光学物品及び光学物品の製造方法
【課題】光学波面のバラツキがないとともに、両端部を把持しても互いに接合された光学基材が剥がれる恐れのない光学物品の提供
【解決手段】位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを分子接合して接合層１０を構成し、この接合層１０をプラズマ重合膜とした。基材の接合のための接着剤が不要となるから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなくなる。しかも、接合層１０の外周縁は位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方の外周縁から寸法ｔだけ離れて形成されているため、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との端部をピンセット等で把持する際、これらのプラズマ重合膜にピンセット等が触れて膜剥れをお越し、接合部分に粉塵として付着することがない。
【解決手段】位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを分子接合して接合層１０を構成し、この接合層１０をプラズマ重合膜とした。基材の接合のための接着剤が不要となるから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなくなる。しかも、接合層１０の外周縁は位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方の外周縁から寸法ｔだけ離れて形成されているため、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との端部をピンセット等で把持する際、これらのプラズマ重合膜にピンセット等が触れて膜剥れをお越し、接合部分に粉塵として付着することがない。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光学基材を接合して形成される光学物品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学物品として、複屈折板と赤外線をカットする吸収層が設けられたガラス板（ＩＲカットガラス板）とを接合して形成される光学ローパスフィルタ、２枚の水晶板を接合して形成される積層波長板、さらには、薄い水晶板を水晶保持用ガラス板に接合して形成される波長板等、複数の光学基材を接合して形成されるものが知られている。
【０００３】
これらの光学物品のうち、光学ローパスフィルタを製造する従来例として、赤外線カットガラス板と水晶板とを接着剤で接合するものがある（特許文献１）。
この特許文献１では、赤外線カットガラス板と水晶板との厚さを一定にするために接着剤を赤外線カットガラス板と水晶板との接合面に対してまんべんなく行き渡らせる必要から、接着剤が赤外線カットガラス板と水晶板との外周縁部からはみ出ることを前提とされている。そして、はみ出た接着剤を拭き取らないと不良品とされるので、特許文献１では、赤外線カットガラス板の周縁部と水晶板の周縁部とに接着剤の溜まり部を有する構造が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−５８４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１で示される従来例では、赤外線カットガラス板と水晶板との接合を接着剤で行っているので、接着剤の層の厚みがばらつき、その結果、波面がばらつくという課題がある。特許文献１では、赤外線カットガラス板と水晶板との厚さを一定にするために接着剤をまんべんなく行き渡らせるという手段が採用されているが、接着剤をまんべんなく行き渡らせても、その後、接着剤を挟んで赤外線カットガラス板と水晶板とを正確に平行となるように押圧しなければならず、押圧力が板面に対して均等となっていないと接着剤の層の厚さがばらつくことになる。特に、赤外線カットをするための薄膜やその他の薄膜がガラス板に形成されているので、ガラス板にそりが生じ、この点からも接着剤の厚さがばらつくことになる。さらに、特許文献１の従来例では、接着剤が劣化することで、耐熱性や耐光性が低下するという課題がある。
【０００６】
本発明の目的は、波面のバラツキがないとともに、両端部を把持しても互いに接合された光学基材が剥がれる恐れのない光学物品及び光学物品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、分子接合する接合層を備えた光学物品の製造方法であって、第一光学基材の外周部の一端部と第二光学基材の外周部の一端部とを当接し、この当接した部分を回動中心として、他端部同士を近接しながら貼り合わせる貼合工程を有することを特徴とする。
この構成の本適用例では、第一光学基材と第二光学基材とを外周部の一端部から他端部に従って貼合作業を行うので、この貼合作業に伴って基材とプラズマ重合膜との間の気泡が当該他端部側に追い出されるから、気泡の混入がなくなり、適正な光学物品を提供することができる。その上、プラズマ重合膜の外縁が基材の外縁から離れて形成されているから、第一光学基材と第二光学基材との一端部同士を当接させた際に、プラズマ重合膜が基材の角で削られることがない。そのため、プラズマ重合膜が基材角部で削られることに伴って粉塵が巻き上がることがなく、その結果、粉塵が基板の間に混入して品質を悪化させることがない。
【０００８】
［適用例２］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、前記貼合工程が、前記第一光学基材を基台に設置し、前記第二光学基材を前記基台に揺動自在に取り付けられた天板に設置する設置工程と、前記天板を前記基台に対して揺動させ前記天板に設置された前記第二光学基材を前記基台に設置された前記第一光学基材に対向させるとともに、前記天板を前記基台の平面方向に対して移動させ前記第二光学基材を前記第一光学基材に対して位置合わせする位置合わせ工程と、前記天板を前記基台に対して揺動して前記第一光学基材と前記第二光学基材とを一端部から他端部にかけて近接させてプレスするプレス工程とを備えたことを特徴とする。
この構成の本適用例では、基台に天板が揺動自在とされた装置を用いて、簡単に第一光学基材と第二光学基材とを貼り合せることができる。
【０００９】
［適用例３］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、前述の光学物品を製造する方法であって、前記第一光学基材の接合面と前記第二光学基材の接合面の少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する重合膜形成工程と、前記接合面に形成された前記プラズマ重合膜を活性化する表面活性化工程と、前記プラズマ重合膜の表面が活性化された前記第一光学基材と前記第二光学基材とを貼り合わせて一体化する貼合工程と、を備え、前記プラズマ重合膜形成工程は、接合面の少なくとも一部の外周縁に沿ってマスキングをした状態で膜形成することを特徴とする。
この構成の本適用例では、重合膜形成工程で、第一光学基材と第二光学基材との少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する際、第一光学基材の接合面と第二光学基材の接合面との少なくとも一方の外周縁に沿ってマスキングを実施し、これらの基材の外周縁から所定寸法離れた領域をプラズマ重合膜が形成されない領域とする。そして、表面活性化工程では表面を効率よく活性化する。表面活性化工程は、例えば、プラズマを照射する方法、オゾンガスに接触させる方法、オゾン水で処理する方法、あるいは、アルカリ処理する方法等を用いることができる。さらに、貼合工程でプラズマ重合膜同士を押し付けて第一光学基材と第二光学基材とをプラズマ重合膜を介して接合する。
【００１０】
［適用例４］
本発明の光学物品は、第一光学基材と、第二光学基材と、これらの第一光学基材と第二光学基材とを分子接合する接合層とを備え、前記接合層はプラズマ重合膜であり、前記接合層の外周縁の少なくとも一端部は前記第一光学基材と前記第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されていることを特徴とする。
この構成の本適用例では、第一光学基材と第二光学基材とを分子接合するので、これらの基材の接合のための接着剤が不要となる。
従って、本適用例では、接着剤を使用しないので、第一光学基材と第二光学基材との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなく、耐光性が向上する。
しかも、接合層の外周縁の少なくとも一端部は第一光学基材と第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されているから、これらの基材同士をピンセット等で把持して互いに位置あわせして接合する場合に、ピンセット等がプラズマ重合膜に触れて、プラズマ重合膜が膜剥れを起し、この膜剥れが粉塵となって接合領域に付着して接合不良となることが無い。
【００１１】
［適用例５］
本適用例にかかる光学物品は、前記第一光学基材は位相差板であり、前記第二光学基材は赤外線をカットする薄膜が形成されたＩＲカットガラス板であることを特徴とする。
この構成の本適用例では、前述の効果を達成することができる光学ローパスフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態にかかる光学物品を示すもので、（Ａ）はその側面図、（Ｂ）はその平面図。
【図２】前記実施形態の光学物品の異なる例を示す側面図。
【図３】前記実施形態の光学物品のさらに異なる例を示す側面図。
【図４】プラズマ重合装置の全体を示す概略図。
【図５】プラズマ重合装置の要部の概略を示すもので、(Ａ)は平面図、（Ｂ）は断面図。
【図６】接合層がプラズマ重合膜から形成される光学物品の製造方法の手順を説明する概略図。
【図７】貼合装置の概略を示すもので、（Ａ）は側面図、（Ｂ）は天板を外した状態の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
まず、本実施形態にかかる光学物品を図１から図３に基づいて説明する。
図１は光学物品として、光学ローパスフィルタの一例を示すもので、（Ａ）はその側面図、（Ｂ）はその平面図である。
図１において、光学ローパスフィルタ１は、複屈折板１１と、位相差板１２と、ＩＲカットガラス板１３と、複屈折板１４とが間に接合層１０を挟んで積層された構造であり、複屈折板１４に対向してＣＣＤセンサ１５が配置されている。これらの複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４は、その平面が同じ大きさであり、例えば、一辺が１０ｍｍ〜５０ｍｍの平面矩形状とされる。これらの複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４に介装されている接合層１０は、その外周縁がこれらの板材の外周縁から所定寸法ｔ、例えば、０．２ｍｍ〜３．０ｍｍ離れて形成されている。なお、図１では、寸法ｔは基材の４辺で同じ寸法とされる。
図１の光学ローパスフィルタ１では、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４のうち隣り合う基材に一方、例えば、位相差板１２が第一光学基材を構成し、他方、例えば、ＩＲカットガラス板１３が第二光学基材を構成する。
【００１４】
複屈折板１１及び複屈折板１４は、それぞれ水晶から構成されており、そのうち光入射側の複屈折板１１の外側平面には、必要に応じて反射防止膜が形成されている。この反射防止膜は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の薄膜を真空蒸着により基材に形成して構成される。
位相差板１２は水晶から構成される。
ＩＲカットガラス板１３は色素混入による吸収または誘電体多層膜による反射によりガラス基材に赤外線をカットする機能が形成されるもので、例えばこの薄膜は、酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化ケイ素（ＳｉＯ２）とが真空蒸着により交互に形成されてなる膜である。
接合層１０は、プラズマ重合膜で形成されている。なお、図では、内容を理解しやすくするために、接合層１０の厚さは複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４の厚さに比べて厚く図示されている。
なお、上述の構造以外に、複屈折板１１に誘電体多層膜によるＡＲ膜またはＩＲ、ＵＶ−ＩＲカット膜を形成してもよい。このＵＶ−ＩＲカット膜は５酸化タンタル（Ｔｉ２Ｏ５）を含んでもよい。
【００１５】
図２は図１とは異なる光学ローパスフィルタ２を示す。
図２において、光学ローパスフィルタ２は、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４を有する構造である点は光学ローパスフィルタ１と同じであるが、複屈折板１１、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の相互の間に接合層１０が設けられ、複屈折板１４がＩＲカットガラス板１３から離隔して配置されている点で光学ローパスフィルタ１と相違する。そして、複屈折板１１の表面には赤外線をカットする薄膜が形成されており、複屈折板１４はＣＣＤセンサ１５のカバーガラスを兼ねている。
図２では、少なくとも、複屈折板１１、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の平面が同じ大きさである。そして、これらのうち、互いに隣り合う板材の一方が第一光学基材を構成し、他方が第二光学基材を構成する。なお、光学ローパスフィルタ２の平面形状は図１（Ｂ）で示される形状と同じである。
【００１６】
図３は図１及び図２とは異なる光学ローパスフィルタ３を示す。
図３において、光学ローパスフィルタ３は、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４を有する構造である点は光学ローパスフィルタ１と同じであるが、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の相互の間に接合層１０が設けられ、複屈折板１１が位相差板１２から離隔して配置され、かつ、複屈折板１４がＩＲカットガラス板１３から離隔して配置されている点で光学ローパスフィルタ１と相違する。
図２では、少なくとも、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の平面が同じ大きさである。そして、位相差板１２が第一光学基材を構成し、ＩＲカットガラス板１３が第二光学基材を構成する。なお、光学ローパスフィルタ３の平面形状は図１（Ｂ）で示される形状と同じである。
【００１７】
図４は、本実施形態で使用するプラズマ重合装置の概略図である。
図４において、プラズマ重合装置１００は、チャンバー１０１と、このチャンバー１０１の内部にそれぞれ設けられる第１電極１１１及び第２電極１１２と、これらの第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加する電源回路１２０と、チャンバー１０１の内部にガスを供給するガス供給部１４０と、チャンバー１０１の内部のガスを排出する排気ポンプ１５０を備えた構造である。
第１電極１１１は、第一光学基材又は第二光学基材を支持するものであり、第一光学基材や第二光学基材を挟んで第１電極１１１と第２電極１１２とが対向配置されている。なお、図４では、第一光学基材として位相差板１２が第１電極１１１に支持されている例を説明する。
【００１８】
電源回路１２０は、マッチングボックス１２１と高周波電源１２２とを備える。
ガス供給部１４０は、液状の膜材料（原料液）を貯蔵する貯液部１４１と、液状の膜材料を気化して原料ガスに変化させる気化装置１４２と、キャリアガスを貯留するガスボンベ１４３とを備えている。このガスボンベ１４３に貯留されるキャリアガスは、電界の作用によって放電し、この放電を維持するためにチャンバー１０１に導入するガスであって、例えば、アルゴンガスやヘリウムガスが該当する。
これらの貯液部１４１、気化装置１４２及びガスボンベ１４３とチャンバー１０１とが配管１０２で接続されており、ガス状の膜材料とキャリアガスとの混合ガスをチャンバー１０１の内部に供給するように構成されている。
貯液部１４１に貯留される膜材料は、プラズマ重合装置１００によって位相差板１２に接合層１０となるプラズマ重合膜１３０（図６参照）を形成するための原材料であり、気化装置１４２で気化されて原料ガスとなる。
【００１９】
この原料ガスとしては、例えば、メチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、メチルフェニルシロキサン等のオルガノシロキサン、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルインジウム、トリエチルインジウム、トリメチル亜鉛、トリエチル亜鉛のような有機金属系化合物、各種炭化水素系化合物、各種フッ素系化合物等が挙げられる。
このような原料ガスを用いて得られるプラズマ重合膜１３０は、これらの原料が重合してなるもの（重合物）、つまり、ポリオルガノシロキサン、有機金属ポリマー、炭化水素系ポリマー、フッ素系ポリマー等で構成されることになる。
【００２０】
ポリオルガノシロキサンは、通常、撥水性を示すが、各種の活性化処理を施すことによって容易に有機基を脱離させることができ、親水性に変化することができる。つまり、ポリオルガノシロキサンは撥水性と親水性との制御を容易に行える材料である。
撥水性を示すポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、それ同士を接触させても、有機基によって接着が阻害されることになり、極めて接着し難い。一方、親水性を示すポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、それ同士を接触させると、特に容易に接着することができる。つまり、撥水性と親水性の制御を容易に行えるという利点は、接着性の制御を容易に行えるという利点につながるため、ポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、本実施形態では好適に用いられることになる。そして、ポリオルガノシロキサンは比較的柔軟性に富んでいるので、位相差板１２と第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３との構成材質が相違して線膨張係数が異なっても、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との間に生じる熱膨張に伴う応力を緩和することができる。さらに、ポリオルガノシロキサンは耐薬品性に優れているため、薬品類等に長期にわたって曝されるような部材の接合に効果的に用いることができる。
ポリオルガノシロキサンの中でも、特に、オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするものが好ましい。オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするプラズマ重合膜１３０は、接着性に優れていることから、本実施形態の接合方法で好適に用いられる。オクタメチルトリシロキサンの重合物は、常温で液状をなし、適度な粘度を有するため、取扱が容易である。
【００２１】
図５はプラズマ重合装置の要部を示す概略図である。
図５は第１電極１１１に位相差板１２が保持された状態を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
図５において、位相差板１２の外周縁は所定寸法ｔに渡ってマスキングされるように平面矩形状の枠体からなるマスキング用枠１６０が設けられている。このマスキング用枠１６０は第１電極１１１に対して着脱自在に取り付けられている。なお、このマスキング用枠１６０は、プラズマ重合膜を形成する基材の大きさ、厚さに対応できるように、その大きさ及び厚さが異なるものが複数用意されており、基材に応じて選択使用される。
【００２２】
次に、光学物品１〜３の製造方法の手順を図６及び図７に基づいて説明する。
まず、図６（Ａ）〜（Ｃ）に示される通り、位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜を形成する（重合膜形成工程）。
この重合膜形成工程では、プラズマ重合装置１００のチャンバー１０１の第１電極１１１に、第一光学基材として位相差板１２を保持し、マスキング用枠１６０を位相差板１２に取り付ける。そして、チャンバー１０１の内部に酸素を所定量導入するとともに第１電極１１１と第２電極１１２との間に電源回路１２０から高周波電圧を印加して光学部材自体の活性化（基板活性化）を実施する。
その後、ガス供給部１４０を作動させると、チャンバー１０１の内部に原料ガスとキャリアガスとの混合ガスが供給される。供給された混合ガスはチャンバー１０１の内部に充填され、図６（Ａ）に示される通り、位相差板１２に混合ガスが露出される。
【００２３】
混合ガスにおける原料ガスの割合（混合比）は、原料ガスやキャリアガスの種類や目的とする成膜速度等によって若干異なるが、例えば、混合ガス中の原料ガスの割合は２０〜７０％程度に設定することが好ましく、３０〜６０％程度に設定することがより好ましい。
第１電極１１１と第２電極１１２との間に印加する周波数は、特に限定されないが、１ｋＨｚ〜１００ＭＨｚ程度であるのが好ましく、１０〜６０ＭＨｚ程度がより好ましい。高周波の出力密度は特に限定されないが、０．０１〜１０Ｗ／ｃｍ２程度であることが好ましく、０．１〜１Ｗ／ｃｍ２程度であるのがより好ましい。
【００２４】
成膜時のチャンバー１０１の圧力は、１３３．３×１０−５〜１３３３Ｐａ（１×１０−５〜１０Ｔｏｒｒ）程度であるのが好ましく、１３３．３×１０−４〜１３３．３Ｐａ（１×１０−４〜１Ｔｏｒｒ）程度であるのがより好ましい。
原料ガス流量は、０．５〜２００ｓｃｃｍ程度が好ましく、１〜１００ｓｃｃｍ程度がより好ましい。
キャリアガス流量は、５〜７５０ｓｃｃｍ程度が好ましく、１０〜５００ｓｃｃｍ程度がより好ましい。
処理時間は１〜１０分程度であることが好ましく、４〜７分程度がより好ましい。
基材としての位相差板１２の温度は、２５℃以上が好ましく、２５〜１００℃がより好ましい。
【００２５】
第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加することにより、これらの電極１１１，１１２の間に存在するガスの分子が電離し、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が重合し、図６（Ｂ）に示される通り、重合物が位相差板１２の表面に付着、堆積する。これにより、図６（Ｃ）に示される通り、位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜１３０が形成される。
プラズマ重合膜１３０は、その平均厚さが１０〜１０００ｎｍであり、５０〜５００ｎｍが好ましい。プラズマ重合膜１３０の平均厚さが１０ｎｍを下回ると、十分な接合強度を得ることができず、１０００ｎｍを超えると、接合体の寸法精度が著しく低下する。
【００２６】
その後、図６（Ｄ）に示される通り、プラズマ重合膜１３０を活性化して表面を活性化させる（表面活性化工程）。
表面活性化工程は、例えば、プラズマを照射する方法、オゾンガスに接触させる方法、オゾン水で処理する方法、あるいは、アルカリ処理する方法等を用いることができる。
ここで、活性化させる、とは、プラズマ重合膜１３０の表面及び内部の分子結合が切断されて終端化されていない結合手が生じた状態や、その切断された結合手にＯＨ基が結合した状態、又は、これらの状態が混在した状態をいう。
この表面活性化工程では、プラズマ重合膜１３０の表面を効率よく活性化させるためにプラズマを照射する方法が好ましい。プラズマ重合膜１３０の表面に照射するとしたのは、プラズマ重合膜１３０の分子構造を必要以上に、例えば、プラズマ重合膜１３０と位相差板１２との境界に至るまで切断しないので、プラズマ重合膜１３０の特性の低下を避けるためである。
【００２７】
本実施形態で使用されるプラズマとしては、例えば、酸素、アルゴン、チッソ、空気、水等を1種又は２種以上混合して用いることができる。これらの中で、酸素を使用するこ
とが好ましい。
このようなプラズマを使用することで、プラズマ重合膜１３０の特性の著しい低下を防止するとともに、広範囲のムラをなくし、より短時間で処理することができる。そして、プラズマはプラズマ重合膜を形成する装置と同設備で発生させることができるから、製造コストが低減できるという利点もある。
プラズマを照射する時間は、プラズマ重合膜１３０の表面付近の分子結合を切断し得る程度の時間であれば特に限定されるものではないが、５ｓｅｃ〜３０ｍｉｎ程度であるのが好ましく、１０〜６０ｓｅｃがより好ましい。
このようにして活性化されたプラズマ重合膜１３０の表面には、ＯＨ基が導入される。
なお、本実施形態では、プラズマ重合膜形成工程と表面活性化工程との間に位相差板１２を洗浄する工程を設けてもよい。この洗浄工程は、薬品、水、その他の適宜な手段を用いて行われる。
【００２８】
プラズマ重合膜１３０の表面が活性化された位相差板１２と、ＩＲカットガラス板１３とを貼り合わせて一体化する（貼合工程）。
表面が活性化されたプラズマ重合膜１３０は、その活性状態が経時的に緩和するので、表面活性化工程の後速やかに貼合工程に移行する。具体的には、表面活性化工程の後、６０分以内に貼合工程に移行するのが好ましく、５分以内に移行するのがより好ましい。この時間内であれば、プラズマ重合膜１３０の表面が十分な活性状態を維持しているので、貼り合わせに際して十分な結合強度を得ることができる。
【００２９】
貼合工程を実施するための貼合装置を図７に基づいて説明する。図７（Ａ）は貼合装置の側面図、（Ｂ）は天板を外した状態の貼合装置の平面図である。
図７において、貼合装置２００は、第一光学基材としての位相差板１２を設置する基台２０１と、第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３を設置する天板２０２と、この天板２０２を基台２０１に対して揺動自在に支持するためのヒンジ部材２０３とを備えている。このヒンジ部材２０３に近接して基台２０１と天板２０２との間に天板２０２を基板２０１の所定位置を回転中心として回動させるための連結金具（図示せず）が設けられている。
【００３０】
基台２０１は、平面が矩形状の厚肉の板状部材であって、その内部に位相差板１２を真空吸着するための真空吸着装置（図示せず）が設けられている。そして、基台２０１の平面には位相差板１２を位置決めするための位置決めピン２０４が４本設けられている。これらの位置決めピン２０４のうち１本はヒンジ部材２０３に近接配置され位相差板１２の一辺に側面が当接し、この位置決めピン２０４に位相差板１２を挟んで反対側には異なる１本の位置決めピン２０４が設けられ、残りの２本の位置決めピン２０４が位相差板１２の残りの２辺にそれぞれ当接するように設けられている。この状態では、位相差板１２の一辺が基台２０１のヒンジ部材２０３が設けられた一辺と平行となる。
【００３１】
天板２０２は、平面が矩形状の厚肉の板状部材であって、その内部にＩＲカットガラス板１３を真空吸着するための真空吸着装置（図示せず）が設けられている。そして、天板２０２の平面にはＩＲカットガラス板１３を位置決めするための位置決めピン２０４が４本設けられている。これらの位置決めピン２０４の配列は基台２０１に設けられた位置決めピン２０４と同じである。この状態では、ＩＲカットガラス板１３の一辺が天板２０２のヒンジ部材２０３が設けられた一辺と平行となる。また、天板２０２のヒンジ部材２０３と反対側の位置には取っ手２０５が設けられている。
【００３２】
以上の構成の貼合装置２００を用いて、プラズマ重合膜１３０が設けられた位相差板１２にＩＲカットガラス板１３を貼り付ける方法について説明する。
まず、設置工程を実施する。そのため、プラズマ重合膜１３０を上にして位相差板１２を基台２０１に設置する。その際、位置決めピン２０４で位相差板１２を位置決めするとともに、真空吸着装置で位相差板１２がずれないように保持する。同様に、ＩＲカットガラス板１３を天板２０２に保持する。
その後、位置合わせ工程を実施する。そのため、取っ手２０５を持って天板２０２を基台２０１に対して揺動して所定角度で止めて天板２０２に設置されたＩＲカットガラス板１３を基台２０１に設置された位相差板１２に対向させる。さらに、天板２０２を基台２０１の平面方向に対して移動させＩＲカットガラス板１３と位相差板１２との一辺同士が一致するように両者を位置合わせする。
【００３３】
その後、プレス工程を実施する。図示しない連結金具を連結し、ＩＲカットガラス板１３と位相差板１２との一辺同士が当接した状態で、当該一辺を回転中心として天板２０２を基台２０１に向けて回動する。すると、ＩＲカットガラス板１３と位相差板１２とが一端部から他端部にかけて順次近接するように位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３がプレスされる。この際、プラズマ重合膜１３０は、その外周縁がＩＲカットガラス板１３及び位相差板１２の外周縁から寸法ｔだけ離れて形成されているので、これらの光学基材の外周端同士が当接されても、プラズマ重合膜１３０に基材の角部が当たって破損することがない。
【００３４】
貼合工程の後に、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加圧する（加圧工程）。この加圧工程では、接合強度を大きくするために、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを大きな力で加圧することが好ましい。具体的には、加圧するための圧力は、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３の厚さ寸法や装置等の条件によって異なるものの、１〜１０ＭＰａ程度であるのが好ましく、１〜５ＭＰａがより好ましい。加圧時間は特に限定されないが、１０ｓｅｃ〜３０ｍｉｎ程度であるのが好ましい。
【００３５】
位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加圧したら、これらを貼合装置２００から取り外す。そのため、天板２０２と基台２０１とにそれぞれ設けられた真空吸着装置を解除し、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とをピンセット等で把持する。
そして、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とをピンセット等で把持したまま容器に搬送し、その中に収納する。さらに、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加熱装置に投入し、この加熱装置で加熱する（加熱工程）。これにより、接合強度を高めることができる。
この加熱工程は必要に応じて設けられるものであり、その加熱温度は、２５〜１００℃であり、好ましくは、５０〜１００℃である。１００℃を超えると、光学物品１〜４が変質・劣化するおそれがある。加熱時間は１〜３０ｍｉｎ程度であることが好ましい。
なお、この加熱工程は加圧工程の後で単独に行ってもよいが、加圧工程と同時に行うことが接合強度を強める上で好ましい。
【００３６】
以上の工程から、図３で示される位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とが積層された部材が製造される。図３で示される光学ローパスフィルタ３は、この積層された部材の両側に、別途製造された複屈折板１１，１４を配置して製造される。
そして、図２で示される光学ローパスフィルタ２は位相差板１２がプラズマ重合膜１３０で接合されたＩＲカットガラス板１３を第一光学基材とし、複屈折板１１を第二光学基材として、前述と同様のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して積層体を製造し、この積層体に、別途製造された複屈折板１４を配置して製造される。
図１で示される光学ローパスフィルタ１は、複屈折板１１を第一光学基材とし、位相差板１２を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して第一積層体を製造し、ＩＲカットガラス板１３を第一光学基材とし、複屈折板１４を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程、貼合工程を実施して第二積層体を製造し、さらに、第一積層体を第一光学基材とし、第二積層体を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して製造される。
【００３７】
従って、本実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
（１）第一光学基材としての位相差板１２と、第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３と、これらの位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを分子接合する接合層１０とを備え、この接合層１０はプラズマ重合膜１３０とした。そのため、基材の接合のための接着剤が不要となるから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなく、さらに、接着剤を使用しないことで、耐光性が向上する。
【００３８】
（２）位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜１３０を形成し、このプラズマ重合膜１３０を活性化し、プラズマ重合膜１３０の表面が活性化された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合わせて一体化して位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との積層体を製造する。そして、重合膜を形成するにあたり、位相差板１２の接合面の外周縁に沿ってマスキングをし、位相差板１２の外周縁から所定寸法ｔだけ離れた領域をプラズマ重合膜が形成されない領域とする。従って、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを有する光学ローパスフィルタ１〜３を容易に製造することができる製造方法を提供することができる。
【００３９】
（３）位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるために、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを一端部同士を当接し、この当接した部分を回動中心として他端部同士を貼り合わせるようにしたから、この貼合作業に伴ってＩＲカットガラス板１３とプラズマ重合膜１３０との間の気泡が一端部から他端部側に追い出されることになり、気泡の混入がなくなり、高品質な光学ローパスフィルタ１〜３を提供することができる。
【００４０】
（４）プラズマ重合膜１３０を位相差板１２の外周端から寸法ｔだけ離しているから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との端部同士を当接させる際に、これらがずれても、プラズマ重合膜１３０をＩＲカットガラス板１３の角部で削ることがない。そのため、プラズマ重合膜１３０が削れて粉が舞い散って接合部分に混入することがないから、高品質の光学ローパスフィルタ１〜３を提供することができる。
【００４１】
（５）位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるために、位相差板１２を基台２０１に設置し、ＩＲカットガラス板１３を天板２０２に設置し、この天板２０２を基台２０１に対して揺動させてＩＲカットガラス板１３を位相差板１２に対向させるとともに、天板２０２を基台２０１の平面内で相対的に移動させて位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを位置合わせし、天板２０２を基台２０１に対してさらに揺動させて位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを一端部から他端部にかけてプレスした。そのため、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるための工程を、基台２０１と天板２０２とが揺動自在に取り付けられた貼合装置２００を用いて簡単に実施することができるから、生産効率が高いものとなる。
【００４２】
（６）基台２０１に配置される位相差板１２の四方を４本の位置決めピン２０４で位置決めし、天板２０２に配置されるＩＲカットガラス板１３の四方を４本の位置決めピン２０４で位置決めしたから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とがそれぞれその平面内での移動が規制されることになり、貼合作業を正確に実施することができる。
（７）接合層１０の外周縁は、その４辺が位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方の４辺から同じ寸法ｔだけ離れて形成されているから、位相差板１２やＩＲカットガラス板１３を基板２０１や天板２０２に設置する際に、設置姿勢が１８０°変わっていても問題がない。そのため、作業の効率化を図ることができる。
【００４３】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、位相差板１２の接合面にのみプラズマ重合膜１３０を形成したが、本発明では、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方にそれぞれプラズマ重合膜１３０を形成するものであってもよい。
さらに、前記実施形態では、光学物品として光学ローパスフィルタを例示したが、本発明では、第一光学基材と第二光学基材とを接合層を介して互いに接合する構造のものであれば、他の光学物品、例えば、積層波長板、ガラス板付き波長板等に適用することができる。
【００４４】
また、光学ローパスフィルタ１〜３の接合層１０が形成される外縁は各基材の各辺から同じ寸法ｔとされたが、本発明では、この寸法を各辺で相違させるものでもよく、さらには、互いに対向する２辺に形成され残りの２辺は寸法ｔが０であってもよい。
さらに、本発明では、間に接合層１０を挟んだ状態で、第一光学基材と第二光学基材とを互いに平行にしたまま近接させて互いに貼り合わせるようにしてもよい。仮に、貼合装置を使用する場合であっても、位置決めピン２０４は必ずしも使用することを要しない。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明は、ピックアップ装置、プロジェクタ、その他の装置に用いられる光学物品に利用できる。
【符号の説明】
【００４６】
１，２，３…光学ローパスフィルタ（光学物品）、１０…接合層、１１…複屈折板、１２…位相差板（第一光学基材）、１３…ＩＲカットガラス板（第二光学基材）、１４…複屈折板、１３０…プラズマ重合膜、２００…貼合装置、２０１…基板、２０２…天板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光学基材を接合して形成される光学物品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学物品として、複屈折板と赤外線をカットする吸収層が設けられたガラス板（ＩＲカットガラス板）とを接合して形成される光学ローパスフィルタ、２枚の水晶板を接合して形成される積層波長板、さらには、薄い水晶板を水晶保持用ガラス板に接合して形成される波長板等、複数の光学基材を接合して形成されるものが知られている。
【０００３】
これらの光学物品のうち、光学ローパスフィルタを製造する従来例として、赤外線カットガラス板と水晶板とを接着剤で接合するものがある（特許文献１）。
この特許文献１では、赤外線カットガラス板と水晶板との厚さを一定にするために接着剤を赤外線カットガラス板と水晶板との接合面に対してまんべんなく行き渡らせる必要から、接着剤が赤外線カットガラス板と水晶板との外周縁部からはみ出ることを前提とされている。そして、はみ出た接着剤を拭き取らないと不良品とされるので、特許文献１では、赤外線カットガラス板の周縁部と水晶板の周縁部とに接着剤の溜まり部を有する構造が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−５８４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１で示される従来例では、赤外線カットガラス板と水晶板との接合を接着剤で行っているので、接着剤の層の厚みがばらつき、その結果、波面がばらつくという課題がある。特許文献１では、赤外線カットガラス板と水晶板との厚さを一定にするために接着剤をまんべんなく行き渡らせるという手段が採用されているが、接着剤をまんべんなく行き渡らせても、その後、接着剤を挟んで赤外線カットガラス板と水晶板とを正確に平行となるように押圧しなければならず、押圧力が板面に対して均等となっていないと接着剤の層の厚さがばらつくことになる。特に、赤外線カットをするための薄膜やその他の薄膜がガラス板に形成されているので、ガラス板にそりが生じ、この点からも接着剤の厚さがばらつくことになる。さらに、特許文献１の従来例では、接着剤が劣化することで、耐熱性や耐光性が低下するという課題がある。
【０００６】
本発明の目的は、波面のバラツキがないとともに、両端部を把持しても互いに接合された光学基材が剥がれる恐れのない光学物品及び光学物品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、分子接合する接合層を備えた光学物品の製造方法であって、第一光学基材の外周部の一端部と第二光学基材の外周部の一端部とを当接し、この当接した部分を回動中心として、他端部同士を近接しながら貼り合わせる貼合工程を有することを特徴とする。
この構成の本適用例では、第一光学基材と第二光学基材とを外周部の一端部から他端部に従って貼合作業を行うので、この貼合作業に伴って基材とプラズマ重合膜との間の気泡が当該他端部側に追い出されるから、気泡の混入がなくなり、適正な光学物品を提供することができる。その上、プラズマ重合膜の外縁が基材の外縁から離れて形成されているから、第一光学基材と第二光学基材との一端部同士を当接させた際に、プラズマ重合膜が基材の角で削られることがない。そのため、プラズマ重合膜が基材角部で削られることに伴って粉塵が巻き上がることがなく、その結果、粉塵が基板の間に混入して品質を悪化させることがない。
【０００８】
［適用例２］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、前記貼合工程が、前記第一光学基材を基台に設置し、前記第二光学基材を前記基台に揺動自在に取り付けられた天板に設置する設置工程と、前記天板を前記基台に対して揺動させ前記天板に設置された前記第二光学基材を前記基台に設置された前記第一光学基材に対向させるとともに、前記天板を前記基台の平面方向に対して移動させ前記第二光学基材を前記第一光学基材に対して位置合わせする位置合わせ工程と、前記天板を前記基台に対して揺動して前記第一光学基材と前記第二光学基材とを一端部から他端部にかけて近接させてプレスするプレス工程とを備えたことを特徴とする。
この構成の本適用例では、基台に天板が揺動自在とされた装置を用いて、簡単に第一光学基材と第二光学基材とを貼り合せることができる。
【０００９】
［適用例３］
本適用例にかかる光学物品の製造方法は、前述の光学物品を製造する方法であって、前記第一光学基材の接合面と前記第二光学基材の接合面の少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する重合膜形成工程と、前記接合面に形成された前記プラズマ重合膜を活性化する表面活性化工程と、前記プラズマ重合膜の表面が活性化された前記第一光学基材と前記第二光学基材とを貼り合わせて一体化する貼合工程と、を備え、前記プラズマ重合膜形成工程は、接合面の少なくとも一部の外周縁に沿ってマスキングをした状態で膜形成することを特徴とする。
この構成の本適用例では、重合膜形成工程で、第一光学基材と第二光学基材との少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する際、第一光学基材の接合面と第二光学基材の接合面との少なくとも一方の外周縁に沿ってマスキングを実施し、これらの基材の外周縁から所定寸法離れた領域をプラズマ重合膜が形成されない領域とする。そして、表面活性化工程では表面を効率よく活性化する。表面活性化工程は、例えば、プラズマを照射する方法、オゾンガスに接触させる方法、オゾン水で処理する方法、あるいは、アルカリ処理する方法等を用いることができる。さらに、貼合工程でプラズマ重合膜同士を押し付けて第一光学基材と第二光学基材とをプラズマ重合膜を介して接合する。
【００１０】
［適用例４］
本発明の光学物品は、第一光学基材と、第二光学基材と、これらの第一光学基材と第二光学基材とを分子接合する接合層とを備え、前記接合層はプラズマ重合膜であり、前記接合層の外周縁の少なくとも一端部は前記第一光学基材と前記第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されていることを特徴とする。
この構成の本適用例では、第一光学基材と第二光学基材とを分子接合するので、これらの基材の接合のための接着剤が不要となる。
従って、本適用例では、接着剤を使用しないので、第一光学基材と第二光学基材との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなく、耐光性が向上する。
しかも、接合層の外周縁の少なくとも一端部は第一光学基材と第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されているから、これらの基材同士をピンセット等で把持して互いに位置あわせして接合する場合に、ピンセット等がプラズマ重合膜に触れて、プラズマ重合膜が膜剥れを起し、この膜剥れが粉塵となって接合領域に付着して接合不良となることが無い。
【００１１】
［適用例５］
本適用例にかかる光学物品は、前記第一光学基材は位相差板であり、前記第二光学基材は赤外線をカットする薄膜が形成されたＩＲカットガラス板であることを特徴とする。
この構成の本適用例では、前述の効果を達成することができる光学ローパスフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態にかかる光学物品を示すもので、（Ａ）はその側面図、（Ｂ）はその平面図。
【図２】前記実施形態の光学物品の異なる例を示す側面図。
【図３】前記実施形態の光学物品のさらに異なる例を示す側面図。
【図４】プラズマ重合装置の全体を示す概略図。
【図５】プラズマ重合装置の要部の概略を示すもので、(Ａ)は平面図、（Ｂ）は断面図。
【図６】接合層がプラズマ重合膜から形成される光学物品の製造方法の手順を説明する概略図。
【図７】貼合装置の概略を示すもので、（Ａ）は側面図、（Ｂ）は天板を外した状態の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
まず、本実施形態にかかる光学物品を図１から図３に基づいて説明する。
図１は光学物品として、光学ローパスフィルタの一例を示すもので、（Ａ）はその側面図、（Ｂ）はその平面図である。
図１において、光学ローパスフィルタ１は、複屈折板１１と、位相差板１２と、ＩＲカットガラス板１３と、複屈折板１４とが間に接合層１０を挟んで積層された構造であり、複屈折板１４に対向してＣＣＤセンサ１５が配置されている。これらの複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４は、その平面が同じ大きさであり、例えば、一辺が１０ｍｍ〜５０ｍｍの平面矩形状とされる。これらの複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４に介装されている接合層１０は、その外周縁がこれらの板材の外周縁から所定寸法ｔ、例えば、０．２ｍｍ〜３．０ｍｍ離れて形成されている。なお、図１では、寸法ｔは基材の４辺で同じ寸法とされる。
図１の光学ローパスフィルタ１では、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４のうち隣り合う基材に一方、例えば、位相差板１２が第一光学基材を構成し、他方、例えば、ＩＲカットガラス板１３が第二光学基材を構成する。
【００１４】
複屈折板１１及び複屈折板１４は、それぞれ水晶から構成されており、そのうち光入射側の複屈折板１１の外側平面には、必要に応じて反射防止膜が形成されている。この反射防止膜は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の薄膜を真空蒸着により基材に形成して構成される。
位相差板１２は水晶から構成される。
ＩＲカットガラス板１３は色素混入による吸収または誘電体多層膜による反射によりガラス基材に赤外線をカットする機能が形成されるもので、例えばこの薄膜は、酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化ケイ素（ＳｉＯ２）とが真空蒸着により交互に形成されてなる膜である。
接合層１０は、プラズマ重合膜で形成されている。なお、図では、内容を理解しやすくするために、接合層１０の厚さは複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４の厚さに比べて厚く図示されている。
なお、上述の構造以外に、複屈折板１１に誘電体多層膜によるＡＲ膜またはＩＲ、ＵＶ−ＩＲカット膜を形成してもよい。このＵＶ−ＩＲカット膜は５酸化タンタル（Ｔｉ２Ｏ５）を含んでもよい。
【００１５】
図２は図１とは異なる光学ローパスフィルタ２を示す。
図２において、光学ローパスフィルタ２は、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４を有する構造である点は光学ローパスフィルタ１と同じであるが、複屈折板１１、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の相互の間に接合層１０が設けられ、複屈折板１４がＩＲカットガラス板１３から離隔して配置されている点で光学ローパスフィルタ１と相違する。そして、複屈折板１１の表面には赤外線をカットする薄膜が形成されており、複屈折板１４はＣＣＤセンサ１５のカバーガラスを兼ねている。
図２では、少なくとも、複屈折板１１、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の平面が同じ大きさである。そして、これらのうち、互いに隣り合う板材の一方が第一光学基材を構成し、他方が第二光学基材を構成する。なお、光学ローパスフィルタ２の平面形状は図１（Ｂ）で示される形状と同じである。
【００１６】
図３は図１及び図２とは異なる光学ローパスフィルタ３を示す。
図３において、光学ローパスフィルタ３は、複屈折板１１、位相差板１２、ＩＲカットガラス板１３及び複屈折板１４を有する構造である点は光学ローパスフィルタ１と同じであるが、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の相互の間に接合層１０が設けられ、複屈折板１１が位相差板１２から離隔して配置され、かつ、複屈折板１４がＩＲカットガラス板１３から離隔して配置されている点で光学ローパスフィルタ１と相違する。
図２では、少なくとも、位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３の平面が同じ大きさである。そして、位相差板１２が第一光学基材を構成し、ＩＲカットガラス板１３が第二光学基材を構成する。なお、光学ローパスフィルタ３の平面形状は図１（Ｂ）で示される形状と同じである。
【００１７】
図４は、本実施形態で使用するプラズマ重合装置の概略図である。
図４において、プラズマ重合装置１００は、チャンバー１０１と、このチャンバー１０１の内部にそれぞれ設けられる第１電極１１１及び第２電極１１２と、これらの第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加する電源回路１２０と、チャンバー１０１の内部にガスを供給するガス供給部１４０と、チャンバー１０１の内部のガスを排出する排気ポンプ１５０を備えた構造である。
第１電極１１１は、第一光学基材又は第二光学基材を支持するものであり、第一光学基材や第二光学基材を挟んで第１電極１１１と第２電極１１２とが対向配置されている。なお、図４では、第一光学基材として位相差板１２が第１電極１１１に支持されている例を説明する。
【００１８】
電源回路１２０は、マッチングボックス１２１と高周波電源１２２とを備える。
ガス供給部１４０は、液状の膜材料（原料液）を貯蔵する貯液部１４１と、液状の膜材料を気化して原料ガスに変化させる気化装置１４２と、キャリアガスを貯留するガスボンベ１４３とを備えている。このガスボンベ１４３に貯留されるキャリアガスは、電界の作用によって放電し、この放電を維持するためにチャンバー１０１に導入するガスであって、例えば、アルゴンガスやヘリウムガスが該当する。
これらの貯液部１４１、気化装置１４２及びガスボンベ１４３とチャンバー１０１とが配管１０２で接続されており、ガス状の膜材料とキャリアガスとの混合ガスをチャンバー１０１の内部に供給するように構成されている。
貯液部１４１に貯留される膜材料は、プラズマ重合装置１００によって位相差板１２に接合層１０となるプラズマ重合膜１３０（図６参照）を形成するための原材料であり、気化装置１４２で気化されて原料ガスとなる。
【００１９】
この原料ガスとしては、例えば、メチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、メチルフェニルシロキサン等のオルガノシロキサン、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルインジウム、トリエチルインジウム、トリメチル亜鉛、トリエチル亜鉛のような有機金属系化合物、各種炭化水素系化合物、各種フッ素系化合物等が挙げられる。
このような原料ガスを用いて得られるプラズマ重合膜１３０は、これらの原料が重合してなるもの（重合物）、つまり、ポリオルガノシロキサン、有機金属ポリマー、炭化水素系ポリマー、フッ素系ポリマー等で構成されることになる。
【００２０】
ポリオルガノシロキサンは、通常、撥水性を示すが、各種の活性化処理を施すことによって容易に有機基を脱離させることができ、親水性に変化することができる。つまり、ポリオルガノシロキサンは撥水性と親水性との制御を容易に行える材料である。
撥水性を示すポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、それ同士を接触させても、有機基によって接着が阻害されることになり、極めて接着し難い。一方、親水性を示すポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、それ同士を接触させると、特に容易に接着することができる。つまり、撥水性と親水性の制御を容易に行えるという利点は、接着性の制御を容易に行えるという利点につながるため、ポリオルガノシロキサンで構成されたプラズマ重合膜１３０は、本実施形態では好適に用いられることになる。そして、ポリオルガノシロキサンは比較的柔軟性に富んでいるので、位相差板１２と第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３との構成材質が相違して線膨張係数が異なっても、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との間に生じる熱膨張に伴う応力を緩和することができる。さらに、ポリオルガノシロキサンは耐薬品性に優れているため、薬品類等に長期にわたって曝されるような部材の接合に効果的に用いることができる。
ポリオルガノシロキサンの中でも、特に、オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするものが好ましい。オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするプラズマ重合膜１３０は、接着性に優れていることから、本実施形態の接合方法で好適に用いられる。オクタメチルトリシロキサンの重合物は、常温で液状をなし、適度な粘度を有するため、取扱が容易である。
【００２１】
図５はプラズマ重合装置の要部を示す概略図である。
図５は第１電極１１１に位相差板１２が保持された状態を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
図５において、位相差板１２の外周縁は所定寸法ｔに渡ってマスキングされるように平面矩形状の枠体からなるマスキング用枠１６０が設けられている。このマスキング用枠１６０は第１電極１１１に対して着脱自在に取り付けられている。なお、このマスキング用枠１６０は、プラズマ重合膜を形成する基材の大きさ、厚さに対応できるように、その大きさ及び厚さが異なるものが複数用意されており、基材に応じて選択使用される。
【００２２】
次に、光学物品１〜３の製造方法の手順を図６及び図７に基づいて説明する。
まず、図６（Ａ）〜（Ｃ）に示される通り、位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜を形成する（重合膜形成工程）。
この重合膜形成工程では、プラズマ重合装置１００のチャンバー１０１の第１電極１１１に、第一光学基材として位相差板１２を保持し、マスキング用枠１６０を位相差板１２に取り付ける。そして、チャンバー１０１の内部に酸素を所定量導入するとともに第１電極１１１と第２電極１１２との間に電源回路１２０から高周波電圧を印加して光学部材自体の活性化（基板活性化）を実施する。
その後、ガス供給部１４０を作動させると、チャンバー１０１の内部に原料ガスとキャリアガスとの混合ガスが供給される。供給された混合ガスはチャンバー１０１の内部に充填され、図６（Ａ）に示される通り、位相差板１２に混合ガスが露出される。
【００２３】
混合ガスにおける原料ガスの割合（混合比）は、原料ガスやキャリアガスの種類や目的とする成膜速度等によって若干異なるが、例えば、混合ガス中の原料ガスの割合は２０〜７０％程度に設定することが好ましく、３０〜６０％程度に設定することがより好ましい。
第１電極１１１と第２電極１１２との間に印加する周波数は、特に限定されないが、１ｋＨｚ〜１００ＭＨｚ程度であるのが好ましく、１０〜６０ＭＨｚ程度がより好ましい。高周波の出力密度は特に限定されないが、０．０１〜１０Ｗ／ｃｍ２程度であることが好ましく、０．１〜１Ｗ／ｃｍ２程度であるのがより好ましい。
【００２４】
成膜時のチャンバー１０１の圧力は、１３３．３×１０−５〜１３３３Ｐａ（１×１０−５〜１０Ｔｏｒｒ）程度であるのが好ましく、１３３．３×１０−４〜１３３．３Ｐａ（１×１０−４〜１Ｔｏｒｒ）程度であるのがより好ましい。
原料ガス流量は、０．５〜２００ｓｃｃｍ程度が好ましく、１〜１００ｓｃｃｍ程度がより好ましい。
キャリアガス流量は、５〜７５０ｓｃｃｍ程度が好ましく、１０〜５００ｓｃｃｍ程度がより好ましい。
処理時間は１〜１０分程度であることが好ましく、４〜７分程度がより好ましい。
基材としての位相差板１２の温度は、２５℃以上が好ましく、２５〜１００℃がより好ましい。
【００２５】
第１電極１１１と第２電極１１２との間に高周波電圧を印加することにより、これらの電極１１１，１１２の間に存在するガスの分子が電離し、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が重合し、図６（Ｂ）に示される通り、重合物が位相差板１２の表面に付着、堆積する。これにより、図６（Ｃ）に示される通り、位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜１３０が形成される。
プラズマ重合膜１３０は、その平均厚さが１０〜１０００ｎｍであり、５０〜５００ｎｍが好ましい。プラズマ重合膜１３０の平均厚さが１０ｎｍを下回ると、十分な接合強度を得ることができず、１０００ｎｍを超えると、接合体の寸法精度が著しく低下する。
【００２６】
その後、図６（Ｄ）に示される通り、プラズマ重合膜１３０を活性化して表面を活性化させる（表面活性化工程）。
表面活性化工程は、例えば、プラズマを照射する方法、オゾンガスに接触させる方法、オゾン水で処理する方法、あるいは、アルカリ処理する方法等を用いることができる。
ここで、活性化させる、とは、プラズマ重合膜１３０の表面及び内部の分子結合が切断されて終端化されていない結合手が生じた状態や、その切断された結合手にＯＨ基が結合した状態、又は、これらの状態が混在した状態をいう。
この表面活性化工程では、プラズマ重合膜１３０の表面を効率よく活性化させるためにプラズマを照射する方法が好ましい。プラズマ重合膜１３０の表面に照射するとしたのは、プラズマ重合膜１３０の分子構造を必要以上に、例えば、プラズマ重合膜１３０と位相差板１２との境界に至るまで切断しないので、プラズマ重合膜１３０の特性の低下を避けるためである。
【００２７】
本実施形態で使用されるプラズマとしては、例えば、酸素、アルゴン、チッソ、空気、水等を1種又は２種以上混合して用いることができる。これらの中で、酸素を使用するこ
とが好ましい。
このようなプラズマを使用することで、プラズマ重合膜１３０の特性の著しい低下を防止するとともに、広範囲のムラをなくし、より短時間で処理することができる。そして、プラズマはプラズマ重合膜を形成する装置と同設備で発生させることができるから、製造コストが低減できるという利点もある。
プラズマを照射する時間は、プラズマ重合膜１３０の表面付近の分子結合を切断し得る程度の時間であれば特に限定されるものではないが、５ｓｅｃ〜３０ｍｉｎ程度であるのが好ましく、１０〜６０ｓｅｃがより好ましい。
このようにして活性化されたプラズマ重合膜１３０の表面には、ＯＨ基が導入される。
なお、本実施形態では、プラズマ重合膜形成工程と表面活性化工程との間に位相差板１２を洗浄する工程を設けてもよい。この洗浄工程は、薬品、水、その他の適宜な手段を用いて行われる。
【００２８】
プラズマ重合膜１３０の表面が活性化された位相差板１２と、ＩＲカットガラス板１３とを貼り合わせて一体化する（貼合工程）。
表面が活性化されたプラズマ重合膜１３０は、その活性状態が経時的に緩和するので、表面活性化工程の後速やかに貼合工程に移行する。具体的には、表面活性化工程の後、６０分以内に貼合工程に移行するのが好ましく、５分以内に移行するのがより好ましい。この時間内であれば、プラズマ重合膜１３０の表面が十分な活性状態を維持しているので、貼り合わせに際して十分な結合強度を得ることができる。
【００２９】
貼合工程を実施するための貼合装置を図７に基づいて説明する。図７（Ａ）は貼合装置の側面図、（Ｂ）は天板を外した状態の貼合装置の平面図である。
図７において、貼合装置２００は、第一光学基材としての位相差板１２を設置する基台２０１と、第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３を設置する天板２０２と、この天板２０２を基台２０１に対して揺動自在に支持するためのヒンジ部材２０３とを備えている。このヒンジ部材２０３に近接して基台２０１と天板２０２との間に天板２０２を基板２０１の所定位置を回転中心として回動させるための連結金具（図示せず）が設けられている。
【００３０】
基台２０１は、平面が矩形状の厚肉の板状部材であって、その内部に位相差板１２を真空吸着するための真空吸着装置（図示せず）が設けられている。そして、基台２０１の平面には位相差板１２を位置決めするための位置決めピン２０４が４本設けられている。これらの位置決めピン２０４のうち１本はヒンジ部材２０３に近接配置され位相差板１２の一辺に側面が当接し、この位置決めピン２０４に位相差板１２を挟んで反対側には異なる１本の位置決めピン２０４が設けられ、残りの２本の位置決めピン２０４が位相差板１２の残りの２辺にそれぞれ当接するように設けられている。この状態では、位相差板１２の一辺が基台２０１のヒンジ部材２０３が設けられた一辺と平行となる。
【００３１】
天板２０２は、平面が矩形状の厚肉の板状部材であって、その内部にＩＲカットガラス板１３を真空吸着するための真空吸着装置（図示せず）が設けられている。そして、天板２０２の平面にはＩＲカットガラス板１３を位置決めするための位置決めピン２０４が４本設けられている。これらの位置決めピン２０４の配列は基台２０１に設けられた位置決めピン２０４と同じである。この状態では、ＩＲカットガラス板１３の一辺が天板２０２のヒンジ部材２０３が設けられた一辺と平行となる。また、天板２０２のヒンジ部材２０３と反対側の位置には取っ手２０５が設けられている。
【００３２】
以上の構成の貼合装置２００を用いて、プラズマ重合膜１３０が設けられた位相差板１２にＩＲカットガラス板１３を貼り付ける方法について説明する。
まず、設置工程を実施する。そのため、プラズマ重合膜１３０を上にして位相差板１２を基台２０１に設置する。その際、位置決めピン２０４で位相差板１２を位置決めするとともに、真空吸着装置で位相差板１２がずれないように保持する。同様に、ＩＲカットガラス板１３を天板２０２に保持する。
その後、位置合わせ工程を実施する。そのため、取っ手２０５を持って天板２０２を基台２０１に対して揺動して所定角度で止めて天板２０２に設置されたＩＲカットガラス板１３を基台２０１に設置された位相差板１２に対向させる。さらに、天板２０２を基台２０１の平面方向に対して移動させＩＲカットガラス板１３と位相差板１２との一辺同士が一致するように両者を位置合わせする。
【００３３】
その後、プレス工程を実施する。図示しない連結金具を連結し、ＩＲカットガラス板１３と位相差板１２との一辺同士が当接した状態で、当該一辺を回転中心として天板２０２を基台２０１に向けて回動する。すると、ＩＲカットガラス板１３と位相差板１２とが一端部から他端部にかけて順次近接するように位相差板１２及びＩＲカットガラス板１３がプレスされる。この際、プラズマ重合膜１３０は、その外周縁がＩＲカットガラス板１３及び位相差板１２の外周縁から寸法ｔだけ離れて形成されているので、これらの光学基材の外周端同士が当接されても、プラズマ重合膜１３０に基材の角部が当たって破損することがない。
【００３４】
貼合工程の後に、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加圧する（加圧工程）。この加圧工程では、接合強度を大きくするために、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを大きな力で加圧することが好ましい。具体的には、加圧するための圧力は、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３の厚さ寸法や装置等の条件によって異なるものの、１〜１０ＭＰａ程度であるのが好ましく、１〜５ＭＰａがより好ましい。加圧時間は特に限定されないが、１０ｓｅｃ〜３０ｍｉｎ程度であるのが好ましい。
【００３５】
位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加圧したら、これらを貼合装置２００から取り外す。そのため、天板２０２と基台２０１とにそれぞれ設けられた真空吸着装置を解除し、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とをピンセット等で把持する。
そして、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とをピンセット等で把持したまま容器に搬送し、その中に収納する。さらに、互いに接合された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを加熱装置に投入し、この加熱装置で加熱する（加熱工程）。これにより、接合強度を高めることができる。
この加熱工程は必要に応じて設けられるものであり、その加熱温度は、２５〜１００℃であり、好ましくは、５０〜１００℃である。１００℃を超えると、光学物品１〜４が変質・劣化するおそれがある。加熱時間は１〜３０ｍｉｎ程度であることが好ましい。
なお、この加熱工程は加圧工程の後で単独に行ってもよいが、加圧工程と同時に行うことが接合強度を強める上で好ましい。
【００３６】
以上の工程から、図３で示される位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とが積層された部材が製造される。図３で示される光学ローパスフィルタ３は、この積層された部材の両側に、別途製造された複屈折板１１，１４を配置して製造される。
そして、図２で示される光学ローパスフィルタ２は位相差板１２がプラズマ重合膜１３０で接合されたＩＲカットガラス板１３を第一光学基材とし、複屈折板１１を第二光学基材として、前述と同様のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して積層体を製造し、この積層体に、別途製造された複屈折板１４を配置して製造される。
図１で示される光学ローパスフィルタ１は、複屈折板１１を第一光学基材とし、位相差板１２を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して第一積層体を製造し、ＩＲカットガラス板１３を第一光学基材とし、複屈折板１４を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程、貼合工程を実施して第二積層体を製造し、さらに、第一積層体を第一光学基材とし、第二積層体を第二光学基材として前述のプラズマ重合膜形成工程、表面活性化工程及び貼合工程を実施して製造される。
【００３７】
従って、本実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
（１）第一光学基材としての位相差板１２と、第二光学基材としてのＩＲカットガラス板１３と、これらの位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを分子接合する接合層１０とを備え、この接合層１０はプラズマ重合膜１３０とした。そのため、基材の接合のための接着剤が不要となるから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなく、さらに、接着剤を使用しないことで、耐光性が向上する。
【００３８】
（２）位相差板１２の接合面にプラズマ重合膜１３０を形成し、このプラズマ重合膜１３０を活性化し、プラズマ重合膜１３０の表面が活性化された位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合わせて一体化して位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との積層体を製造する。そして、重合膜を形成するにあたり、位相差板１２の接合面の外周縁に沿ってマスキングをし、位相差板１２の外周縁から所定寸法ｔだけ離れた領域をプラズマ重合膜が形成されない領域とする。従って、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを有する光学ローパスフィルタ１〜３を容易に製造することができる製造方法を提供することができる。
【００３９】
（３）位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるために、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを一端部同士を当接し、この当接した部分を回動中心として他端部同士を貼り合わせるようにしたから、この貼合作業に伴ってＩＲカットガラス板１３とプラズマ重合膜１３０との間の気泡が一端部から他端部側に追い出されることになり、気泡の混入がなくなり、高品質な光学ローパスフィルタ１〜３を提供することができる。
【００４０】
（４）プラズマ重合膜１３０を位相差板１２の外周端から寸法ｔだけ離しているから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との端部同士を当接させる際に、これらがずれても、プラズマ重合膜１３０をＩＲカットガラス板１３の角部で削ることがない。そのため、プラズマ重合膜１３０が削れて粉が舞い散って接合部分に混入することがないから、高品質の光学ローパスフィルタ１〜３を提供することができる。
【００４１】
（５）位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるために、位相差板１２を基台２０１に設置し、ＩＲカットガラス板１３を天板２０２に設置し、この天板２０２を基台２０１に対して揺動させてＩＲカットガラス板１３を位相差板１２に対向させるとともに、天板２０２を基台２０１の平面内で相対的に移動させて位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを位置合わせし、天板２０２を基台２０１に対してさらに揺動させて位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを一端部から他端部にかけてプレスした。そのため、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とを貼り合せるための工程を、基台２０１と天板２０２とが揺動自在に取り付けられた貼合装置２００を用いて簡単に実施することができるから、生産効率が高いものとなる。
【００４２】
（６）基台２０１に配置される位相差板１２の四方を４本の位置決めピン２０４で位置決めし、天板２０２に配置されるＩＲカットガラス板１３の四方を４本の位置決めピン２０４で位置決めしたから、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３とがそれぞれその平面内での移動が規制されることになり、貼合作業を正確に実施することができる。
（７）接合層１０の外周縁は、その４辺が位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方の４辺から同じ寸法ｔだけ離れて形成されているから、位相差板１２やＩＲカットガラス板１３を基板２０１や天板２０２に設置する際に、設置姿勢が１８０°変わっていても問題がない。そのため、作業の効率化を図ることができる。
【００４３】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、位相差板１２の接合面にのみプラズマ重合膜１３０を形成したが、本発明では、位相差板１２とＩＲカットガラス板１３との双方にそれぞれプラズマ重合膜１３０を形成するものであってもよい。
さらに、前記実施形態では、光学物品として光学ローパスフィルタを例示したが、本発明では、第一光学基材と第二光学基材とを接合層を介して互いに接合する構造のものであれば、他の光学物品、例えば、積層波長板、ガラス板付き波長板等に適用することができる。
【００４４】
また、光学ローパスフィルタ１〜３の接合層１０が形成される外縁は各基材の各辺から同じ寸法ｔとされたが、本発明では、この寸法を各辺で相違させるものでもよく、さらには、互いに対向する２辺に形成され残りの２辺は寸法ｔが０であってもよい。
さらに、本発明では、間に接合層１０を挟んだ状態で、第一光学基材と第二光学基材とを互いに平行にしたまま近接させて互いに貼り合わせるようにしてもよい。仮に、貼合装置を使用する場合であっても、位置決めピン２０４は必ずしも使用することを要しない。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明は、ピックアップ装置、プロジェクタ、その他の装置に用いられる光学物品に利用できる。
【符号の説明】
【００４６】
１，２，３…光学ローパスフィルタ（光学物品）、１０…接合層、１１…複屈折板、１２…位相差板（第一光学基材）、１３…ＩＲカットガラス板（第二光学基材）、１４…複屈折板、１３０…プラズマ重合膜、２００…貼合装置、２０１…基板、２０２…天板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子接合する接合層を備えた光学物品の製造方法において、
第一光学基材の外周縁の一端部と第二光学基材の外周縁の一端部とを当接し、この当接した部分を回動中心として、他端部同士を近接しながら貼り合わせる貼合工程を有することを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された光学物品の製造方法において、
前記貼合工程は、前記第一光学基材を基台に設置し、前記第二光学基材を前記基台に揺動自在に取り付けられた天板に設置する設置工程と、前記天板を前記基台に対して揺動して前記天板に設置された前記第二光学基材を前記基台に設置された前記第一光学基材に対向させるとともに、前記天板を前記基台の平面方向に対して移動させ前記第二光学基材を前記第一光学基材に対して位置合わせする位置合わせ工程と、前記天板を前記基台に対して揺動させ前記第一光学基材と前記第二光学基材とを一端部から他端部にかけて近接させてプレスするプレス工程とを備えたことを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載された光学物品を製造する方法であって、
前記第一光学基材の接合面と前記第二光学基材の接合面の少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する重合膜形成工程と、
前記接合面に形成された前記プラズマ重合膜を活性化する表面活性化工程と、
前記プラズマ重合膜の表面が活性化された前記第一光学基材と前記第二光学基材とを貼り合わせて一体化する前記貼合工程と、を備え、
前記重合膜形成工程は、接合面の少なくとも一部の外周縁に沿ってマスキングをした状態で膜形成することを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項４】
第一光学基材と、第二光学基材と、これらの第一光学基材と第二光学基材とを分子接合する接合層とを備え、前記接合層はプラズマ重合膜であり、前記接合層の外周縁の少なくとも一端部は前記第一光学基材と前記第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されていることを特徴とする光学物品。
【請求項５】
請求項４に記載された光学物品において、前記第一光学基材は位相差板であり、前記第二光学基材は赤外線をカットする薄膜または吸収層が形成されたＩＲカットガラス板であることを特徴とする光学物品。
【請求項１】
分子接合する接合層を備えた光学物品の製造方法において、
第一光学基材の外周縁の一端部と第二光学基材の外周縁の一端部とを当接し、この当接した部分を回動中心として、他端部同士を近接しながら貼り合わせる貼合工程を有することを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された光学物品の製造方法において、
前記貼合工程は、前記第一光学基材を基台に設置し、前記第二光学基材を前記基台に揺動自在に取り付けられた天板に設置する設置工程と、前記天板を前記基台に対して揺動して前記天板に設置された前記第二光学基材を前記基台に設置された前記第一光学基材に対向させるとともに、前記天板を前記基台の平面方向に対して移動させ前記第二光学基材を前記第一光学基材に対して位置合わせする位置合わせ工程と、前記天板を前記基台に対して揺動させ前記第一光学基材と前記第二光学基材とを一端部から他端部にかけて近接させてプレスするプレス工程とを備えたことを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載された光学物品を製造する方法であって、
前記第一光学基材の接合面と前記第二光学基材の接合面の少なくとも一方にプラズマ重合膜を形成する重合膜形成工程と、
前記接合面に形成された前記プラズマ重合膜を活性化する表面活性化工程と、
前記プラズマ重合膜の表面が活性化された前記第一光学基材と前記第二光学基材とを貼り合わせて一体化する前記貼合工程と、を備え、
前記重合膜形成工程は、接合面の少なくとも一部の外周縁に沿ってマスキングをした状態で膜形成することを特徴とする光学物品の製造方法。
【請求項４】
第一光学基材と、第二光学基材と、これらの第一光学基材と第二光学基材とを分子接合する接合層とを備え、前記接合層はプラズマ重合膜であり、前記接合層の外周縁の少なくとも一端部は前記第一光学基材と前記第二光学基材との双方の外周縁の端部から離れて形成されていることを特徴とする光学物品。
【請求項５】
請求項４に記載された光学物品において、前記第一光学基材は位相差板であり、前記第二光学基材は赤外線をカットする薄膜または吸収層が形成されたＩＲカットガラス板であることを特徴とする光学物品。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１９１１３２（Ｐ２０１０−１９１１３２Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３４８７６（Ｐ２００９−３４８７６）
【出願日】平成２１年２月１８日（２００９．２．１８）
【出願人】（０００００３１０４）エプソントヨコム株式会社 (1,528)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１８日（２００９．２．１８）
【出願人】（０００００３１０４）エプソントヨコム株式会社 (1,528)
【Ｆターム（参考）】
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