ポリマーフィルムの性状調整装置
【課題】光学特性が均一であり、湿熱耐久試験の前後におけるレターデーションの変動が小さい位相差フィルムを製造する。
【解決手段】供給室４に収納されるＴＡＣフィルム３はテンタ部５に送られる。テンタ部５はＴＡＣフィルム３をＹ方向に延伸する。テンタ部５から送り出されたＴＡＣフィルム３は性状調整装置６に送られる。性状調整装置６には水蒸気接触ケーシング４０が設けられる。水蒸気供給機６４は水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０の内部へ供給する。水蒸気接触ケーシング４０には入口４１及び出口４２が形成される。入口４１から出口４２にかけてフィルム搬送路が形成される。水蒸気接触ケーシング４０の内壁面における入口４１及び出口４２の上部には、受け部５１、５２が設けられる。受け部５１、５２は、結露によって水蒸気接触ケーシング４０の内壁面に生じ、フィルム搬送路に向かって流下する水滴を受ける。
【解決手段】供給室４に収納されるＴＡＣフィルム３はテンタ部５に送られる。テンタ部５はＴＡＣフィルム３をＹ方向に延伸する。テンタ部５から送り出されたＴＡＣフィルム３は性状調整装置６に送られる。性状調整装置６には水蒸気接触ケーシング４０が設けられる。水蒸気供給機６４は水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０の内部へ供給する。水蒸気接触ケーシング４０には入口４１及び出口４２が形成される。入口４１から出口４２にかけてフィルム搬送路が形成される。水蒸気接触ケーシング４０の内壁面における入口４１及び出口４２の上部には、受け部５１、５２が設けられる。受け部５１、５２は、結露によって水蒸気接触ケーシング４０の内壁面に生じ、フィルム搬送路に向かって流下する水滴を受ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマーフィルムの性状調整装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーフィルム（以下、フィルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学フィルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレート、特に５７．５％〜６２．５％の平均酢化度を有するセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣと称する）から形成されるＴＡＣフィルムは、その強靭性と難燃性とから写真感光材料のフィルム用の支持体として利用されている。また、ＴＡＣフィルムは光学等方性に優れることから、市場が急激に拡大している液晶表示装置の偏光板の保護フィルム，位相差フィルム，及び視野角拡大フィルムなどの光学フィルムに用いられている。
【０００３】
フィルムの主な製造方法として、溶液製膜方法や溶融製膜方法が知られている。溶液製膜方法は、ポリマーと溶剤とを含むポリマー溶液（以下、ドープと称する）を支持体上に流延し、流延膜を形成し、流延膜が自己支持性を有するものとなった後、これを支持体から剥がして湿潤フィルムとし、湿潤フィルムを乾燥しフィルムとして巻き取る方法である。溶液製膜方法は、溶解したポリマーを押出機で押し出してフィルムを製造する溶融押出方法と比べて、光学特性の等方性や膜厚の均一性に優れるとともに、含有異物の少ないフィルムを得ることができるため、フィルム、特に光学機能性フィルムの製造方法には、溶液製膜方法が採用されている。
【０００４】
また、溶液製膜方法は、流延膜に自己支持性を発現させる方法により、乾燥方式と冷却ゲル化方式とに大別される。乾燥方式は、流延膜の残留溶剤量を所定の範囲になるまで、支持体上の流延膜から溶剤を蒸発させるものである。一方、冷却ゲル化方式では、支持体上の流延膜を冷却して、流延膜をなすドープをゲル化させるものである（例えば、特許文献１）。
【０００５】
更に、フィルムの光学特性の調整方法として、フィルムを水中に浸漬する、或いはフィルムを水蒸気に曝し、含水率が所定の範囲内となったフィルムを延伸する方法等が知られている（例えば、特許文献２、３）。
【特許文献１】特開２００２−１７９８１９号公報
【特許文献２】特開２００３−９０９１５号公報
【特許文献３】特開２００３−６２８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、液晶表示装置に対して、所定の環境条件下で一定の特性、品質を確保できるか否かを調べる湿熱耐久試験が行われる。同様にして、液晶表示装置等に用いられるフィルムに対しても、湿熱耐久試験が行われる。ところが、このフィルムに湿熱耐久試験を行うと、フィルムの光学特性が変動してしまうことがわかった。特に、高温高湿の条件（例えば、温度６０℃以上湿度９０％ＲＨ）下における湿熱耐久試験の前後において、厚み方向のレターデーションＲｔｈの変動量が増大する結果、フィルムのレターデーションＲｔｈが液晶表示装置に適した範囲から大きく外れてしまう現象が多発した。
【０００７】
特許文献１には、溶液製膜方法によって得られたフィルムに加湿処理を施して、高温高湿環境下におけるフィルムの寸法変化を抑制する方法が開示されている。これは、フィルムの含水率の増大に起因してガラス転移温度Ｔｇが低下する現象を利用して、フィルム内の歪を除去するものである。このような加湿処理を行うことにより、位相差フィルムにおいて重要な光学特性である面内レターデーションＲｅや厚み方向のレターデーションＲｔｈが変動すると考えられるが、特許文献１では、加湿処理に起因するレターデーションＲｅ、Ｒｔｈの変動について言及していない。したがって、特許文献１に記載の方法は、位相差フィルムのレターデーションＲｅ、Ｒｔｈの変動を考慮したものではない。
【０００８】
また、特許文献２、特許文献３に記載の方法は、λ／４近傍のレターデーションＲｅで異なったＮｚファクターを得るフィルムの製造方法に関するものであり、湿熱耐久試験前後における光学特性の変動を抑えることを考慮したものではない。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するものであり、湿熱耐久試験前後におけるレターデーションＲｔｈの変動量が小さい位相差フィルムを製造することのできるポリマーフィルムの性状調整装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のポリマーフィルムの性状調整装置は、外ケーシングと、この外ケーシングの中空部に配される内ケーシングと、この内ケーシングの中空部へ水蒸気を供給する水蒸気供給部と、前記外ケーシングの中空部のうち、前記内ケーシングの外側にある第１雰囲気の温度が前記内ケーシングの中空部にある第２雰囲気の露点よりも高い状態となるように、前記第１雰囲気の温度を調節する雰囲気温度調節部と備えることを特徴とする。
【００１１】
前記内ケーシングに断熱材を設けることが好ましい。また、前記内ケーシングの温度が前記第１雰囲気の露点より高い状態となるように、前記内ケーシングの温度を調節する内ケーシング温度調節部を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、延伸処理を施されたポリマーフィルムに水蒸気を接触させる水蒸気接触処理を行うため、湿熱耐久試験前後におけるレターデーションＲｔｈの変動が小さい光学フィルムを製造することが可能になる。また、水蒸気接触処理が行われるケーシングは、貫通孔及びこの貫通孔よりも上方に受け部を有するため、結露によってケーシングに生じた水滴が貫通孔に向かって流れても、受け部がこの水滴を受け止める結果、水滴は貫通孔を通過するポリマーフィルムに到達しない。したがって、本発明によれば、ポリマーフィルムの表面に異物が付着しにくいため、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（オフライン延伸設備）
図１に示すように、オフライン延伸設備２は、ＴＡＣフィルム３を延伸するものであり、供給室４と、テンタ部５と、性状調整装置６と、冷却室７と、巻取室８とを備える。供給室４には、後述するフィルム製造設備で製造された長尺状のＴＡＣフィルム３が巻き芯に巻き取られた状態で収納されている。供給ローラ９は、巻き芯からＴＡＣフィルム３を取り出して、テンタ部５に供給する。
【００１４】
（テンタ部）
図２に示すように、テンタ部５は、ＴＡＣフィルム３をＸ方向に搬送するフィルム搬送路を有し、このフィルム搬送路にあるＴＡＣフィルム３をＸ方向と直交する方向（以下、Ｙ方向と称する）に延伸する延伸処理を行うものであり、第１レール１１と、第２レール１２と、これらレール１１，１２に案内される１対のエンドレスチェーン（以下、第１、第２チェーンと称する）１３，１４とを備えている。第１、第２チェーン１３,１４には、複数のクリップ１５が一定の間隔で取り付けられている。
【００１５】
レール１１、１２は、フィルム搬送路のＹ方向両端に沿うように設けられ、フィルム搬送路を介して互いに対向するように配される。レール１１，１２のＸ方向上流側には、テンタ入口２６が設けられ、レール１１，１２のＸ方向下流側には、テンタ出口２７が設けられる。テンタ出口２７のフィルム搬送路のＹ方向両側には、原動スプロケット２１，２２が設けられ、テンタ入口２６のフィルム搬送路のＹ方向両側には、従動スプロケット２３，２４が設けられる。第１、第２チェーン１３,１４は、原動スプロケット２１，２２及び従動スプロケット２３，２４の間に掛け渡されており、これらスプロケット２１〜２４の間では、第１チェーン１３は第１レール１１によって、第２チェーン１４は第２レール１２によって案内される。各スプロケット２１〜２２が回転すると、第１、第２チェーン１３、１４はレール１１、１２に沿って移動する。第１、第２チェーン１３、１４の移動により、クリップ１５はレール１１、１２に沿って移動する。
【００１６】
テンタ入口２６近傍のレール１１，１２には把持開始位置Ｐａが設けられ、テンタ出口２７近傍のレール１１，１２には把持解除位置Ｐｂが設けられる。クリップ１５が把持開始位置Ｐａを通過すると、クリップ１５はＴＡＣフィルム３の耳部を把持する状態となる。そして、クリップ１５が把持解除位置Ｐｂを通過すると、クリップ１５はＴＡＣフィルム３の耳部の把持を解除する状態となる。レール１１，１２は、把持解除位置ＰｂにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗｂが、把持開始位置ＰａにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗａよりも大きくなるように配される。各レール１１，１２に沿って移動するクリップ１５により、把持開始位置Ｐａから把持解除位置Ｐｂでは、ＴＡＣフィルム３はＹ方向に延伸される。なお、Ｘ方向における位置Ｐａ及び位置Ｐｂの間に位置Ｐｃを設け、この位置ＰｃにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗｃが、幅Ｗａより大きくなるようにレール１１、１２を配してもよい。幅Ｗｃは、幅Ｗｂよりも大きくてもよいし、幅Ｗｂと等しくてもよい。
【００１７】
図示しない空調機により、テンタ部５の内部の雰囲気の条件を所定範囲内で一定となるように保持する。また、必要に応じて、テンタ部５を、Ｘ方向で複数のゾーンを分けて、ゾーン毎に、フィルム加熱条件を変えるようにしてもよい。例えば、Ｘ方向に順に、ＴＡＣフィルム３を予熱するための予熱ゾーン、延伸可能な程度までＴＡＣフィルム３を加熱するための加熱ゾーン、及びＴＡＣフィルム３を延伸する延伸ゾーンを設けてもよいし、これらに加えて、ＴＡＣフィルム３の延伸を停止し、ＴＡＣフィルム３に残留する歪が緩和するようにＴＡＣフィルム３を加熱する熱緩和ゾーンを、延伸ゾーンよりもＸ方向下流側に設けてもよい。
【００１８】
図１に示すように、テンタ部５と性状調整装置６との間には、耳切装置３０が設けられる。耳切装置３０は、ＴＡＣフィルム３のＹ方向（図２参照）の側縁部をスリット状の耳屑として切り離す。耳切装置３０に接続するカットブロア３１は、この耳屑を細かく切断する。図示しない風送装置は、カットブロア３１を経た耳屑をクラッシャ３２に送り、クラッシャ３２は耳屑を更に細かく切断して、チップとする。このチップはドープ調製用に再利用されるので、この方法はコストの点において有効である。
【００１９】
性状調整装置６に送られたＴＡＣフィルム３には所定の処理が施され、ＴＡＣフィルム３は光学フィルム３５となる。性状調整装置６にて行われる所定の処理の詳細は後述する。光学フィルム３５は、冷却室７に送られ、所定の温度になるまで冷却された後、巻取室８に送られる。
【００２０】
巻取室８には、巻取り軸を有する巻取機３６とプレスローラ３７とが設けられている。巻取り軸には巻き芯３６ａが取り付けられる。巻取室８に送られた光学フィルム３５は、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００２１】
（性状調整装置）
図１に示すように、性状調整装置６は性状調整ケーシング６ａを有する。性状調整ケーシング６ａの中空部には水蒸気接触ケーシング４０が設けられる。
【００２２】
（水蒸気接触ケーシング）
水蒸気接触ケーシング４０は、ステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ３０４）等から形成され、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を側面に有する。水蒸気接触ケーシング４０の天井は、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を有する側面に向かうに従って低くなるように形成される。また、複数のローラ４３は、水蒸気接触ケーシング４０の中空部に設けられ、第１貫通孔４１から第２貫通孔４２に向かって千鳥状に並べられる。複数のローラ４３により、水蒸気接触ケーシング４０には、第１貫通孔４１から第２貫通孔４２にかけてフィルム搬送路が形成される。第１貫通孔４１の上方及び第２貫通孔４２よりも上方の水蒸気接触ケーシング４０の内部には、第１受け部５１及び第２受け部５２がそれぞれ設けられる。
【００２３】
複数のローラ（図示しない）は、性状調整ケーシング６ａの中空部に設けられ、第１貫通孔４１からＸ方向の上流側に向かって、及び第２貫通孔４２からＸ方向の下流側に向かって、それぞれ並べられる。これらの複数のローラにより、性状調整ケーシング６ａにはフィルム搬送路が形成される。性状調整ケーシング６ａのフィルム搬送路は、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を介して、水蒸気接触ケーシング４０のフィルム搬送路と接続する。
【００２４】
図３及び図４に示すように、第２受け部５２は、受け板５２ａ及び第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄから構成される。受け板５２ａは水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａから突出するように設けられる。受け板５２ａの突出方向は、内壁面４０ａから水平方向でもよいし、内壁面４０ａから水平方向に対し斜め上の方向でもよい。また、受け板５２ａの上面の高さは、Ｙ方向において一定でもよいし、Ｙ方向において異なっていてもよい。Ｙ方向における受け板５２ａの長さは、水蒸気接触ケーシング４０のフィルム搬送路のＹ方向における長さよりも長いことが好ましい。
【００２５】
第１〜第２側板５２ｂ〜５２ｃは略垂直に設けられ、受け板５２ａのＹ方向の両端部に配される。第３側板５２ｄは略垂直に設けられ、受け板５２ａのＸ方向の下流側に配される。こうして、第２貫通孔４２よりも上方には、受け板５２ａ、第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄ、及び内壁面４０ａに囲まれる第２溜め部５７が形成される。なお、第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄを省略してもよい。
【００２６】
また、受け板５２ａよりも上方の内壁面４０ａには、内壁面４０ａにある水滴を第２溜め部５７に案内する凸条６１が設けられる。凸条６１は、垂直方向に形成され、第２溜め部５７まで伸びている。凸条６１は垂直方向に対し斜めの方向に形成されてもよい。
【００２７】
受け板５２ａには図示しない貫通孔が厚み方向に形成され、この貫通孔には排水管６２が挿通される。なお、受け板５２ａの上面が水平方向と交差する場合には、受け板５２ａの上面のうち最も低い部分を貫通するように、貫通孔を設けることが好ましい。
【００２８】
各溜め部５６、５７に溜まった水は、排水管６２を介して、外部へ排出される。なお、排出した水を水蒸気供給機へ送り、所定の処理を経た後、水蒸気として再利用してもよい。
【００２９】
同様にして、第１貫通孔４１よりも上方にも、第１受け部５１により、第２溜め部５７と同様の第１溜め部５６（図１参照）が形成される。そして、図示は省略するが、第１貫通孔４１よりも上方の内壁面にも、凸条６１と同様の凸条が設けられる。
【００３０】
（水蒸気供給機）
図１に示すように、水蒸気供給機６４は、加熱部、制御部、及び送り部を有する。加熱部は、水を加熱して所定の温度の水蒸気４００を得る。送り部は、所定の流量の水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０の中空部へ供給する。制御部は、水蒸気接触ケーシング４０の中空部に設けられた温湿度センサから、温度及び湿度を読み取る。そして、制御部は、読み取った温度及び湿度に基づいて、水蒸気接触ケーシング４０の中空部の雰囲気の温度Ｔ１及び湿度Ｈ１が所望の範囲となるように、加熱部による加熱量や、送り部による流量を調節する。
【００３１】
次に、オフライン延伸設備２における本発明の作用について説明する。図１に示すように、供給ローラ９は、供給室４からＴＡＣフィルム３をテンタ部５に供給する。
【００３２】
図２に示すように、図示しない空調機は、テンタ部５内の雰囲気の温度、湿度等を調節する。これにより、テンタ部５を通過するＴＡＣフィルム３の温度を所望の範囲内に調節することができる。図示しない駆動機構は、スプロケット２１〜２４を回転駆動し、第１、第２チェーン１３、１４は、第１、第２レール１１、１２に沿って移動する。第１、第２チェーン１３、１４に取り付けられるクリップ１５は、把持開始位置ＰａにてＴＡＣフィルム３の方向Ｙの両側縁部を把持し、把持解除位置Ｐｂにて両側縁部の把持を解除する。こうして、テンタ部５では、把持開始位置Ｐａから把持解除位置Ｐｂまでの間で、方向Ｙへの延伸処理がＴＡＣフィルム３に施される。テンタ部５におけるＴＡＣフィルム３の延伸率Ｌｘ｛＝（Ｗｂ／Ｗａ）×１００｝は、１００．５％以上３００％以下であることが好ましく、１１０％以上１８０％以下であることがより好ましい。
【００３３】
図１に示すように、テンタ部５から送られたＴＡＣフィルム３は、耳切装置３０により、両側縁部が切り離され、性状調整装置６へ送られる。性状調整装置６にて所定の処理が行われる。この処理の詳細は後述する。性状調整装置６から送り出されたＴＡＣフィルム３は冷却室７に送られる。ＴＡＣフィルム３は、冷却室７で略室温まで冷却される。冷却されたＴＡＣフィルム３は、光学フィルム３５となって、巻取室８に送られ、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻取機３６の巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００３４】
図１及び図３に示すように、性状調整装置６へ送られたＴＡＣフィルム３は、性状調整ケーシング６ａ及び水蒸気接触ケーシング４０に設けられたフィルム搬送路に案内される。水蒸気供給機６４は水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０に供給する。水蒸気接触ケーシング４０内では、所定の温度Ｔ１及び湿度Ｈ１に調節された湿潤気体がＴＡＣフィルム３と接触する。こうして、水蒸気接触ケーシング４０内では水蒸気接触処理が施される。
【００３５】
水蒸気接触処理によって、ＴＡＣフィルム３は水分子を吸収し、ガラス転移温度Ｔｇが低下するとともに、一定以上の熱エネルギーを得るため、ＴＡＣフィルム３における水分子の拡散が促進される。ＴＡＣフィルム３における水分子の拡散の促進により、ポリマー分子の高次構造がより安定な構造に遷移しやすくなる結果、乾いたＴＡＣフィルム３を単に加熱する処理に比べ、ポリマー分子の構造の安定化を短時間で行うことができる。
【００３６】
したがって、本発明によれば、湿熱耐久試験の前後における厚み方向レターデーションＲｔｈの変動量が小さいＴＡＣフィルム３を製造することができる。
【００３７】
また、水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａの温度が、水蒸気接触ケーシング４０の中空部にある雰囲気の露点よりも低い場合には、内壁面４０ａに結露が生じてしまう。内壁面４０ａのうち、第２貫通孔４２よりも上方にて生じた水滴は、第２貫通孔４２に向かって流下する。そして、この水滴が第２貫通孔４２を通過するＴＡＣフィルム３に到達すれば、最終的に、水滴に付着した異物が光学フィルム３５に残留してしまう。
【００３８】
本発明では、第２貫通孔４２よりも上方の内壁面４０ａに第２受け部５２を設けるため、第２貫通孔４２に向かって流れる水滴は、ＴＡＣフィルム３に到達する前に、受け板５２ａによって受け止められる。こうして、第２貫通孔４２に向かって流れる水滴を、第２溜め部５７により溜めることができる。同様にして、第１貫通孔４１よりも上方の内壁面４０ａに第１受け部５１を設けるため、第１貫通孔４１に向かって流れる水滴は、ＴＡＣフィルム３に到達する前に、第１受け部５１によって受け止められる。したがって、本発明によれば、結露によって生じた水滴がＴＡＣフィルム３へ到達することを防ぐことができるため、光学フィルム３５の表面における異物の残留が抑えられ、最終的に、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【００３９】
なお、水蒸気接触ケーシング４０の外部にある雰囲気との温度差によって内壁面４０ａの温度が低下することを避けるために、断熱材を水蒸気接触ケーシング４０に設けることが好ましい。特に、水蒸気接触ケーシング４０のうち、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２よりも上方に断熱材を設けることが好ましい。また、断熱材は、水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａ及び外壁面のいずれに設けてもよいし、水蒸気接触ケーシング４０の内部、すなわち内壁面及び外壁面の間に設けてもよい。水蒸気接触ケーシング４０に断熱材を設けることにより、水蒸気接触ケーシング４０及びこの中空部にある熱が、水蒸気接触ケーシング４０の外部へ拡散することを防ぐことができるため、内壁面４０ａの温度の低下を抑え、結果として、内壁面４０ａにおける結露の発生を抑えることができる。
【００４０】
断熱材の材料として、例えば、グラスウールやロックウールを用いることが好ましい。
【００４１】
また、水蒸気接触ケーシング４０の外部にある雰囲気との温度差によって内壁面４０ａの温度が低下することを避けるために、水蒸気接触ケーシング４０の温度を調節する温度調節機を設けてもよい。これらの断熱材及び温度調節機は、いずれか一方のみを用いてもよいし、併用してもよい。
【００４２】
上記実施形態では、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を矩形状に形成した（図４参照）が、本発明はこれに限られず、各貫通孔の内壁面のうち上方の部分が水平方向に対して斜めになるような形状に形成してもよい。これにより、貫通孔の内壁面のうち上方の部分に生成した水滴は、より低い部分、すなわち貫通孔の内壁面のうち側方の部分に向かって流れる結果、貫通孔を通過するＴＡＣフィルム３等への水滴の流下を防ぐことができる。
【００４３】
上記実施形態では、性状調整ケーシング６ａの中空部に水蒸気接触ケーシング４０を１つ設けたが、本発明はこれに限られず、性状調整ケーシング６ａの中空部に水蒸気接触ケーシングを複数設けてもよい。複数の水蒸気接触ケーシングを並べる方向は、性状調整ケーシング６ａ内に設けられたフィルム搬送路上に設けられることが好ましく、水平方向であってもよいし、垂直方向であってもよい。
【００４４】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図５に示すように、性状調整ケーシング６ａには、複数のローラ４３が並べられ、各ローラ４３の間のフィルム搬送路には、複数の水蒸気接触ケーシング７０が設けられている。複数の水蒸気接触ケーシング７０は、それぞれ水蒸気供給機６４（図１参照）と接続する。水蒸気供給機６４は、各水蒸気接触ケーシング７０の内部における雰囲気の温度及び湿度が所定の範囲内となるように、所定の温度の水蒸気４００を所定の流量で、それぞれ水蒸気接触ケーシング７０へ個別に供給する。水蒸気４００の温度及び流量の調節は、供給する水蒸気接触ケーシング７０ごとに個別に行ってもよい。
【００４５】
水蒸気接触ケーシング７０は、天板７０ａ、底板７０ｂ、及び側板７０ｃから構成される。天板７０ａには第１貫通孔７１が設けられ、底板７０ｂには第２貫通孔７２が設けられる。水蒸気接触ケーシング７０の内部には、第１貫通孔７１から第２貫通孔７２にかけてフィルム搬送路が形成される。
【００４６】
天板７０ａの上面及び下面は、第１貫通孔７１が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されることが好ましい。同様にして、底板７０ｂの上面及び下面は、第２貫通孔７２が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されることが好ましい。
【００４７】
また、側板７０ｃを貫通する排出孔７３が、水蒸気接触ケーシング７０の内壁面のうち最も低い部分から水蒸気接触ケーシング７０の外壁面に向かうに従って低くなるように形成される。底板７０ｂの下面のうち最も低い部分（以下、最低部分と称する）よりも下方には、結露により生じた水滴を受ける容器７４が設けられる。容器７４にある水滴は、図示しない送液装置により、水蒸気接触ケーシング７０の外部へ送られる。なお、側板７０ｃを貫通する排出孔７３に代えて、底板７０ｂを貫通する排出孔を設けてもよい。
【００４８】
水蒸気接触ケーシング７０をなす天板７０ａ及び底板７０ｂの上面及び下面が、各貫通孔７１、７２が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されるため、天板７０ａ及び底板７０ｂの上面及び下面において結露により生じた水滴は側板７０ｃに向かって流れる。側板７０ｃの内側の面及び外側の面では、天板７０ａからの水滴とともに、側板７０ｃにて結露により生じた水滴が流下する。側板７０ｃの内側の面を流下する水滴は、排出孔７３を介して、側板７０ｃの外側の面に到達する。こうして、水蒸気接触ケーシング７０に生成した水滴は、底板７０ｂの最低部分に集まる。本発明では、底板７０ｂの最低部分よりも下方に容器７４を設けるため、水蒸気接触ケーシング７０において結露により生じた水滴を、容器７４に受けることができる。したがって、本発明によれば、結露によって生じた水滴がＴＡＣフィルム３に到達することを防ぐことができるため、最終的に、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【００４９】
以下、各処理の詳細について説明する。
【００５０】
（水蒸気接触処理）
水蒸気接触処理におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ１の下限は、１００℃以上であることが好ましく、１０２℃以上であることがより好ましく、１０４℃以上であることが特に好ましい。また、温度Ｔｆ１の上限は、１５０℃以下であることが好ましく、１４０℃以下であることがより好ましく、１３０℃以下であることが特に好ましい。温度Ｔｆ１が１００℃未満となると、湿熱耐久試験前後における光学特性の変化量を低減するのに必要な水蒸気接触処理の時間が長くなるため好ましくない。温度Ｔｆ１が１５０℃を超えると、ＴＡＣフィルム３のカールが顕著となるため好ましくない。したがって、水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の温度Ｔ１は、温度Ｔｆ１が上記の範囲となるように適宜調節すればよい。
【００５１】
水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の相対湿度Ｈ１は、２０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることが好ましく、４０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることがより好ましく、７０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることが特に好ましい。相対湿度Ｈ１が２０％ＲＨ未満である場合には、ΔＲｔｈＷＥＴを抑制する効果が小さいため好ましくない。
【００５２】
また、水蒸気接触処理の処理時間Ｐ１の範囲は、特に限定されないが、本発明の効果が発揮される範囲内であれば、生産効率の点から出来るだけ短いほうが好ましい。処理時間Ｐ１の上限として、例えば、６０分以下であることが好ましく、１０分以下であることがより好ましい。一方、処理時間Ｐ１の下限として、例えば、５秒以上であることが好ましく、１０秒以上であることがより好ましく、３０秒以上であることが特に好ましい。
【００５３】
（結露防止処理）
性状調整ケーシング６ａの中空部において、水蒸気接触ケーシング４０よりも上流側に結露防止処理を行う結露防止ゾーンを設けてもよい。また、性状調整ケーシング６ａの中空部をＸ方向に複数のゾーンに仕切る仕切り板を設け、Ｘ方向上流側から順に結露防止ゾーン及び水蒸気接触ゾーンを設けてもよい。結露防止ゾーンにある雰囲気の露点が、水蒸気接触ケーシング４０の温度よりも高い場合には、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面において結露が生じてしまう。このような場合には、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面のうち第１貫通孔４１の上方の部分に、第１受け部５１と同様の構造の受け部を設けてもよい。
【００５４】
水蒸気接触処理中のＴＡＣフィルム３における結露を抑えるために、水蒸気接触処理が施される前のＴＡＣフィルム３に高温気体をあて、上記実施形態のＴＡＣフィルム３の温度を所定の範囲内にする結露防止処理を行うことが好ましい。結露防止処理と水蒸気接触処理とを順次連続して行うことが好ましい。
【００５５】
結露防止処理の完了時におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ０の範囲は、水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の露点よりもΔＴ０だけ高い温度にすることが好ましい。ΔＴ０は５℃以上１５０℃以下であることが好ましく、１０℃以上１５０℃以下であることがより好ましい。ΔＴ０が５℃未満となると、結露防止効果が薄れるため好ましくない。ΔＴ０が１５０℃を超えるとフィルムが軟化しやすくなるため好ましくない。より具体的には、Ｔｆ０は８０℃以上１６０℃以下であることが好ましく、１００℃以上１４０℃以下であることがより好ましい。
【００５６】
（熱処理）
同様にして、性状調整ケーシング６ａの中空部において、水蒸気接触ケーシング４０よりも下流側に、熱処理を行う熱処理ゾーンを設けてもよい。また、性状調整ケーシング６ａの中空部をＸ方向に複数のゾーンに仕切る仕切り板を設け、Ｘ方向上流側から順に水蒸気接触ゾーン及び熱処理ゾーンを設けてもよい。そして、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面のうち第２貫通孔４２の上方の部分に、受け部５１と同様の構造の受け部を設けてもよい。
【００５７】
水蒸気接触処理を経たＴＡＣフィルム３に乾燥気体をあて、ＴＡＣフィルム３の温度を所定の範囲内にする熱処理を行うことが好ましい。水蒸気接触処理と熱処理とを順次連続して行うことが好ましい。この熱処理により、湿熱耐久試験の前後のみならず、乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向、又はＹ方向の寸法変化量の小さいＴＡＣフィルム３を製造することができる。ここで、乾熱耐久試験とは、高温低湿度の条件（例えば、温度８０℃以上湿度５％ＲＨ以下）下で行われる耐久試験を指す。
【００５８】
熱処理におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ２の下限は、１１０℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましい。また、温度Ｔｆ２の上限は１６０℃以下であることが好ましく、１５０℃以下であることがより好ましい。したがって、乾燥気体の温度は、温度Ｔｆ２と同等の範囲内とすることが好ましい。温度Ｔｆ２が１１０℃未満となる、或いは、温度Ｔｆ２が１６０℃を超えると、湿熱耐久試験及び乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向の寸法変化量、及びＹ方向の寸法変化量を抑えることができないため好ましくない。また、温度Ｔｆ２は、温度Ｔｆ１よりも高いことが好ましい。
【００５９】
熱処理における乾燥気体の相対湿度Ｈ２は、２０％ＲＨ以下であることが好ましく、１０％ＲＨ以下であることがより好ましい。乾燥気体の相対湿度Ｈ２が２０％ＲＨを超える場合には、フィルムの含水率を増加させ、ロールの巻き姿など経時で変形するため好ましくない。
【００６０】
また、熱処理の処理時間Ｐ２の上限は、５分以下であることが好ましく、４分以下であることがより好ましい。一方、処理時間Ｐ２の下限は、１分以上であることが好ましい。処理時間Ｐ２が５分を超える、或いは、１分未満であると、湿熱耐久試験及び乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向、又はＹ方向の寸法変化量を抑えることができないため好ましくない。
【００６１】
上記実施形態では、性状調整ケーシング６ａ、及び性状調整ケーシング６ａの中空部に配された水蒸気接触ケーシング４０から構成される性状調整装置６を用いたが、本発明はこれに限られず、性状調整ケーシング６ａを省略し、水蒸気接触ケーシング４０を性状調整装置としてもよい。
【００６２】
上記実施形態の延伸処理では、ＴＡＣフィルム３をＹ方向に延伸したが、本発明はこれに限られず、ＴＡＣフィルム３をＸ方向に延伸してもよいし、ＴＡＣフィルム３をＸ方向及びＹ方向に延伸してもよい。また、延伸手段としては、テンタ部５のように、ＴＡＣフィルム３に所定のテンションを付与することができるものであればよい。
【００６３】
水蒸気接触処理が施されるＴＡＣフィルム３は、十分乾燥された、すなわち溶剤がほとんど残っておらず、ポリマー分子の流動性がほとんど消失しているものを用いることが好ましく、乾量基準の残留溶剤量が５重量％以下であることが好ましく、２重量％以下であることがより好ましく、０．３重量％以下であることが特に好ましい。ここで、乾量基準の残留溶剤量とは、湿潤フィルムやＴＡＣフィルム３に残留する溶剤の量を示したものを指す。残留溶剤量は、対象となるフィルムからサンプルフィルムを採取し、採取時のサンプルフィルムの重量をｘ、サンプルフィルムを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で表される。
【００６４】
ＴＡＣフィルム３の幅は６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることがより好ましく、２５００ｍｍより大きい場合にも本発明の効果が発現する。また、ＴＡＣフィルム３の厚みが２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましい。
【００６５】
ＴＡＣフィルム３は、溶液製膜方法によって製造されたものを用いることが好ましく、特に、冷却ゲル化方式により製造されたものを用いることが好ましい。以下、冷却ゲル化方式の概要について説明する。なお、上記実施形態と同一の部材などには同一の符号を付しその詳細の説明は省略する。
【００６６】
図６に示すように、フィルム製造設備８０は、冷却ゲル化方式の溶液製膜方法を行う。ポリマーと溶剤とを含む流延ドープ８１の温度は、３０℃以上４０℃以下の範囲内でほぼ一定となるように維持されている。図示しない制御部の制御の下、流延ドラム８２は軸８２ａを中心に回転する。この回転により、周面８２ｂは、所定の速度（５０ｍ／分以上２００ｍ／分以下）で方向Ｚ１へ走行する。また、伝熱媒体循環装置８３により、周面８２ｂの温度は、−１０℃以上１０℃以下の範囲内で略一定に保持される。
【００６７】
流延ダイ８４は、流延ドープ８１を周面８２ｂへ吐出する。減圧チャンバ８５は、吐出された流延ドープ８１が形成するビードの方向Ｚ１下流側を減圧し、ビードの安定化を図る。吐出した流延ドープ８１により、周面８２ｂ上に流延膜８６が形成する。流延膜８６をなす流延ドープ８１は、周面８２ｂ上での冷却によりゲル化が進行する。流延ドープ８１のゲル化の結果、流延膜８６には自己支持性が発現する。本明細書において、ゲル化とは、流延ドープ８１に含まれる溶剤がポリマーの分子鎖の中で保持された状態で流動性を失い、結果的に流延ドープ８１の流動性が失われた状態にあることを意味する。流延膜８６は、自己支持性を有するものとなった後に、湿潤フィルム８８として剥取ローラ８９で支持されながら周面８２ｂから剥ぎ取られる。剥ぎ取り時の流延膜８６の残留溶剤量は、２５０重量％以上２８０重量％以下であることが好ましい。
【００６８】
ゲル化状態が維持された湿潤フィルム８８は、渡り部９０、ピンテンタ９１、及びテンタ部５へ順次送られる。なお、テンタ部５は省略してもよい。渡り部９０、ピンテンタ９１、及びテンタ部５では、湿潤フィルム８８に所定の乾燥空気をあてて、湿潤フィルム８８に含まれる溶剤を蒸発させる。渡り部９０におけるドローテンション（＝Ｖ２／Ｖ１）は、１．００以上１．０５以下とすることが好ましい。ここで、Ｖ１は、第１の搬送ローラの周速度であり、Ｖ２は、第１の搬送ローラの下流側に設けられた第２の搬送ローラの周速度である。
【００６９】
また、ピンテンタ９１やテンタ部５では、溶剤の蒸発を行いつつ、湿潤フィルム８８を所定の方向に延伸する延伸処理を行う。ピンテンタ９１に導入される湿潤フィルム８８の残留溶剤量は、２００重量％以上２５０重量％以下であることが好ましい。テンタ部５に導入される湿潤フィルム８８の残留溶剤量は、３０重量％以上２００重量％以下であることが好ましい。
【００７０】
乾燥室９７では、湿潤フィルム８８に所定の乾燥空気をあてて、湿潤フィルム８８に含まれる溶剤を蒸発させる。乾燥室９７における湿潤フィルム８８の温度は１４０℃以上１８０℃以下であることが好ましい。
【００７１】
乾燥室９７にて十分に乾燥した湿潤フィルム８８は、ＴＡＣフィルム３となり、冷却室７では所定の温度になるまで冷却処理が施される。また、強制除電装置９８は、ＴＡＣフィルム３の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように除電する。ナーリング付与ローラ９９は、ＴＡＣフィルム３の両縁にエンボス加工でナーリングを付与する。その後、ＴＡＣフィルム３は、巻取室８に送られ、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻取機３６の巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００７２】
フィルム製造設備８０では、テンタ部５を、ピンテンタ９１と乾燥室９７との間に設けたが、本発明はこれに限られず、乾燥室９７と冷却室７の間に設けてもよい。
【００７３】
上記実施形態では、オフライン延伸設備２（図１参照）において、溶液製膜方法によって製造されたＴＡＣフィルム３に延伸処理を施し、その後に水蒸気接触処理を行ったが、本発明はこれに限られない。オフライン延伸設備２において、供給室４（図１参照）に収納されているＴＡＣフィルム３が延伸処理を経ている場合には、テンタ部５を省略し、巻き芯から取り出したＴＡＣフィルム３について、そのまま水蒸気接触処理を行ってもよい。
【００７４】
上記実施形態では、フィルム製造設備８０における支持体として流延ドラム８２を用いたが、本発明はこれに限られず、走行するエンドレスバンドを用いても良い。また、流延膜８６に乾燥空気を接触させて、流延膜８６から溶剤を蒸発させることにより、流延膜８６に自己支持性を発現させてもよい。
【００７５】
本発明は、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時に共流延させて積層させる同時積層共流延、または、複数のドープを逐次に共流延して積層させる逐次積層共流延を行うことができる。なお、両共流延を組み合わせてもよい。同時積層共流延を行う場合には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いてもよいし、マルチポケット型の流延ダイを用いてもよい。ただし、共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さと支持体側の層の厚さとの少なくともいずれか一方が、フィルム全体の厚みの０．５〜３０％であることが好ましい。また、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープが低粘度ドープにより包み込まれることが好ましく、ダイスリットから支持体にかけて形成される流延ビードのうち、外界と接するドープが内部のドープよりもアルコールの組成比が大きいことが好ましい。
【００７６】
上記実施形態では、ＴＡＣフィルムを用いたが、本発明はＴＡＣフィルムに限られず、セルロースアシレートや環状オレフィン等、他のポリマーからなり、溶液製膜方法によって得られるポリマーフィルムや、溶融製膜方法によって製造されたポリマーフィルムにも用いることができる。
【００７７】
溶融製膜方法に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであり、さらに好ましくは付加重合によって得られた環状オレフィンである。
【００７８】
（セルロースアシレート）
セルロースアシレートとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、アシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ） ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦Ｂ≦２．９
【００７９】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１である）を意味する。
【００８０】
全アシル化置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）である。
【００８１】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位及び６位の水酸基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳＢは０．３０以上であり、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢはその２０％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは２５％以上が６位水酸基の置換基であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位の置換度が０．７５以上であり、さらには０．８０以上であり特には０．８５以上であるセルロースアシレートも挙げることができる。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶剤において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性の良い溶液の作製が可能となる。
【００８２】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【００８３】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【００８４】
（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶剤に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【００８５】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００８６】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶剤組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶剤として用いることができる。
【００８７】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【００８８】
（環状オレフィン）
環状オレフィンはノルボルネン系化合物から重合されるものが好ましい。この重合は開環重合、付加重合いずれの方法でも行える。付加重合としては例えば特許３５１７４７１号公報記載のものや特許３５５９３６０号公報、特許３８６７１７８号公報、特許３８７１７２１号公報、特許３９０７９０８号公報、特許３９４５５９８号公報、特表２００５−５２７６９６号公報、特開２００６−２８９９３号公報、国際公開第２００６／００４３７６号パンフレットに記載のものが挙げられる。特に好ましいのは特許３５１７４７１号公報に記載のものである。
【００８９】
開環重合としては国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報、特許３２２０４７８号公報、特許３２７３０４６号公報、特許３４０４０２７号公報、特許３４２８１７６号公報、特許３６８７２３１号公報、特許３８７３９３４号公報、特許３９１２１５９号公報記載のものが挙げられる。なかでも好ましいのが国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報記載のものである。
【００９０】
これらの環状オレフィンの中でも付加重合のものの方がより好ましい。
【００９１】
（ラクトン環含有重合体）
下記（一般式１）で表されるラクトン環構造を有するものを指す。
【００９２】
【化１】
【００９３】
（一般式１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
【００９４】
（一般式１）のラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０重量％、より好ましくは１０〜７０重量％、さらに好ましくは１０〜５０重量％である。
【００９５】
（一般式１）で表されるラクトン環構造以外に、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記（一般式２）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００９６】
【化２】
【００９７】
（一般式２）中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ5基、又は−Ｃ−Ｏ−Ｒ6基を表し、Ａｃ基はアセチル基を表し、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。
【００９８】
例えば、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット、特開２００７−７０６０７号公報、特開２００７−６３５４１号公報、特開２００６−１７１４６４号公報、特開２００５−１６２８３５号公報記載のものを用いることができる。
【００９９】
（用途）
本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムや位相差フィルムとして有用である。この光学フィルムに光学的異方性層、反射防止層、防眩機能層等を付与して、視野角拡大フィルムや防眩フィルム等の高機能フィルムとしてもよい。
【０１００】
位相差フィルムとして用いる場合、面内レターデーションＲｅは３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、厚み方向レターデーションＲｔｈは７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】オフライン延伸設備の概要を示す説明図である。
【図２】テンタ部の概要を示す平面図である。
【図３】第１の水蒸気接触ケーシングの内部の概要を示す斜視図である。
【図４】第１の水蒸気接触ケーシングの内部に設けられた受け部の分解斜視図である。
【図５】第２の水蒸気接触ケーシングの概要を示す部分断面図である。
【図６】フィルム製造設備の概要を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１０２】
２ オフライン延伸設備
３ ＴＡＣフィルム
５ テンタ部
６ 性状調整装置
３５ 光学フィルム
４０ 水蒸気接触ケーシング
４１、４２ 貫通孔
５１、５２ 受け部
５６、５７ 溜め部
６４ 水蒸気供給機
８０ フィルム製造設備
４００ 水蒸気
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマーフィルムの性状調整装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーフィルム（以下、フィルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学フィルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレート、特に５７．５％〜６２．５％の平均酢化度を有するセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣと称する）から形成されるＴＡＣフィルムは、その強靭性と難燃性とから写真感光材料のフィルム用の支持体として利用されている。また、ＴＡＣフィルムは光学等方性に優れることから、市場が急激に拡大している液晶表示装置の偏光板の保護フィルム，位相差フィルム，及び視野角拡大フィルムなどの光学フィルムに用いられている。
【０００３】
フィルムの主な製造方法として、溶液製膜方法や溶融製膜方法が知られている。溶液製膜方法は、ポリマーと溶剤とを含むポリマー溶液（以下、ドープと称する）を支持体上に流延し、流延膜を形成し、流延膜が自己支持性を有するものとなった後、これを支持体から剥がして湿潤フィルムとし、湿潤フィルムを乾燥しフィルムとして巻き取る方法である。溶液製膜方法は、溶解したポリマーを押出機で押し出してフィルムを製造する溶融押出方法と比べて、光学特性の等方性や膜厚の均一性に優れるとともに、含有異物の少ないフィルムを得ることができるため、フィルム、特に光学機能性フィルムの製造方法には、溶液製膜方法が採用されている。
【０００４】
また、溶液製膜方法は、流延膜に自己支持性を発現させる方法により、乾燥方式と冷却ゲル化方式とに大別される。乾燥方式は、流延膜の残留溶剤量を所定の範囲になるまで、支持体上の流延膜から溶剤を蒸発させるものである。一方、冷却ゲル化方式では、支持体上の流延膜を冷却して、流延膜をなすドープをゲル化させるものである（例えば、特許文献１）。
【０００５】
更に、フィルムの光学特性の調整方法として、フィルムを水中に浸漬する、或いはフィルムを水蒸気に曝し、含水率が所定の範囲内となったフィルムを延伸する方法等が知られている（例えば、特許文献２、３）。
【特許文献１】特開２００２−１７９８１９号公報
【特許文献２】特開２００３−９０９１５号公報
【特許文献３】特開２００３−６２８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、液晶表示装置に対して、所定の環境条件下で一定の特性、品質を確保できるか否かを調べる湿熱耐久試験が行われる。同様にして、液晶表示装置等に用いられるフィルムに対しても、湿熱耐久試験が行われる。ところが、このフィルムに湿熱耐久試験を行うと、フィルムの光学特性が変動してしまうことがわかった。特に、高温高湿の条件（例えば、温度６０℃以上湿度９０％ＲＨ）下における湿熱耐久試験の前後において、厚み方向のレターデーションＲｔｈの変動量が増大する結果、フィルムのレターデーションＲｔｈが液晶表示装置に適した範囲から大きく外れてしまう現象が多発した。
【０００７】
特許文献１には、溶液製膜方法によって得られたフィルムに加湿処理を施して、高温高湿環境下におけるフィルムの寸法変化を抑制する方法が開示されている。これは、フィルムの含水率の増大に起因してガラス転移温度Ｔｇが低下する現象を利用して、フィルム内の歪を除去するものである。このような加湿処理を行うことにより、位相差フィルムにおいて重要な光学特性である面内レターデーションＲｅや厚み方向のレターデーションＲｔｈが変動すると考えられるが、特許文献１では、加湿処理に起因するレターデーションＲｅ、Ｒｔｈの変動について言及していない。したがって、特許文献１に記載の方法は、位相差フィルムのレターデーションＲｅ、Ｒｔｈの変動を考慮したものではない。
【０００８】
また、特許文献２、特許文献３に記載の方法は、λ／４近傍のレターデーションＲｅで異なったＮｚファクターを得るフィルムの製造方法に関するものであり、湿熱耐久試験前後における光学特性の変動を抑えることを考慮したものではない。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するものであり、湿熱耐久試験前後におけるレターデーションＲｔｈの変動量が小さい位相差フィルムを製造することのできるポリマーフィルムの性状調整装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のポリマーフィルムの性状調整装置は、外ケーシングと、この外ケーシングの中空部に配される内ケーシングと、この内ケーシングの中空部へ水蒸気を供給する水蒸気供給部と、前記外ケーシングの中空部のうち、前記内ケーシングの外側にある第１雰囲気の温度が前記内ケーシングの中空部にある第２雰囲気の露点よりも高い状態となるように、前記第１雰囲気の温度を調節する雰囲気温度調節部と備えることを特徴とする。
【００１１】
前記内ケーシングに断熱材を設けることが好ましい。また、前記内ケーシングの温度が前記第１雰囲気の露点より高い状態となるように、前記内ケーシングの温度を調節する内ケーシング温度調節部を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、延伸処理を施されたポリマーフィルムに水蒸気を接触させる水蒸気接触処理を行うため、湿熱耐久試験前後におけるレターデーションＲｔｈの変動が小さい光学フィルムを製造することが可能になる。また、水蒸気接触処理が行われるケーシングは、貫通孔及びこの貫通孔よりも上方に受け部を有するため、結露によってケーシングに生じた水滴が貫通孔に向かって流れても、受け部がこの水滴を受け止める結果、水滴は貫通孔を通過するポリマーフィルムに到達しない。したがって、本発明によれば、ポリマーフィルムの表面に異物が付着しにくいため、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（オフライン延伸設備）
図１に示すように、オフライン延伸設備２は、ＴＡＣフィルム３を延伸するものであり、供給室４と、テンタ部５と、性状調整装置６と、冷却室７と、巻取室８とを備える。供給室４には、後述するフィルム製造設備で製造された長尺状のＴＡＣフィルム３が巻き芯に巻き取られた状態で収納されている。供給ローラ９は、巻き芯からＴＡＣフィルム３を取り出して、テンタ部５に供給する。
【００１４】
（テンタ部）
図２に示すように、テンタ部５は、ＴＡＣフィルム３をＸ方向に搬送するフィルム搬送路を有し、このフィルム搬送路にあるＴＡＣフィルム３をＸ方向と直交する方向（以下、Ｙ方向と称する）に延伸する延伸処理を行うものであり、第１レール１１と、第２レール１２と、これらレール１１，１２に案内される１対のエンドレスチェーン（以下、第１、第２チェーンと称する）１３，１４とを備えている。第１、第２チェーン１３,１４には、複数のクリップ１５が一定の間隔で取り付けられている。
【００１５】
レール１１、１２は、フィルム搬送路のＹ方向両端に沿うように設けられ、フィルム搬送路を介して互いに対向するように配される。レール１１，１２のＸ方向上流側には、テンタ入口２６が設けられ、レール１１，１２のＸ方向下流側には、テンタ出口２７が設けられる。テンタ出口２７のフィルム搬送路のＹ方向両側には、原動スプロケット２１，２２が設けられ、テンタ入口２６のフィルム搬送路のＹ方向両側には、従動スプロケット２３，２４が設けられる。第１、第２チェーン１３,１４は、原動スプロケット２１，２２及び従動スプロケット２３，２４の間に掛け渡されており、これらスプロケット２１〜２４の間では、第１チェーン１３は第１レール１１によって、第２チェーン１４は第２レール１２によって案内される。各スプロケット２１〜２２が回転すると、第１、第２チェーン１３、１４はレール１１、１２に沿って移動する。第１、第２チェーン１３、１４の移動により、クリップ１５はレール１１、１２に沿って移動する。
【００１６】
テンタ入口２６近傍のレール１１，１２には把持開始位置Ｐａが設けられ、テンタ出口２７近傍のレール１１，１２には把持解除位置Ｐｂが設けられる。クリップ１５が把持開始位置Ｐａを通過すると、クリップ１５はＴＡＣフィルム３の耳部を把持する状態となる。そして、クリップ１５が把持解除位置Ｐｂを通過すると、クリップ１５はＴＡＣフィルム３の耳部の把持を解除する状態となる。レール１１，１２は、把持解除位置ＰｂにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗｂが、把持開始位置ＰａにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗａよりも大きくなるように配される。各レール１１，１２に沿って移動するクリップ１５により、把持開始位置Ｐａから把持解除位置Ｐｂでは、ＴＡＣフィルム３はＹ方向に延伸される。なお、Ｘ方向における位置Ｐａ及び位置Ｐｂの間に位置Ｐｃを設け、この位置ＰｃにおけるＴＡＣフィルム３のＹ方向の幅Ｗｃが、幅Ｗａより大きくなるようにレール１１、１２を配してもよい。幅Ｗｃは、幅Ｗｂよりも大きくてもよいし、幅Ｗｂと等しくてもよい。
【００１７】
図示しない空調機により、テンタ部５の内部の雰囲気の条件を所定範囲内で一定となるように保持する。また、必要に応じて、テンタ部５を、Ｘ方向で複数のゾーンを分けて、ゾーン毎に、フィルム加熱条件を変えるようにしてもよい。例えば、Ｘ方向に順に、ＴＡＣフィルム３を予熱するための予熱ゾーン、延伸可能な程度までＴＡＣフィルム３を加熱するための加熱ゾーン、及びＴＡＣフィルム３を延伸する延伸ゾーンを設けてもよいし、これらに加えて、ＴＡＣフィルム３の延伸を停止し、ＴＡＣフィルム３に残留する歪が緩和するようにＴＡＣフィルム３を加熱する熱緩和ゾーンを、延伸ゾーンよりもＸ方向下流側に設けてもよい。
【００１８】
図１に示すように、テンタ部５と性状調整装置６との間には、耳切装置３０が設けられる。耳切装置３０は、ＴＡＣフィルム３のＹ方向（図２参照）の側縁部をスリット状の耳屑として切り離す。耳切装置３０に接続するカットブロア３１は、この耳屑を細かく切断する。図示しない風送装置は、カットブロア３１を経た耳屑をクラッシャ３２に送り、クラッシャ３２は耳屑を更に細かく切断して、チップとする。このチップはドープ調製用に再利用されるので、この方法はコストの点において有効である。
【００１９】
性状調整装置６に送られたＴＡＣフィルム３には所定の処理が施され、ＴＡＣフィルム３は光学フィルム３５となる。性状調整装置６にて行われる所定の処理の詳細は後述する。光学フィルム３５は、冷却室７に送られ、所定の温度になるまで冷却された後、巻取室８に送られる。
【００２０】
巻取室８には、巻取り軸を有する巻取機３６とプレスローラ３７とが設けられている。巻取り軸には巻き芯３６ａが取り付けられる。巻取室８に送られた光学フィルム３５は、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００２１】
（性状調整装置）
図１に示すように、性状調整装置６は性状調整ケーシング６ａを有する。性状調整ケーシング６ａの中空部には水蒸気接触ケーシング４０が設けられる。
【００２２】
（水蒸気接触ケーシング）
水蒸気接触ケーシング４０は、ステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ３０４）等から形成され、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を側面に有する。水蒸気接触ケーシング４０の天井は、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を有する側面に向かうに従って低くなるように形成される。また、複数のローラ４３は、水蒸気接触ケーシング４０の中空部に設けられ、第１貫通孔４１から第２貫通孔４２に向かって千鳥状に並べられる。複数のローラ４３により、水蒸気接触ケーシング４０には、第１貫通孔４１から第２貫通孔４２にかけてフィルム搬送路が形成される。第１貫通孔４１の上方及び第２貫通孔４２よりも上方の水蒸気接触ケーシング４０の内部には、第１受け部５１及び第２受け部５２がそれぞれ設けられる。
【００２３】
複数のローラ（図示しない）は、性状調整ケーシング６ａの中空部に設けられ、第１貫通孔４１からＸ方向の上流側に向かって、及び第２貫通孔４２からＸ方向の下流側に向かって、それぞれ並べられる。これらの複数のローラにより、性状調整ケーシング６ａにはフィルム搬送路が形成される。性状調整ケーシング６ａのフィルム搬送路は、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を介して、水蒸気接触ケーシング４０のフィルム搬送路と接続する。
【００２４】
図３及び図４に示すように、第２受け部５２は、受け板５２ａ及び第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄから構成される。受け板５２ａは水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａから突出するように設けられる。受け板５２ａの突出方向は、内壁面４０ａから水平方向でもよいし、内壁面４０ａから水平方向に対し斜め上の方向でもよい。また、受け板５２ａの上面の高さは、Ｙ方向において一定でもよいし、Ｙ方向において異なっていてもよい。Ｙ方向における受け板５２ａの長さは、水蒸気接触ケーシング４０のフィルム搬送路のＹ方向における長さよりも長いことが好ましい。
【００２５】
第１〜第２側板５２ｂ〜５２ｃは略垂直に設けられ、受け板５２ａのＹ方向の両端部に配される。第３側板５２ｄは略垂直に設けられ、受け板５２ａのＸ方向の下流側に配される。こうして、第２貫通孔４２よりも上方には、受け板５２ａ、第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄ、及び内壁面４０ａに囲まれる第２溜め部５７が形成される。なお、第１〜３側板５２ｂ〜５２ｄを省略してもよい。
【００２６】
また、受け板５２ａよりも上方の内壁面４０ａには、内壁面４０ａにある水滴を第２溜め部５７に案内する凸条６１が設けられる。凸条６１は、垂直方向に形成され、第２溜め部５７まで伸びている。凸条６１は垂直方向に対し斜めの方向に形成されてもよい。
【００２７】
受け板５２ａには図示しない貫通孔が厚み方向に形成され、この貫通孔には排水管６２が挿通される。なお、受け板５２ａの上面が水平方向と交差する場合には、受け板５２ａの上面のうち最も低い部分を貫通するように、貫通孔を設けることが好ましい。
【００２８】
各溜め部５６、５７に溜まった水は、排水管６２を介して、外部へ排出される。なお、排出した水を水蒸気供給機へ送り、所定の処理を経た後、水蒸気として再利用してもよい。
【００２９】
同様にして、第１貫通孔４１よりも上方にも、第１受け部５１により、第２溜め部５７と同様の第１溜め部５６（図１参照）が形成される。そして、図示は省略するが、第１貫通孔４１よりも上方の内壁面にも、凸条６１と同様の凸条が設けられる。
【００３０】
（水蒸気供給機）
図１に示すように、水蒸気供給機６４は、加熱部、制御部、及び送り部を有する。加熱部は、水を加熱して所定の温度の水蒸気４００を得る。送り部は、所定の流量の水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０の中空部へ供給する。制御部は、水蒸気接触ケーシング４０の中空部に設けられた温湿度センサから、温度及び湿度を読み取る。そして、制御部は、読み取った温度及び湿度に基づいて、水蒸気接触ケーシング４０の中空部の雰囲気の温度Ｔ１及び湿度Ｈ１が所望の範囲となるように、加熱部による加熱量や、送り部による流量を調節する。
【００３１】
次に、オフライン延伸設備２における本発明の作用について説明する。図１に示すように、供給ローラ９は、供給室４からＴＡＣフィルム３をテンタ部５に供給する。
【００３２】
図２に示すように、図示しない空調機は、テンタ部５内の雰囲気の温度、湿度等を調節する。これにより、テンタ部５を通過するＴＡＣフィルム３の温度を所望の範囲内に調節することができる。図示しない駆動機構は、スプロケット２１〜２４を回転駆動し、第１、第２チェーン１３、１４は、第１、第２レール１１、１２に沿って移動する。第１、第２チェーン１３、１４に取り付けられるクリップ１５は、把持開始位置ＰａにてＴＡＣフィルム３の方向Ｙの両側縁部を把持し、把持解除位置Ｐｂにて両側縁部の把持を解除する。こうして、テンタ部５では、把持開始位置Ｐａから把持解除位置Ｐｂまでの間で、方向Ｙへの延伸処理がＴＡＣフィルム３に施される。テンタ部５におけるＴＡＣフィルム３の延伸率Ｌｘ｛＝（Ｗｂ／Ｗａ）×１００｝は、１００．５％以上３００％以下であることが好ましく、１１０％以上１８０％以下であることがより好ましい。
【００３３】
図１に示すように、テンタ部５から送られたＴＡＣフィルム３は、耳切装置３０により、両側縁部が切り離され、性状調整装置６へ送られる。性状調整装置６にて所定の処理が行われる。この処理の詳細は後述する。性状調整装置６から送り出されたＴＡＣフィルム３は冷却室７に送られる。ＴＡＣフィルム３は、冷却室７で略室温まで冷却される。冷却されたＴＡＣフィルム３は、光学フィルム３５となって、巻取室８に送られ、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻取機３６の巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００３４】
図１及び図３に示すように、性状調整装置６へ送られたＴＡＣフィルム３は、性状調整ケーシング６ａ及び水蒸気接触ケーシング４０に設けられたフィルム搬送路に案内される。水蒸気供給機６４は水蒸気４００を水蒸気接触ケーシング４０に供給する。水蒸気接触ケーシング４０内では、所定の温度Ｔ１及び湿度Ｈ１に調節された湿潤気体がＴＡＣフィルム３と接触する。こうして、水蒸気接触ケーシング４０内では水蒸気接触処理が施される。
【００３５】
水蒸気接触処理によって、ＴＡＣフィルム３は水分子を吸収し、ガラス転移温度Ｔｇが低下するとともに、一定以上の熱エネルギーを得るため、ＴＡＣフィルム３における水分子の拡散が促進される。ＴＡＣフィルム３における水分子の拡散の促進により、ポリマー分子の高次構造がより安定な構造に遷移しやすくなる結果、乾いたＴＡＣフィルム３を単に加熱する処理に比べ、ポリマー分子の構造の安定化を短時間で行うことができる。
【００３６】
したがって、本発明によれば、湿熱耐久試験の前後における厚み方向レターデーションＲｔｈの変動量が小さいＴＡＣフィルム３を製造することができる。
【００３７】
また、水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａの温度が、水蒸気接触ケーシング４０の中空部にある雰囲気の露点よりも低い場合には、内壁面４０ａに結露が生じてしまう。内壁面４０ａのうち、第２貫通孔４２よりも上方にて生じた水滴は、第２貫通孔４２に向かって流下する。そして、この水滴が第２貫通孔４２を通過するＴＡＣフィルム３に到達すれば、最終的に、水滴に付着した異物が光学フィルム３５に残留してしまう。
【００３８】
本発明では、第２貫通孔４２よりも上方の内壁面４０ａに第２受け部５２を設けるため、第２貫通孔４２に向かって流れる水滴は、ＴＡＣフィルム３に到達する前に、受け板５２ａによって受け止められる。こうして、第２貫通孔４２に向かって流れる水滴を、第２溜め部５７により溜めることができる。同様にして、第１貫通孔４１よりも上方の内壁面４０ａに第１受け部５１を設けるため、第１貫通孔４１に向かって流れる水滴は、ＴＡＣフィルム３に到達する前に、第１受け部５１によって受け止められる。したがって、本発明によれば、結露によって生じた水滴がＴＡＣフィルム３へ到達することを防ぐことができるため、光学フィルム３５の表面における異物の残留が抑えられ、最終的に、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【００３９】
なお、水蒸気接触ケーシング４０の外部にある雰囲気との温度差によって内壁面４０ａの温度が低下することを避けるために、断熱材を水蒸気接触ケーシング４０に設けることが好ましい。特に、水蒸気接触ケーシング４０のうち、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２よりも上方に断熱材を設けることが好ましい。また、断熱材は、水蒸気接触ケーシング４０の内壁面４０ａ及び外壁面のいずれに設けてもよいし、水蒸気接触ケーシング４０の内部、すなわち内壁面及び外壁面の間に設けてもよい。水蒸気接触ケーシング４０に断熱材を設けることにより、水蒸気接触ケーシング４０及びこの中空部にある熱が、水蒸気接触ケーシング４０の外部へ拡散することを防ぐことができるため、内壁面４０ａの温度の低下を抑え、結果として、内壁面４０ａにおける結露の発生を抑えることができる。
【００４０】
断熱材の材料として、例えば、グラスウールやロックウールを用いることが好ましい。
【００４１】
また、水蒸気接触ケーシング４０の外部にある雰囲気との温度差によって内壁面４０ａの温度が低下することを避けるために、水蒸気接触ケーシング４０の温度を調節する温度調節機を設けてもよい。これらの断熱材及び温度調節機は、いずれか一方のみを用いてもよいし、併用してもよい。
【００４２】
上記実施形態では、第１貫通孔４１及び第２貫通孔４２を矩形状に形成した（図４参照）が、本発明はこれに限られず、各貫通孔の内壁面のうち上方の部分が水平方向に対して斜めになるような形状に形成してもよい。これにより、貫通孔の内壁面のうち上方の部分に生成した水滴は、より低い部分、すなわち貫通孔の内壁面のうち側方の部分に向かって流れる結果、貫通孔を通過するＴＡＣフィルム３等への水滴の流下を防ぐことができる。
【００４３】
上記実施形態では、性状調整ケーシング６ａの中空部に水蒸気接触ケーシング４０を１つ設けたが、本発明はこれに限られず、性状調整ケーシング６ａの中空部に水蒸気接触ケーシングを複数設けてもよい。複数の水蒸気接触ケーシングを並べる方向は、性状調整ケーシング６ａ内に設けられたフィルム搬送路上に設けられることが好ましく、水平方向であってもよいし、垂直方向であってもよい。
【００４４】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図５に示すように、性状調整ケーシング６ａには、複数のローラ４３が並べられ、各ローラ４３の間のフィルム搬送路には、複数の水蒸気接触ケーシング７０が設けられている。複数の水蒸気接触ケーシング７０は、それぞれ水蒸気供給機６４（図１参照）と接続する。水蒸気供給機６４は、各水蒸気接触ケーシング７０の内部における雰囲気の温度及び湿度が所定の範囲内となるように、所定の温度の水蒸気４００を所定の流量で、それぞれ水蒸気接触ケーシング７０へ個別に供給する。水蒸気４００の温度及び流量の調節は、供給する水蒸気接触ケーシング７０ごとに個別に行ってもよい。
【００４５】
水蒸気接触ケーシング７０は、天板７０ａ、底板７０ｂ、及び側板７０ｃから構成される。天板７０ａには第１貫通孔７１が設けられ、底板７０ｂには第２貫通孔７２が設けられる。水蒸気接触ケーシング７０の内部には、第１貫通孔７１から第２貫通孔７２にかけてフィルム搬送路が形成される。
【００４６】
天板７０ａの上面及び下面は、第１貫通孔７１が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されることが好ましい。同様にして、底板７０ｂの上面及び下面は、第２貫通孔７２が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されることが好ましい。
【００４７】
また、側板７０ｃを貫通する排出孔７３が、水蒸気接触ケーシング７０の内壁面のうち最も低い部分から水蒸気接触ケーシング７０の外壁面に向かうに従って低くなるように形成される。底板７０ｂの下面のうち最も低い部分（以下、最低部分と称する）よりも下方には、結露により生じた水滴を受ける容器７４が設けられる。容器７４にある水滴は、図示しない送液装置により、水蒸気接触ケーシング７０の外部へ送られる。なお、側板７０ｃを貫通する排出孔７３に代えて、底板７０ｂを貫通する排出孔を設けてもよい。
【００４８】
水蒸気接触ケーシング７０をなす天板７０ａ及び底板７０ｂの上面及び下面が、各貫通孔７１、７２が形成される部分から側板７０ｃに向かって低くなるように形成されるため、天板７０ａ及び底板７０ｂの上面及び下面において結露により生じた水滴は側板７０ｃに向かって流れる。側板７０ｃの内側の面及び外側の面では、天板７０ａからの水滴とともに、側板７０ｃにて結露により生じた水滴が流下する。側板７０ｃの内側の面を流下する水滴は、排出孔７３を介して、側板７０ｃの外側の面に到達する。こうして、水蒸気接触ケーシング７０に生成した水滴は、底板７０ｂの最低部分に集まる。本発明では、底板７０ｂの最低部分よりも下方に容器７４を設けるため、水蒸気接触ケーシング７０において結露により生じた水滴を、容器７４に受けることができる。したがって、本発明によれば、結露によって生じた水滴がＴＡＣフィルム３に到達することを防ぐことができるため、最終的に、表面状態が良好の光学フィルムを製造することができる。
【００４９】
以下、各処理の詳細について説明する。
【００５０】
（水蒸気接触処理）
水蒸気接触処理におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ１の下限は、１００℃以上であることが好ましく、１０２℃以上であることがより好ましく、１０４℃以上であることが特に好ましい。また、温度Ｔｆ１の上限は、１５０℃以下であることが好ましく、１４０℃以下であることがより好ましく、１３０℃以下であることが特に好ましい。温度Ｔｆ１が１００℃未満となると、湿熱耐久試験前後における光学特性の変化量を低減するのに必要な水蒸気接触処理の時間が長くなるため好ましくない。温度Ｔｆ１が１５０℃を超えると、ＴＡＣフィルム３のカールが顕著となるため好ましくない。したがって、水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の温度Ｔ１は、温度Ｔｆ１が上記の範囲となるように適宜調節すればよい。
【００５１】
水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の相対湿度Ｈ１は、２０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることが好ましく、４０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることがより好ましく、７０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下であることが特に好ましい。相対湿度Ｈ１が２０％ＲＨ未満である場合には、ΔＲｔｈＷＥＴを抑制する効果が小さいため好ましくない。
【００５２】
また、水蒸気接触処理の処理時間Ｐ１の範囲は、特に限定されないが、本発明の効果が発揮される範囲内であれば、生産効率の点から出来るだけ短いほうが好ましい。処理時間Ｐ１の上限として、例えば、６０分以下であることが好ましく、１０分以下であることがより好ましい。一方、処理時間Ｐ１の下限として、例えば、５秒以上であることが好ましく、１０秒以上であることがより好ましく、３０秒以上であることが特に好ましい。
【００５３】
（結露防止処理）
性状調整ケーシング６ａの中空部において、水蒸気接触ケーシング４０よりも上流側に結露防止処理を行う結露防止ゾーンを設けてもよい。また、性状調整ケーシング６ａの中空部をＸ方向に複数のゾーンに仕切る仕切り板を設け、Ｘ方向上流側から順に結露防止ゾーン及び水蒸気接触ゾーンを設けてもよい。結露防止ゾーンにある雰囲気の露点が、水蒸気接触ケーシング４０の温度よりも高い場合には、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面において結露が生じてしまう。このような場合には、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面のうち第１貫通孔４１の上方の部分に、第１受け部５１と同様の構造の受け部を設けてもよい。
【００５４】
水蒸気接触処理中のＴＡＣフィルム３における結露を抑えるために、水蒸気接触処理が施される前のＴＡＣフィルム３に高温気体をあて、上記実施形態のＴＡＣフィルム３の温度を所定の範囲内にする結露防止処理を行うことが好ましい。結露防止処理と水蒸気接触処理とを順次連続して行うことが好ましい。
【００５５】
結露防止処理の完了時におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ０の範囲は、水蒸気接触ケーシング４０内における雰囲気の露点よりもΔＴ０だけ高い温度にすることが好ましい。ΔＴ０は５℃以上１５０℃以下であることが好ましく、１０℃以上１５０℃以下であることがより好ましい。ΔＴ０が５℃未満となると、結露防止効果が薄れるため好ましくない。ΔＴ０が１５０℃を超えるとフィルムが軟化しやすくなるため好ましくない。より具体的には、Ｔｆ０は８０℃以上１６０℃以下であることが好ましく、１００℃以上１４０℃以下であることがより好ましい。
【００５６】
（熱処理）
同様にして、性状調整ケーシング６ａの中空部において、水蒸気接触ケーシング４０よりも下流側に、熱処理を行う熱処理ゾーンを設けてもよい。また、性状調整ケーシング６ａの中空部をＸ方向に複数のゾーンに仕切る仕切り板を設け、Ｘ方向上流側から順に水蒸気接触ゾーン及び熱処理ゾーンを設けてもよい。そして、水蒸気接触ケーシング４０の外壁面のうち第２貫通孔４２の上方の部分に、受け部５１と同様の構造の受け部を設けてもよい。
【００５７】
水蒸気接触処理を経たＴＡＣフィルム３に乾燥気体をあて、ＴＡＣフィルム３の温度を所定の範囲内にする熱処理を行うことが好ましい。水蒸気接触処理と熱処理とを順次連続して行うことが好ましい。この熱処理により、湿熱耐久試験の前後のみならず、乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向、又はＹ方向の寸法変化量の小さいＴＡＣフィルム３を製造することができる。ここで、乾熱耐久試験とは、高温低湿度の条件（例えば、温度８０℃以上湿度５％ＲＨ以下）下で行われる耐久試験を指す。
【００５８】
熱処理におけるＴＡＣフィルム３の温度Ｔｆ２の下限は、１１０℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましい。また、温度Ｔｆ２の上限は１６０℃以下であることが好ましく、１５０℃以下であることがより好ましい。したがって、乾燥気体の温度は、温度Ｔｆ２と同等の範囲内とすることが好ましい。温度Ｔｆ２が１１０℃未満となる、或いは、温度Ｔｆ２が１６０℃を超えると、湿熱耐久試験及び乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向の寸法変化量、及びＹ方向の寸法変化量を抑えることができないため好ましくない。また、温度Ｔｆ２は、温度Ｔｆ１よりも高いことが好ましい。
【００５９】
熱処理における乾燥気体の相対湿度Ｈ２は、２０％ＲＨ以下であることが好ましく、１０％ＲＨ以下であることがより好ましい。乾燥気体の相対湿度Ｈ２が２０％ＲＨを超える場合には、フィルムの含水率を増加させ、ロールの巻き姿など経時で変形するため好ましくない。
【００６０】
また、熱処理の処理時間Ｐ２の上限は、５分以下であることが好ましく、４分以下であることがより好ましい。一方、処理時間Ｐ２の下限は、１分以上であることが好ましい。処理時間Ｐ２が５分を超える、或いは、１分未満であると、湿熱耐久試験及び乾熱耐久試験の前後における各レターデーションの変動量、Ｘ方向、又はＹ方向の寸法変化量を抑えることができないため好ましくない。
【００６１】
上記実施形態では、性状調整ケーシング６ａ、及び性状調整ケーシング６ａの中空部に配された水蒸気接触ケーシング４０から構成される性状調整装置６を用いたが、本発明はこれに限られず、性状調整ケーシング６ａを省略し、水蒸気接触ケーシング４０を性状調整装置としてもよい。
【００６２】
上記実施形態の延伸処理では、ＴＡＣフィルム３をＹ方向に延伸したが、本発明はこれに限られず、ＴＡＣフィルム３をＸ方向に延伸してもよいし、ＴＡＣフィルム３をＸ方向及びＹ方向に延伸してもよい。また、延伸手段としては、テンタ部５のように、ＴＡＣフィルム３に所定のテンションを付与することができるものであればよい。
【００６３】
水蒸気接触処理が施されるＴＡＣフィルム３は、十分乾燥された、すなわち溶剤がほとんど残っておらず、ポリマー分子の流動性がほとんど消失しているものを用いることが好ましく、乾量基準の残留溶剤量が５重量％以下であることが好ましく、２重量％以下であることがより好ましく、０．３重量％以下であることが特に好ましい。ここで、乾量基準の残留溶剤量とは、湿潤フィルムやＴＡＣフィルム３に残留する溶剤の量を示したものを指す。残留溶剤量は、対象となるフィルムからサンプルフィルムを採取し、採取時のサンプルフィルムの重量をｘ、サンプルフィルムを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で表される。
【００６４】
ＴＡＣフィルム３の幅は６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることがより好ましく、２５００ｍｍより大きい場合にも本発明の効果が発現する。また、ＴＡＣフィルム３の厚みが２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましい。
【００６５】
ＴＡＣフィルム３は、溶液製膜方法によって製造されたものを用いることが好ましく、特に、冷却ゲル化方式により製造されたものを用いることが好ましい。以下、冷却ゲル化方式の概要について説明する。なお、上記実施形態と同一の部材などには同一の符号を付しその詳細の説明は省略する。
【００６６】
図６に示すように、フィルム製造設備８０は、冷却ゲル化方式の溶液製膜方法を行う。ポリマーと溶剤とを含む流延ドープ８１の温度は、３０℃以上４０℃以下の範囲内でほぼ一定となるように維持されている。図示しない制御部の制御の下、流延ドラム８２は軸８２ａを中心に回転する。この回転により、周面８２ｂは、所定の速度（５０ｍ／分以上２００ｍ／分以下）で方向Ｚ１へ走行する。また、伝熱媒体循環装置８３により、周面８２ｂの温度は、−１０℃以上１０℃以下の範囲内で略一定に保持される。
【００６７】
流延ダイ８４は、流延ドープ８１を周面８２ｂへ吐出する。減圧チャンバ８５は、吐出された流延ドープ８１が形成するビードの方向Ｚ１下流側を減圧し、ビードの安定化を図る。吐出した流延ドープ８１により、周面８２ｂ上に流延膜８６が形成する。流延膜８６をなす流延ドープ８１は、周面８２ｂ上での冷却によりゲル化が進行する。流延ドープ８１のゲル化の結果、流延膜８６には自己支持性が発現する。本明細書において、ゲル化とは、流延ドープ８１に含まれる溶剤がポリマーの分子鎖の中で保持された状態で流動性を失い、結果的に流延ドープ８１の流動性が失われた状態にあることを意味する。流延膜８６は、自己支持性を有するものとなった後に、湿潤フィルム８８として剥取ローラ８９で支持されながら周面８２ｂから剥ぎ取られる。剥ぎ取り時の流延膜８６の残留溶剤量は、２５０重量％以上２８０重量％以下であることが好ましい。
【００６８】
ゲル化状態が維持された湿潤フィルム８８は、渡り部９０、ピンテンタ９１、及びテンタ部５へ順次送られる。なお、テンタ部５は省略してもよい。渡り部９０、ピンテンタ９１、及びテンタ部５では、湿潤フィルム８８に所定の乾燥空気をあてて、湿潤フィルム８８に含まれる溶剤を蒸発させる。渡り部９０におけるドローテンション（＝Ｖ２／Ｖ１）は、１．００以上１．０５以下とすることが好ましい。ここで、Ｖ１は、第１の搬送ローラの周速度であり、Ｖ２は、第１の搬送ローラの下流側に設けられた第２の搬送ローラの周速度である。
【００６９】
また、ピンテンタ９１やテンタ部５では、溶剤の蒸発を行いつつ、湿潤フィルム８８を所定の方向に延伸する延伸処理を行う。ピンテンタ９１に導入される湿潤フィルム８８の残留溶剤量は、２００重量％以上２５０重量％以下であることが好ましい。テンタ部５に導入される湿潤フィルム８８の残留溶剤量は、３０重量％以上２００重量％以下であることが好ましい。
【００７０】
乾燥室９７では、湿潤フィルム８８に所定の乾燥空気をあてて、湿潤フィルム８８に含まれる溶剤を蒸発させる。乾燥室９７における湿潤フィルム８８の温度は１４０℃以上１８０℃以下であることが好ましい。
【００７１】
乾燥室９７にて十分に乾燥した湿潤フィルム８８は、ＴＡＣフィルム３となり、冷却室７では所定の温度になるまで冷却処理が施される。また、強制除電装置９８は、ＴＡＣフィルム３の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように除電する。ナーリング付与ローラ９９は、ＴＡＣフィルム３の両縁にエンボス加工でナーリングを付与する。その後、ＴＡＣフィルム３は、巻取室８に送られ、プレスローラ３７によって押圧されながら、巻取機３６の巻き芯３６ａに巻き取られる。
【００７２】
フィルム製造設備８０では、テンタ部５を、ピンテンタ９１と乾燥室９７との間に設けたが、本発明はこれに限られず、乾燥室９７と冷却室７の間に設けてもよい。
【００７３】
上記実施形態では、オフライン延伸設備２（図１参照）において、溶液製膜方法によって製造されたＴＡＣフィルム３に延伸処理を施し、その後に水蒸気接触処理を行ったが、本発明はこれに限られない。オフライン延伸設備２において、供給室４（図１参照）に収納されているＴＡＣフィルム３が延伸処理を経ている場合には、テンタ部５を省略し、巻き芯から取り出したＴＡＣフィルム３について、そのまま水蒸気接触処理を行ってもよい。
【００７４】
上記実施形態では、フィルム製造設備８０における支持体として流延ドラム８２を用いたが、本発明はこれに限られず、走行するエンドレスバンドを用いても良い。また、流延膜８６に乾燥空気を接触させて、流延膜８６から溶剤を蒸発させることにより、流延膜８６に自己支持性を発現させてもよい。
【００７５】
本発明は、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時に共流延させて積層させる同時積層共流延、または、複数のドープを逐次に共流延して積層させる逐次積層共流延を行うことができる。なお、両共流延を組み合わせてもよい。同時積層共流延を行う場合には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いてもよいし、マルチポケット型の流延ダイを用いてもよい。ただし、共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さと支持体側の層の厚さとの少なくともいずれか一方が、フィルム全体の厚みの０．５〜３０％であることが好ましい。また、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープが低粘度ドープにより包み込まれることが好ましく、ダイスリットから支持体にかけて形成される流延ビードのうち、外界と接するドープが内部のドープよりもアルコールの組成比が大きいことが好ましい。
【００７６】
上記実施形態では、ＴＡＣフィルムを用いたが、本発明はＴＡＣフィルムに限られず、セルロースアシレートや環状オレフィン等、他のポリマーからなり、溶液製膜方法によって得られるポリマーフィルムや、溶融製膜方法によって製造されたポリマーフィルムにも用いることができる。
【００７７】
溶融製膜方法に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであり、さらに好ましくは付加重合によって得られた環状オレフィンである。
【００７８】
（セルロースアシレート）
セルロースアシレートとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、アシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ） ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦Ｂ≦２．９
【００７９】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１である）を意味する。
【００８０】
全アシル化置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）である。
【００８１】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位及び６位の水酸基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳＢは０．３０以上であり、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢはその２０％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは２５％以上が６位水酸基の置換基であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位の置換度が０．７５以上であり、さらには０．８０以上であり特には０．８５以上であるセルロースアシレートも挙げることができる。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶剤において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性の良い溶液の作製が可能となる。
【００８２】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【００８３】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【００８４】
（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶剤に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【００８５】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００８６】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶剤組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶剤として用いることができる。
【００８７】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【００８８】
（環状オレフィン）
環状オレフィンはノルボルネン系化合物から重合されるものが好ましい。この重合は開環重合、付加重合いずれの方法でも行える。付加重合としては例えば特許３５１７４７１号公報記載のものや特許３５５９３６０号公報、特許３８６７１７８号公報、特許３８７１７２１号公報、特許３９０７９０８号公報、特許３９４５５９８号公報、特表２００５−５２７６９６号公報、特開２００６−２８９９３号公報、国際公開第２００６／００４３７６号パンフレットに記載のものが挙げられる。特に好ましいのは特許３５１７４７１号公報に記載のものである。
【００８９】
開環重合としては国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報、特許３２２０４７８号公報、特許３２７３０４６号公報、特許３４０４０２７号公報、特許３４２８１７６号公報、特許３６８７２３１号公報、特許３８７３９３４号公報、特許３９１２１５９号公報記載のものが挙げられる。なかでも好ましいのが国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報記載のものである。
【００９０】
これらの環状オレフィンの中でも付加重合のものの方がより好ましい。
【００９１】
（ラクトン環含有重合体）
下記（一般式１）で表されるラクトン環構造を有するものを指す。
【００９２】
【化１】
【００９３】
（一般式１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
【００９４】
（一般式１）のラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０重量％、より好ましくは１０〜７０重量％、さらに好ましくは１０〜５０重量％である。
【００９５】
（一般式１）で表されるラクトン環構造以外に、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記（一般式２）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００９６】
【化２】
【００９７】
（一般式２）中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ5基、又は−Ｃ−Ｏ−Ｒ6基を表し、Ａｃ基はアセチル基を表し、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。
【００９８】
例えば、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット、特開２００７−７０６０７号公報、特開２００７−６３５４１号公報、特開２００６−１７１４６４号公報、特開２００５−１６２８３５号公報記載のものを用いることができる。
【００９９】
（用途）
本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムや位相差フィルムとして有用である。この光学フィルムに光学的異方性層、反射防止層、防眩機能層等を付与して、視野角拡大フィルムや防眩フィルム等の高機能フィルムとしてもよい。
【０１００】
位相差フィルムとして用いる場合、面内レターデーションＲｅは３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、厚み方向レターデーションＲｔｈは７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】オフライン延伸設備の概要を示す説明図である。
【図２】テンタ部の概要を示す平面図である。
【図３】第１の水蒸気接触ケーシングの内部の概要を示す斜視図である。
【図４】第１の水蒸気接触ケーシングの内部に設けられた受け部の分解斜視図である。
【図５】第２の水蒸気接触ケーシングの概要を示す部分断面図である。
【図６】フィルム製造設備の概要を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１０２】
２ オフライン延伸設備
３ ＴＡＣフィルム
５ テンタ部
６ 性状調整装置
３５ 光学フィルム
４０ 水蒸気接触ケーシング
４１、４２ 貫通孔
５１、５２ 受け部
５６、５７ 溜め部
６４ 水蒸気供給機
８０ フィルム製造設備
４００ 水蒸気
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外ケーシングと、
この外ケーシングの中空部に配される内ケーシングと、
この内ケーシングの中空部へ水蒸気を供給する水蒸気供給部と、
前記外ケーシングの中空部のうち、前記内ケーシングの外側にある第１雰囲気の温度が前記内ケーシングの中空部にある第２雰囲気の露点よりも高い状態となるように、前記第１雰囲気の温度を調節する雰囲気温度調節部と備えることを特徴とするポリマーフィルムの性状調整装置。
【請求項２】
前記内ケーシングに断熱材を設けることを特徴とする請求項１記載のポリマーフィルムの性状調整装置。
【請求項３】
前記内ケーシングの温度が前記第１雰囲気の露点より高い状態となるように、前記内ケーシングの温度を調節する内ケーシング温度調節部を有することを特徴とする請求項１または２記載のポリマーフィルムの性状調整装置。
【請求項１】
外ケーシングと、
この外ケーシングの中空部に配される内ケーシングと、
この内ケーシングの中空部へ水蒸気を供給する水蒸気供給部と、
前記外ケーシングの中空部のうち、前記内ケーシングの外側にある第１雰囲気の温度が前記内ケーシングの中空部にある第２雰囲気の露点よりも高い状態となるように、前記第１雰囲気の温度を調節する雰囲気温度調節部と備えることを特徴とするポリマーフィルムの性状調整装置。
【請求項２】
前記内ケーシングに断熱材を設けることを特徴とする請求項１記載のポリマーフィルムの性状調整装置。
【請求項３】
前記内ケーシングの温度が前記第１雰囲気の露点より高い状態となるように、前記内ケーシングの温度を調節する内ケーシング温度調節部を有することを特徴とする請求項１または２記載のポリマーフィルムの性状調整装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−１５８７８８（Ｐ２０１０−１５８７８８Ａ）
【公開日】平成２２年７月２２日（２０１０．７．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−７６４（Ｐ２００９−７６４）
【出願日】平成２１年１月６日（２００９．１．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月２２日（２０１０．７．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１月６日（２００９．１．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]