２部材１２０は、２つの平面を備えてもよい。これら２つの平面は、平行であってもよい。以下では、少なくとも２つの平面のうち、パルスレーザ光３１の入射側を表面とし、第１部材１１０側に配される面を裏面という。
【００４４】
第２部材１２０の表面および裏面は、それぞれ円形であってもよい。裏面の略中央には、表面まで貫通する貫通孔１２１が開口していてもよい。貫通孔１２１の開口形状は、円形であってもよい。以下では、第２部材１２０の外周側で表面および裏面それぞれから連続する面を外側面といい、内周側で表面および裏面それぞれから連続する面を内側面という。
【００４５】
第２部材１２０の裏面には、ウィンドウ２１が嵌め込まれる溝１２２が設けられていてもよい。溝１２２は、貫通孔１２１に対して同心円となる位置に設けられてもよい。溝１２２の深さは、ウィンドウ２１の厚さと同程度であってもよい。溝１２２の底面には、貫通孔１２１を一周する溝１２３が設けられていてもよい。この溝１２３には、ガスケット１４３が嵌め込まれてもよい。溝１２３は、ガスケット１４３の少なくとも一部が溝１２３全体から突出する程度の深さであるとよい。
【００４６】
また、第２部材１２０の表面には、第２部材１２０を第１部材１１０に固定するためのボルト１０１が嵌挿される貫通孔１２５が設けられてもよい。ボルト１０１は、不図示のワッシャを挟んで貫通孔１２５に嵌挿されてもよい。貫通孔１２５に嵌挿されたボルト１０１は、第１部材１１０の表面に設けられた螺子穴１１５にねじ込まれてもよい。この際、第２部材１２０の貫通孔１２１は、第１部材１１０の貫通孔１１１と位置合わせされるとよい。
【００４７】
第２部材１２０の裏面には、ガスケット１４４が嵌め込まれる溝１２４が設けられていてもよい。溝１２４は、ガスケット１４４の少なくとも一部が溝１４４全体から突出する程度の深さであるとよい。ガスケット１４４は、第２部材１２０をボルト１０１で第１部材１１０の表面に固定した際、第１部材１１０の表面および溝１２４の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、第１部材１１０と第２部材１２０との間が気密に封止され得る。この際、溝１２３に嵌められたガスケット１４３も、ウィンドウ２１の表面および溝１２３の底面に密着するように変形し得るとよい。これにより、ウィンドウ２１と第２部材１２０との間が気密に封止され得る。ガスケット１４３および１４４は、たとえばオーリングであってもよい。これらのガスケット１４３および１４４は、フッ素系のゴム製であっても、銅などの金属製であってもよい。ただし、これらの材料に限定されず、ガスケットとして使用可能な材料であれば、種々の材料が適用され得る。
【００４８】
また、第２部材１２０をボルト１０１で第１部材１１０の表面に固定した際、ウィンドウ２１と第１部材１１０の表面とが接触してもよい。この接触面の形状は、貫通孔１１１の開口の中心を貫通方向に沿って通る軸に対して軸対称であってもよい。ウィンドウ２１と第１部材１１０との間は、気密であってもよいし、気密でなくてもよい。
【００４９】
なお、ＥＵＶ光生成システム１１Ａの運転時、チャンバ２Ａ内は、チャンバ２Ａ外よりも低圧であってもよい。ウィンドウ２１と第２部材１２０との間を気密に封止するオーリング（本例では、ガスケット１４３）は、ウィンドウ２１に対して高圧側の面に配されるとよい。一方、ウィンドウ２１における低圧側に配される面は、後述において具体例を挙げて説明するように、熱伝導効率が比較的高い構造で、部材（本例では、第１部材１１０）と接触しているとよい。部材を冷却する冷却水は、ウィンドウ２１に対して高圧側の面に接触する部材（本例では、第１部材１１０）を冷却するとよい。この際、冷却される部材（本例では、第１部材１１０）とウィンドウ２１との接触面積は、大きい方が好ましい。
【００５０】
５．２ 作用
以上のように、冷却される部材（本例では、第１部材１１０）とウィンドウ２１とが熱伝導効率が比較的高い構造で接触することで、通過するパルスレーザ光３１の一部を吸収することで加熱されたウィンドウ２１が効果的に冷却され得る。それにより、ウィンドウ２１の光学特性の低下を抑制し得る。
【００５１】
また、冷却される第１部材１１０をウィンドウ２１に対して低圧側の面に配することで、運転時に圧力差によってウィンドウ２１が第１部材１１０から離れることを防止し得る。それにより、より効率的にウィンドウ２１を冷却し得る。その際、ウィンドウ２１に対して高圧側の面が変形可能なガスケット１４３で封止されることで、チャンバ２Ａの気密性が低下することを防止し得る。
【００５２】
６．透過型光学素子とホルダとの接触形態
つぎに、上述した実施の形態におけるウィンドウ２１とウィンドウホルダ１００との接触形態について、いくつか具体例を挙げて説明する。
【００５３】
６．１ 光学素子がホルダに直接接触する場合
まず、ウィンドウ２１における低圧側に配される面がウィンドウホルダ１００と直接接触する場合について例を挙げる。図６は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面がウィンドウホルダ１００と直接接触する構成を概略的に示す。
【００５４】
図６に示されるように、ウィンドウ２１は、低圧側の面で第１部材１１０と直接接触してもよい。この直接接触部分２１１は、第１部材１１０とウィンドウ２１との間を気密に封止してもよいし、封止していなくてもよい。冷却される第１部材１１０とウィンドウ２１とが直接接触することで、ウィンドウ２１の熱が第１部材１１０へ効率的に流れ得る。それにより、ウィンドウ２１が効率的に冷却され得る。
【００５５】
なお、ウィンドウ２１およびウィンドウホルダ１００部分の気密性は、ガスケット１４３、１４４および１３４によって保持されてもよい。すなわち、ガスケット１４３が第２部材１２０とウィンドウ２１との間の気密性を保持し、ガスケット１４４が第２部材１２０と第１部材１１０との間の気密性を保持し、ガスケット１３４が第１部材１１０とチャンバ２Ａとの間の気密性を保持してもよい。このような構成によれば、チャンバ２Ａ内を低圧にすることでウィンドウ２１が低圧側に付勢された場合でも、変形可能なガスケット１４３が第２部材１２０とウィンドウ２１との間の気密性を保持し得る。その結果、チャンバ２Ａの気密性を保持することができる。
【００５６】
６．２ 光学素子がホルダに金属を介して接触する場合
つぎに、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間に熱伝導率の高い部材を介在させた場合について例を挙げる。図７は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間に熱伝導率の高い部材が介在する構成を概略的に示す。
【００５７】
図７に示されるように、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間には、接触部材２１２が設けられても良い。接触部材２１２は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面および第１部材１１０それぞれと直接接触していても良い。接触部材２１２とウィンドウ２１との間、および、接触部材２１２と第１部材１１０との間は、それぞれ気密に封止されていてもよいし、封止されていなくてもよい。
【００５８】
接触部材２１２は、金属などの比較的高い熱伝導率を備えた材料で構成されてもよい。これにより、ウィンドウ２１の熱が第１部材１１０へ効率的に流れ得る。その結果、ウィンドウ２１が効率的に冷却され得る。
【００５９】
接触部材２１２は、金（Ａｕ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）などの比較的柔らかい材料で構成されてもよい。その場合、接触部材２１２とウィンドウ２１との接触面積および接触部材２１２と第１部材１１０との接触面積を大きくすることができる。その結果、ウィンドウ２１から第１部材１１０への熱伝導効率を高めることが可能となり、ウィンドウ２１をより効率的に冷却することが可能となる。また、接触部材２１２とウィンドウ２１との間の気密性および接触部材２１２と第１部材１１０との間の気密性を高めることが可能となり得る。
【００６０】
６．３ 光学素子がホルダにロウ付けされる場合
つぎに、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間をロウ付けする場合について例を挙げる。図８は、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間がロウ付けされた構成を概略的に示す。
【００６１】
図８に示されるように、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００との間には、ロウ付けにより形成されたロウ付け部分２１３が介在してもよい。ロウ付けに使用する材料は、たとえば半田や銀ろうなどであってもよい。その場合、ウィンドウ２１における低圧側に配される面とウィンドウホルダ１００とが直接接触する場合よりも両者の接触面積を大きくできる場合がある。その結果、ウィンドウ２１から第１部材１１０への熱伝導効率を高めることが可能となり、ウィンドウ２１をより効率的に冷却することが可能となる。また、ウィンドウ２１と第１部材１１０との間の気密性を高めることが可能となる場合もある。
【００６２】
７．レーザ光透過型光学素子ホルダの他の構造例
上述した実施の形態では、チャンバ２Ａの外壁にウィンドウホルダ１００が保持されていた。ただし、これに限定されるものではなく、チャンバ２Ａの内壁にウィンドウホルダ１００が保持されてもよい。図９は、チャンバ２Ａ内部でウィンドウ２１を保持するウィンドウホルダ１００Ａの断面構成を概略的に示す。図１０は、図９に示される第１部材１１０Ａを第２部材１２０との接触面側から見た際の構成を示す。なお、第２部材１２０は、たとえば図５に示される第２部材１２０と同様の構成であってよい。
【００６３】
図９および図１０に示されるように、第１部材１１０Ａは、チャンバ２Ａの内壁に、ボルト１０１を用いて固定されてもよい。チャンバ２Ａの内壁と第１部材１１０Ａとの間は、溝１１４ａに嵌め込まれたガスケット１３４によって気密に封止されるとよい。
【００６４】
第１部材１１０Ａは、チャンバ２Ａに固定される側の面に、第２部材１２０を収容する溝１１７を備えてもよい。溝１１７の開口径は、チャンバ２Ａの開口２０１の開口径に対して、小さくてもよいし、大きくてもよい。溝１１７の開口径が開口２０１の開口径よりも小さい場合、溝１１７の深さは、第２部材１２０の厚さよりも深いことが好ましい。第２部材１２０は、溝１１７の底面に、ボルト１０１を用いて固定されてもよい。溝１１７の底面に対する第２部材１２０の取り付けは、上述したウィンドウホルダ１００と同様であってよい。
【００６５】
第１部材１１０Ａ内部の流路１１２とジョイント１３１とを連通する流入出路１１３Ａは、流路１１２の端部からそれぞれ延出する第１路１１３ａと、第１路１１３ａからカーブして第１部材１１０Ａの表面で開口する第２路１１３ｂとを含んでもよい。第２路１１３ｂの開口部には、ジョイント１３１が取り付けられてもよい。これにより、第２路１１３ｂと貫通穴１３２とが連通してもよい。なお、チャンバ２Ａには、ジョイント１３１を嵌設するための貫通穴が設けられてもよい。
【００６６】
第１部材１１０Ａおよびチャンバ２Ａ間を封止するガスケット１３４が嵌め込まれる溝１１４ａは、溝１１７および第２路１１３ｂとジョイント１３１との接続部を取り囲むように設けられてもよい。これにより、第１部材１１０Ａおよびチャンバ２Ａ間が気密に封止され得る。また、第２路１１３ｂとジョイント１３１との間から冷却水が漏れ出たとしても、この冷却水がチャンバ２Ａ内に流れ込むことを防止し得る。なお、溝１１７は、第１部材１１０Ａの表面に設けられても、チャンバ２Ａの内壁に設けられてもよい。
【００６７】
８．透過型光学素子が集光レンズの場合
また、上述した実施の形態では、パルスレーザ光３１の入出射面が互いに平行な平行平板、または、これらが互いに傾いているウェッジ基板が、ウィンドウ２１に用いられた場合を例示した。ただし、これに限定されるものではない。たとえば、ウィンドウ２１の代わりに、少なくとも一方の入出射面が凸面の集光レンズが用いられてもよい。
【００６８】
図１１は、ウィンドウに集光レンズ２１Ｂを用いた場合のウィンドウホルダ１００Ａの断面構成を概略的に示す。図１１に示されるように、ウィンドウホルダ１００Ａは、第２部材１２０の代わりに第２部材１２０Ａを備えてもよい。ウィンドウホルダ１００Ａは、ウィンドウ２１の代わりに集光レンズ２１Ｂを保持してもよい。第１部材１１０は、ウィンドウホルダ１００の第１部材１１０と同様であってよい。ウィンドウホルダ１００Ａは、チャンバ２Ａに直接固定されるのではなく、チャンバ２Ａに設けられた可動フランジ２４１に固定されてもよい。
【００６９】
図１２は、図１１に示される集光レンズ２１Ｂの構成を概略的に示す斜視図である。図１２に示されるように、集光レンズ２１Ｂは、少なくとも一方の入出射面２１ａが凸面であってもよい。この集光レンズ２１Ｂは、たとえばダイヤモンド製であってもよい。
【００７０】
図１３は、図１１に示される第２部材１２０Ａの構成を概略的に示す斜視図である。図１１および図１３に示されるように、第２部材１２０Ｂの溝１２２の底面は、集光レンズ２１Ｂの入出射面２１ａの歪曲形状と一致するように歪曲していてもよい。第２部材１２０Ａと集光レンズ２１Ｂとの間を気密に封止するためのガスケット１３４は、溝１２２あａの歪曲する底面に形成された溝１２４に嵌め込まれてもよい。その他の構成は、第２部材１２０と同様であってもよい。
【００７１】
また、図１１に示されるように、集光レンズ２１Ｂと第１部材１１０とは、上述において図６〜図８を用いて説明した接触形態のいずれの形態で接触していてもよい。第１部材１１０は、チャンバ２Ａの可動フランジ２４１の先端に設けられたリング状基板２４２に固定されてもよい。リング状基板２４２に対する第１部材１１０の取り付けは、上述したチャンバ２Ａに対する第１部材１１０の取り付けと同様であってもよい。
【００７２】
可動フランジ２４１は、蛇腹状の筒であってもよい。可動フランジ２４１の一方の開口部は、チャンバ２Ａの開口２０１を囲む位置に固定されてもよい。リング状基板２４２は、可動フランジ２４１の他方の開口に取り付けられてもよい。可動フランジ２４１は、不図示の駆動機構によってリング状基板２４２の３次元位置を変化させるように変形可能であってもよい。
【００７３】
以上のような構成とすることで、ウィンドウ２１の代わりに集光レンズ２１Ｂを用いた場合でも、上述した実施の形態と同様の効果を得ることが可能となる。
【００７４】
９．接触面の形態
つぎに、上述した実施の形態におけるウィンドウ２１（または集光レンズ２１Ｂ）と第１部材１１０（または第１部材１１０Ａ）もしくは接触部材２１２との接触面の形態を、以下にいくつかの例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが直接接触する場合を引用するが、これに限定されず、他の組合せも同様であってよい。
【００７５】
９．１ 面接触
まず、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが面接触する場合の例を説明する。図１４は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが面接触する場合の例を示す。図１４に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が一様に接触する面接触２３１を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１における少なくとも第１部材１１０と接触する領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されてもよい。同様に、第１部材１１０における少なくともウィンドウ２１と接触する領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されていてもよい。
【００７６】
ウィンドウ２１と第１部材１１０とが重なり合う領域で一様な面接触２３１を形成することで、ウィンドウ２１と第１部材１１０との接触面積を大きくすることが可能となる。これにより、ウィンドウ２１を効率よく冷却することが可能となる。
【００７７】
なお、ウィンドウ２１と第１部材１１０との面接触２３１の形状は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。接触面を回転対称とすることで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００７８】
９．２ 点接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の点で接触する場合の例を説明する。図１５は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが点接触する場合の例を示す。図１５に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が多数の点で接触する点接触２３２を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、無数の突起が形成されていてもよい。この領域の突起は、たとえばサンドブラストなどで形成されてもよい。
【００７９】
突起の分布は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。突起が回転対称で分布することで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８０】
９．３ 線接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが１つ以上の線で接触する場合の例を説明する。図１６は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが線接触する場合の例を示す。図１６に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域が貫通孔１１１と同心円である１つ以上の複数の線で接触する線接触２３３を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、貫通孔１１１と同心円である１つ以上の円状の隆起部が形成されていてもよい。
【００８１】
隆起部は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。隆起部が回転対称であることで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８２】
９．４ 複数の面で接触
つぎに、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の分断された面で接触する場合の例を説明する。図１７は、ウィンドウ２１と第１部材１１０とが複数の面で接触する場合の例を示す。図１７に示されるように、ウィンドウ２１と第１部材１１０とは、重なり合う領域における複数の分断された領域で接触する面接触２３４を形成してもよい。その場合、ウィンドウ２１および第１部材１１０の少なくとも一方における接触する領域には、複数の島状の隆起部が形成されていてもよい。
【００８３】
隆起部の上面は、比較的高い平坦性を備えているとよい。また、複数の隆起部の上面のレベルは、均一であるとよい。この平坦性および均一性は、たとえば研磨などによって向上されてもよい。また、ウィンドウ２１および第１部材１１０のうち隆起部が形成されていない方の接触領域は、比較的高い平坦性を備えているとよい。この領域の平坦性は、たとえば研磨などによって向上されていてもよい。
【００８４】
島状の隆起部の分布は、貫通孔１１１の中心軸とした回転対称であってもよい。隆起部が回転対称で分布することで、ウィンドウ２１を周囲から均等に冷却することが可能となる。その結果、ウィンドウ２１の光学特性をより安定化させることが可能となる。なお、この際、ウィンドウ２１を通過するパルスレーザ光３１の光軸は、貫通孔１１１の中心軸と実質的に一致しているとよい。これにより、ウィンドウ２１をより均等に冷却することが可能となるため、その光学特性をより安定化させることが可能となる。
【００８５】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施の形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【００８６】
本明細書および添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、限定的でない用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」または「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書および添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」または「１もしくはそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００８７】
１、１Ａ ＥＵＶ光生成装置
１１、１１Ａ ＥＵＶ光生成システム
２、２Ａ チャンバ
２ａ、２ｂ 部屋
３ レーザ装置
４ ターゲットセンサ
５、５Ａ ＥＵＶ光生成制御部
５１ ＥＵＶ光生成制御部
５２ ターゲット制御部
６ 露光装置
２１ ウィンドウ
２１Ｂ 集光レンズ
２１ａ 入出射面
２２、２２Ａ レーザ光集光光学系
２２１ 高反射ミラー
２２２、２２３ ミラーホルダ
２２４ レーザ光集光ミラー
２２５ 移動プレート
２２６ プレート移動機構
２３ ＥＵＶ光集光ミラー
２３ａ ミラーホルダ
２４ 貫通孔
２５ プラズマ生成領域
２６ ドロップレット生成器
２７ ターゲット
２８ ターゲット回収部
２９ 接続部
２９１ 壁
２９２ 中間焦点（ＩＦ）
３１ パルスレーザ光
３４ ビームデリバリシステム
３４１、３４２ 高反射ミラー
８０ 隔壁
８１ 貫通孔
８２ ビームダンパ
８３ 支持部材
１００、１００Ａ ウィンドウホルダ
１０１ ボルト
１１０、１１０Ａ 第１部材
１１１ 貫通孔
１１２ 流路
１１３ 流入出路
１１３ａ 第１路
１１３ｂ 第２路
１１４、１１４ａ 溝
１１５、１１６ 螺子穴
１２０、１２０Ｂ 第２部材
１２１ 貫通孔
１２２、１２２ａ、１２３、１２３ａ、１２４ 溝
１２５ 螺子穴
１３０ 冷却水循環装置
１３１ ジョイント
１３２ 貫通穴
１３３ ガスケット
１３４、１４３、１４４ ガスケット
１３５ 配管
２０１ 開口
２１１ 直接接触部分
２１２ 接触部材
２１３ ロウ付け部分
２２１ 可動フランジ
２２２ リング状基板
２３１、２３４ 面接触
２３２ 点接触
２３３ 線接触
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、
前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、
前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、
を備える、ホルダ装置。
【請求項２】
前記第１部と前記光学素子とは、直接接触する、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項３】
前記第１部と前記光学素子との接触は、面接触、点接触、線接触のいずれか１つを含む、請求項２記載のホルダ装置。
【請求項４】
前記ホルダ部は、前記光学素子の中央部をレーザ光が透過可能に開口する開口部を備え、
前記第１部材と前記光学素子の接触面は、前記開口部の中心を通る軸に対して実質的に回転対称である、請求項２記載のホルダ装置。
【請求項５】
前記第１部と前記光学素子との間に配され、該第１部および該光学素子それぞれと直接接触する接触部材をさらに備える、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項６】
前記第１部と前記光学素子とは、ロウ付けされている、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項７】
前記ホルダ部は、前記第１部を含む第１部材と、前記第２部を含む第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間を封止する第２封止部材とを含む、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項８】
前記光学素子は、ダイヤモンド製である、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項９】
前記光学素子は、ウィンドウである、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１０】
前記光学素子は、レンズである、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１１】
前記第１部近傍に冷却媒体を循環可能な流路を備える、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１２】
前記第１部と前記第２部とは、前記光学素子の外縁部を挟むように配され、
前記流路は、前記光学素子の前記外縁部に沿って延在する第１流路と、該第１流路から延在して前記ホルダ部の外表面で開口する第２流路とを含む、
請求項１１記載のホルダ装置。
【請求項１３】
前記第２流路に対して着脱可能な配管と、
前記配管へ冷却媒体を供給可能な冷却媒体供給部と、
をさらに備える、請求項１２記載のホルダ装置。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか一つに記載のホルダ装置と、
前記圧力隔壁を含むチャンバと、
前記ホルダ部と前記圧力隔壁との間を封止する第３封止部材と、
を備える、チャンバ装置。
【請求項１５】
請求項１４記載のチャンバ装置と、
レーザ光を出力するレーザ装置と、
前記チャンバ内部にターゲットを供給するターゲット供給装置と、
前記レーザ装置から出力された前記レーザ光を前記チャンバ内部の前記ターゲットに前記光学素子を介して集光させる光学系と、
を備える、極端紫外光生成装置。
【請求項１】
圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、
前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、
前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、
を備える、ホルダ装置。
【請求項２】
前記第１部と前記光学素子とは、直接接触する、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項３】
前記第１部と前記光学素子との接触は、面接触、点接触、線接触のいずれか１つを含む、請求項２記載のホルダ装置。
【請求項４】
前記ホルダ部は、前記光学素子の中央部をレーザ光が透過可能に開口する開口部を備え、
前記第１部材と前記光学素子の接触面は、前記開口部の中心を通る軸に対して実質的に回転対称である、請求項２記載のホルダ装置。
【請求項５】
前記第１部と前記光学素子との間に配され、該第１部および該光学素子それぞれと直接接触する接触部材をさらに備える、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項６】
前記第１部と前記光学素子とは、ロウ付けされている、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項７】
前記ホルダ部は、前記第１部を含む第１部材と、前記第２部を含む第２部材と、前記第１部材と前記第２部材との間を封止する第２封止部材とを含む、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項８】
前記光学素子は、ダイヤモンド製である、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項９】
前記光学素子は、ウィンドウである、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１０】
前記光学素子は、レンズである、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１１】
前記第１部近傍に冷却媒体を循環可能な流路を備える、請求項１記載のホルダ装置。
【請求項１２】
前記第１部と前記第２部とは、前記光学素子の外縁部を挟むように配され、
前記流路は、前記光学素子の前記外縁部に沿って延在する第１流路と、該第１流路から延在して前記ホルダ部の外表面で開口する第２流路とを含む、
請求項１１記載のホルダ装置。
【請求項１３】
前記第２流路に対して着脱可能な配管と、
前記配管へ冷却媒体を供給可能な冷却媒体供給部と、
をさらに備える、請求項１２記載のホルダ装置。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか一つに記載のホルダ装置と、
前記圧力隔壁を含むチャンバと、
前記ホルダ部と前記圧力隔壁との間を封止する第３封止部材と、
を備える、チャンバ装置。
【請求項１５】
請求項１４記載のチャンバ装置と、
レーザ光を出力するレーザ装置と、
前記チャンバ内部にターゲットを供給するターゲット供給装置と、
前記レーザ装置から出力された前記レーザ光を前記チャンバ内部の前記ターゲットに前記光学素子を介して集光させる光学系と、
を備える、極端紫外光生成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１３−１１５１７６（Ｐ２０１３−１１５１７６Ａ）
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２５９０００（Ｐ２０１１−２５９０００）
【出願日】平成２３年１１月２８日（２０１１．１１．２８）
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月２８日（２０１１．１１．２８）
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
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