光学用成形体
【課題】本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、吸湿による変形が少なく、かつ複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【解決手段】
以下に示す共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
【解決手段】
以下に示す共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学用成形体にはメタクリル樹脂が広く使用されている。しかしながら、メタクリル樹脂は、透明性や低複屈折等の光学特性が良好な反面、耐衝撃性が低く、また吸湿性が高いことから、光学用成形体とした場合に吸湿による変形が課題となっていた。一方ポリスチレンは透明で成形加工性が良好で、吸湿性が低く変形が少ないが、耐衝撃性が低く、また複屈折(率)が高いため、この分野での使用には制限があった。
このような光学用成形体に関する刊行物としては以下のようなものが知られているが、複屈折や耐光性の問題は十分解決されているとは言いがたかった。
【特許文献１】特開２００２−２４２６７９号公報
【特許文献２】特開２００２−２４３９１７号公報
【特許文献３】特開２００２−２８４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、吸湿による変形が少なく、かつ複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち本発明は、
（１）以下に示す共重合体（Ａ） ９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ） １０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
（２）ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする（１）記載の光学用成形体。
（３）ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする（１）または（２）に記載の光学用成形体。
（４）光学用成形体が、光ディスク基板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（５）光学用成形体が、導光板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（６）光学用成形体が、レンズであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（７）光学用成形体が、前面板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（８）光学用成形体が、光学シート用ベースシートであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（９）光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の光学用成形体は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、吸湿による変形が少なく、かつ複屈折の小さことから、例えば、光ディスク基板、導光板、レンズ、前面板、位相差フィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムのベースフィルムや、レンチキュラーレンズやフレネルレンズ等の光学シートのベースシートに適しており有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
共重合体（Ａ）は、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、スチレン系単量体単位と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位で構成される。また、共重合体（Ｂ）は、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、スチレン系単量体単位とブタジエン系単量体単位で構成される。
【０００７】
スチレン系単量体単位としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等の単位を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体単位は、単独でもよいが二種以上であってもよい。
【０００８】
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレート等のアクリル酸エステル等の単位を挙げることができるが、好ましくはメチルメタクリレートである。これらの（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位は単独で用いてもよいが二種以上であってもよい。
【０００９】
ブタジエン系単量体単位としては、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等の単位を挙げることができるが、好ましくは１，３−ブタジエンである。これらのブタジエン系単量体単位は、単独でもよいが二種以上であってもよい。
【００１０】
さらに、必要に応じてこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体の単位、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドを共重合体１００質量部に対して１０質量部未満であれば含んでもよい。
【００１１】
共重合体（Ａ）は、スチレン系単量体と（メタ）アクリル酸エステル系単量体を重合して得られた共重合体である。重合の方法は特に制限はないが、有機過酸化物を使用したラジカル共重合が好ましく、また共重合体（Ａ）の製造プロセスとしては、少量の溶剤を使用した塊状連続重合プロセスが好ましい。懸濁重合や乳化重合のプロセスで得る方法は十分な透明性が得られず、得られた光学用成形体に濁りが出やすく、特に光路の長い導光板等に使用すると光の減衰が大きく問題となる場合がある。
重合時添加する有機過酸化物としては、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−シクロヘキサン、２，２−ビス（４，４−ジ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、エチル−３，３−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブチレート等の公知のものが使用できる。有機過酸化物の添加量はスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体の合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましい。
溶剤としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、あるいは、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素などが使用でき、溶剤の添加量はスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体の合計１００質量部に対し、５〜２０質量部が好ましい。
また、重合時、４−メチル−２，４−ジフェニルペンテン−１、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン等の公知の分子量調整剤を添加しても差し支えない。
重合温度は、好ましくは８０〜１７０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。
【００１２】
共重合体（Ａ）を構成する単量体単位の比率は、スチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である。好ましくはスチレン系単量体単位６０〜３５質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位４０〜６５質量％、より好ましくはスチレン系単量体単位５５〜３８質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位４５〜６２質量％である。
共重合体（Ａ）を構成する単量体単位の比率が、スチレン系単量体単位８０質量％を越え、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０質量％未満であると、耐衝撃性が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。またスチレン系単量体単位３０質量％未満、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位７０質量％を越えると、色相が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。
【００１３】
共重合体（Ｂ）は、スチレン系単量体とブタジエン系単量体を重合して得られたブロック共重合体である。重合の方法は特に制限はないが、有機リチウム化合物を使用したアニオン重合が好ましく、また共重合体（Ｂ）の製造プロセスとしては、溶剤を使用した溶液重合プロセスが好ましい。
有機リチウム化合物は、分子中に１個以上のリチウム原子が結合した化合物であり、例えばエチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムのような単官能有機リチウム化合物や多官能有機リチウム化合物等が使用できる。有機リチウム化合物の添加量としてはスチレン系単量体とブタジエン系単量体の合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましい。
溶剤としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、あるいは、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素などが使用できるが、溶剤の添加量はスチレン系単量体、ブタジエン系単量体の合計１００質量部に対し、５０〜２００質量部が好ましい。
また、重合時、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の公知のランダム化剤を添加しても差し支えない。
重合温度は、好ましくは４０〜１２０℃、さらに好ましくは５０〜１００℃である。
【００１４】
共重合体（Ｂ）は少なくとも１個以上のスチレン系単量体からなる重合体ブロックと少なくともブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロックとを有するブロック共重合体である。ここでブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロックとは、ブタジエン系単量体の含有量が５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上の重合体ブロックである。ブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロック中に共重合されているスチレン系単量体は重合体ブロック中に均一に分布していても、又テーパー状に分布していても良い。
【００１５】
共重合体（Ｂ）を構成する単量体単位の比率は、スチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である。好ましくは、スチレン系単量体単位６０〜２２質量％、ブタジエン系単量体単位４０〜７８質量％、より好ましくはスチレン系単量体単位４５〜２４質量％、ブタジエン系単量体単位５５〜７６質量％である。
共重合体（Ｂ）を構成する単量体単位の比率が、スチレン系単量体単位７０質量％を越え、ブタジエン系単量体単位３０質量％未満であると、耐衝撃性が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。またスチレン系単量体単位２０質量％未満、ブタジエン系単量体単位８０質量％を越えると、色相が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。
【００１６】
共重合体（Ａ）の重量平均分子量（以後Ｍｗと表す。）は、特に制限はないが５万〜２０万、より好ましいのは７万〜１７万である。共重合体（Ｂ）のＭｗは、特に制限はないが８万〜２５万、より好ましいのは９万〜２０万である。なお、本発明のＭｗはＧＰＣにて測定されるポリスチレン換算のＭｗであり、下記記載の測定条件で測定した。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラハイドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製し、重量平均分子量はＰＳ換算値で表した。
【００１７】
共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値は、０．００５以下であり、好ましくは、０．０４以下、さらに好ましくは、０．００３以下である。
共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が、０．００５を越えると、透明性が低下し好ましくない。
【００１８】
本発明の樹脂組成物は、共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部、好ましくは共重合体（Ａ）８５〜６２質量部と共重合体（Ｂ）１５〜３８質量部、特に好ましくは、共重合体（Ａ）８０〜６４質量部と共重合体（Ｂ）２０〜３６質量部である。共重合樹脂の組成がこのより好ましい範囲のある場合、得られる樹脂組成物は軟質な光学成形体用として特に優れている。
共重合体（Ａ）が９０質量部を越え、共重合体（Ｂ）が１０質量部未満であると、耐衝撃性が低下し、かつ複屈折が増加し好ましくない。
共重合体（Ｂ）が６０質量部未満で、共重合体（Ｂ）が４０質量部を越えると、透明性、色相が低下し、かつ複屈折が増加し好ましくない。
【００１９】
樹脂組成物は、耐熱安定剤を含むと好ましい場合ある。
耐熱安定剤としては、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物などの耐熱安定剤が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいくは０．０１〜１質量部である。
【００２０】
樹脂組成物は、耐光安定剤を含むと好ましい場合ある。
耐光安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいのは０．０１〜１質量部である。
【００２１】
樹脂組成物にはこれ以外に滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を含んでも差し支えないが、透明性を阻害する可能性もあり、その添加量は少ないかあるいは添加しないのが好ましい。
【００２２】
共重合体の配合や造粒方法は特に制限はされず、公知の方法を採用することができる。例えば、共重合体、耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤をあらかじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混練する方法や、塊状連続重合の最終段階で耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤を系内に添加・混合後に造粒する方法がある。
【実施例】
【００２３】
以下、詳細な内容について実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２４】
［参考例１］
撹拌機を付した容積約１５リットルの完全混合型反応器、容積約４０リットルの塔式プラグフロー型反応器、予熱器を付した脱揮槽を直列に接続して構成した。スチレン５２質量部、メタクリル酸メチル（以下ＭＭＡ）４８質量部、エチルベンゼン１２質量部で構成される混合溶液に溶解し、さらに１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−シクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサＣ）０．０３質量部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）を０．１質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６ｋｇで温度１３０℃に制御した完全混合型反応器に導入した。第１完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、この反応液にｎ−ドデシルメルカプタン（花王社製チオカルコール２０）を毎時２．０ｇ加えた後、温度１３０℃に制御した完全混合型反応器に導入した。なお、完全混合型反応器の撹拌数は１８０ｒｐｍで実施した。次いで完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、流れの方向に向かって温度１３０℃から１５０℃の勾配がつくように調整した塔式プラグフロー型反応器に導入した。この反応液を予熱器で加温しながら、温度２４０℃で圧力１．０ｋＰａに制御した脱揮槽に導入し、未反応単量体等の揮発分を除去した。この樹脂液をギアポンプで抜き出し、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状の共重合体（Ａ）−１を得た。Mw＝１５万であった。
【００２５】
［参考例２］
スチレン４０質量部、ＭＭＡ６０質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−２を得た。Mw＝１４万であった。
【００２６】
［参考例３］
スチレン２２質量部、ＭＭＡ７８質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−３を得た。Mw＝１３万であった。
【００２７】
［参考例４］
スチレン７８質量部、ＭＭＡ２２質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−４を得た。Mw＝１６万であった。
【００２８】
［参考例５］
オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを添加しなかった以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−５を得た。Mw＝１５万であった。
【００２９】
［参考例６］
内容積２００リットルの重合缶に６５リットルのシクロヘキサンと７．０ｇのテトラヒドロフラン（ランダム化剤）及び３．３ｋｇのスチレンを仕込み撹拌を行いながら３０℃にて１２５ｍｌのｎ−ブチルリチウム（１０％シクロヘキサン溶液）（開始剤）を添加後、昇温を行い、８０℃で４０分間重合させた。次にスチレン５．１ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを添加し、８０℃で４０分間重合させた。その後、重合液に過剰のメタノールを添加し重合を停止させ、溶媒除去、乾燥させて共重合体（Ｂ）−１を得た。Mw＝１１万であった。
【００３０】
［参考例７］
初期のスチレン３．３ｋｇを２．1ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを３．２ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを１５．８ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−２を得た。Mw＝１１万であった。
【００３１】
［参考例８］
初期のスチレン３．３ｋｇを０ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを０ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを２１．０ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−３を得た。Mw＝１１万であった。
【００３２】
［参考例９］
初期のスチレン３．３ｋｇを６．２ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを９．８ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを５．３ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−４を得た。Mw＝１１万であった。
【００３３】
[実施例及び比較例]
参考例１〜９で製造した共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）を表1で示した割合（質量部）で配合してヘンシェルミキサーで混合した後、二軸押出機（東芝機械（株）社製 ＴＥＭ−３５Ｂ）にて、シリンダー温度２3０℃で溶融混練してペレット化した。なお、実施例５では、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計１００質量部に対し、ヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノールを各０．１質量部をヘンシェルミキサーで混合して押出を行った。
得られた共重合樹脂組成物を名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形温度２５０℃、金型温度６０℃で射出成形することにより、直径１８０ｍｍ、センターホール１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍの光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その評価結果を表１に示した。
【００３４】
【表１】
【００３５】
なお、評価は下記の方法によった。
（１）透明性
ＡＳＴＭ Ｄ１００３に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いてヘーズを測定し、成形品内のヘーズ（単位：％）の最大値で示した。１％以下を合格とした。
（２）色相
色差計（日本電色工業社製Σ―８０）を用いてｂ値を測定し、成形品内のｂ値の最大値で示した。２以下を合格とした。
（３）耐衝撃性
ＪＩＳ Ｋ７２１１に準拠して、錘先端５Ｒ、錘径１４ｍｍφ、質量２００ｇｆの錘を用い、成形品のセンターホールと外側の中間部に錘を落とすことで、５０％破壊高さ（単位：ｃｍ）を測定した。２０cm以上を合格とした。
（４）吸湿変形性
成形品を温度７０℃で湿度９０％の環境下に５日間放置したときの直径の寸法変化率（単位：％）を測定した。変化率０．３％以下を合格とした。
（５）複屈折
位相差測定装置（王子計測社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いてリタデーション（Ｒe）を測定し、成形品内のＲｅ（単位：ｎｍ）の最大値で示した。５０ｎｍ以下を合格とした。
（６）メルトマスフローレイト（ＭＦＲ）
ＪＩＳ Ｋ７２１０に基づき、温度２００℃、荷重４９Ｎで樹脂ペレットを用いて測定した。なお、測定機は東洋精機製作所社製メルトインデックサ（Ｆ−Ｆ０１）を使用した。
（７）屈折率測定
プレス成形機（２３０℃、２０ＭＰｓ）により試験片（０．５ｍｍ厚み）を作製して、デジタル屈折計ＲＸ−２０００（ＡＴＡＧＯ社製）を用いて、温度２５℃で測定した。なお、接触液はヨウ化水銀カリウム飽和水溶液を使用した。
【００３６】
本出願に係わる実施例は、良好な結果である。
また、スチレン系単量体とブタジエン単量体の比率は常に前者が後者より高いとＲｅの値が小さく、特に前者が後者の１．７倍から２．３倍であると特に好ましい。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学用成形体にはメタクリル樹脂が広く使用されている。しかしながら、メタクリル樹脂は、透明性や低複屈折等の光学特性が良好な反面、耐衝撃性が低く、また吸湿性が高いことから、光学用成形体とした場合に吸湿による変形が課題となっていた。一方ポリスチレンは透明で成形加工性が良好で、吸湿性が低く変形が少ないが、耐衝撃性が低く、また複屈折(率)が高いため、この分野での使用には制限があった。
このような光学用成形体に関する刊行物としては以下のようなものが知られているが、複屈折や耐光性の問題は十分解決されているとは言いがたかった。
【特許文献１】特開２００２−２４２６７９号公報
【特許文献２】特開２００２−２４３９１７号公報
【特許文献３】特開２００２−２８４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、吸湿による変形が少なく、かつ複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち本発明は、
（１）以下に示す共重合体（Ａ） ９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ） １０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
（２）ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする（１）記載の光学用成形体。
（３）ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする（１）または（２）に記載の光学用成形体。
（４）光学用成形体が、光ディスク基板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（５）光学用成形体が、導光板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（６）光学用成形体が、レンズであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（７）光学用成形体が、前面板であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（８）光学用成形体が、光学シート用ベースシートであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
（９）光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項記載の光学用成形体。
である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の光学用成形体は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、吸湿による変形が少なく、かつ複屈折の小さことから、例えば、光ディスク基板、導光板、レンズ、前面板、位相差フィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムのベースフィルムや、レンチキュラーレンズやフレネルレンズ等の光学シートのベースシートに適しており有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
共重合体（Ａ）は、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、スチレン系単量体単位と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位で構成される。また、共重合体（Ｂ）は、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、スチレン系単量体単位とブタジエン系単量体単位で構成される。
【０００７】
スチレン系単量体単位としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等の単位を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体単位は、単独でもよいが二種以上であってもよい。
【０００８】
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレート等のアクリル酸エステル等の単位を挙げることができるが、好ましくはメチルメタクリレートである。これらの（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位は単独で用いてもよいが二種以上であってもよい。
【０００９】
ブタジエン系単量体単位としては、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等の単位を挙げることができるが、好ましくは１，３−ブタジエンである。これらのブタジエン系単量体単位は、単独でもよいが二種以上であってもよい。
【００１０】
さらに、必要に応じてこれらの単量体と共重合可能なビニル系単量体の単位、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドを共重合体１００質量部に対して１０質量部未満であれば含んでもよい。
【００１１】
共重合体（Ａ）は、スチレン系単量体と（メタ）アクリル酸エステル系単量体を重合して得られた共重合体である。重合の方法は特に制限はないが、有機過酸化物を使用したラジカル共重合が好ましく、また共重合体（Ａ）の製造プロセスとしては、少量の溶剤を使用した塊状連続重合プロセスが好ましい。懸濁重合や乳化重合のプロセスで得る方法は十分な透明性が得られず、得られた光学用成形体に濁りが出やすく、特に光路の長い導光板等に使用すると光の減衰が大きく問題となる場合がある。
重合時添加する有機過酸化物としては、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−シクロヘキサン、２，２−ビス（４，４−ジ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、エチル−３，３−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブチレート等の公知のものが使用できる。有機過酸化物の添加量はスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体の合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましい。
溶剤としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、あるいは、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素などが使用でき、溶剤の添加量はスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体の合計１００質量部に対し、５〜２０質量部が好ましい。
また、重合時、４−メチル−２，４−ジフェニルペンテン−１、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン等の公知の分子量調整剤を添加しても差し支えない。
重合温度は、好ましくは８０〜１７０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。
【００１２】
共重合体（Ａ）を構成する単量体単位の比率は、スチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である。好ましくはスチレン系単量体単位６０〜３５質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位４０〜６５質量％、より好ましくはスチレン系単量体単位５５〜３８質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位４５〜６２質量％である。
共重合体（Ａ）を構成する単量体単位の比率が、スチレン系単量体単位８０質量％を越え、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０質量％未満であると、耐衝撃性が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。またスチレン系単量体単位３０質量％未満、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位７０質量％を越えると、色相が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。
【００１３】
共重合体（Ｂ）は、スチレン系単量体とブタジエン系単量体を重合して得られたブロック共重合体である。重合の方法は特に制限はないが、有機リチウム化合物を使用したアニオン重合が好ましく、また共重合体（Ｂ）の製造プロセスとしては、溶剤を使用した溶液重合プロセスが好ましい。
有機リチウム化合物は、分子中に１個以上のリチウム原子が結合した化合物であり、例えばエチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムのような単官能有機リチウム化合物や多官能有機リチウム化合物等が使用できる。有機リチウム化合物の添加量としてはスチレン系単量体とブタジエン系単量体の合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましい。
溶剤としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、あるいは、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素などが使用できるが、溶剤の添加量はスチレン系単量体、ブタジエン系単量体の合計１００質量部に対し、５０〜２００質量部が好ましい。
また、重合時、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の公知のランダム化剤を添加しても差し支えない。
重合温度は、好ましくは４０〜１２０℃、さらに好ましくは５０〜１００℃である。
【００１４】
共重合体（Ｂ）は少なくとも１個以上のスチレン系単量体からなる重合体ブロックと少なくともブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロックとを有するブロック共重合体である。ここでブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロックとは、ブタジエン系単量体の含有量が５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上の重合体ブロックである。ブタジエン系単量体を主体とする重合体ブロック中に共重合されているスチレン系単量体は重合体ブロック中に均一に分布していても、又テーパー状に分布していても良い。
【００１５】
共重合体（Ｂ）を構成する単量体単位の比率は、スチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である。好ましくは、スチレン系単量体単位６０〜２２質量％、ブタジエン系単量体単位４０〜７８質量％、より好ましくはスチレン系単量体単位４５〜２４質量％、ブタジエン系単量体単位５５〜７６質量％である。
共重合体（Ｂ）を構成する単量体単位の比率が、スチレン系単量体単位７０質量％を越え、ブタジエン系単量体単位３０質量％未満であると、耐衝撃性が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。またスチレン系単量体単位２０質量％未満、ブタジエン系単量体単位８０質量％を越えると、色相が低下し、複屈折が増加するため好ましくない。
【００１６】
共重合体（Ａ）の重量平均分子量（以後Ｍｗと表す。）は、特に制限はないが５万〜２０万、より好ましいのは７万〜１７万である。共重合体（Ｂ）のＭｗは、特に制限はないが８万〜２５万、より好ましいのは９万〜２０万である。なお、本発明のＭｗはＧＰＣにて測定されるポリスチレン換算のＭｗであり、下記記載の測定条件で測定した。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラハイドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製し、重量平均分子量はＰＳ換算値で表した。
【００１７】
共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値は、０．００５以下であり、好ましくは、０．０４以下、さらに好ましくは、０．００３以下である。
共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が、０．００５を越えると、透明性が低下し好ましくない。
【００１８】
本発明の樹脂組成物は、共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部、好ましくは共重合体（Ａ）８５〜６２質量部と共重合体（Ｂ）１５〜３８質量部、特に好ましくは、共重合体（Ａ）８０〜６４質量部と共重合体（Ｂ）２０〜３６質量部である。共重合樹脂の組成がこのより好ましい範囲のある場合、得られる樹脂組成物は軟質な光学成形体用として特に優れている。
共重合体（Ａ）が９０質量部を越え、共重合体（Ｂ）が１０質量部未満であると、耐衝撃性が低下し、かつ複屈折が増加し好ましくない。
共重合体（Ｂ）が６０質量部未満で、共重合体（Ｂ）が４０質量部を越えると、透明性、色相が低下し、かつ複屈折が増加し好ましくない。
【００１９】
樹脂組成物は、耐熱安定剤を含むと好ましい場合ある。
耐熱安定剤としては、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物などの耐熱安定剤が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいくは０．０１〜１質量部である。
【００２０】
樹脂組成物は、耐光安定剤を含むと好ましい場合ある。
耐光安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいのは０．０１〜１質量部である。
【００２１】
樹脂組成物にはこれ以外に滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を含んでも差し支えないが、透明性を阻害する可能性もあり、その添加量は少ないかあるいは添加しないのが好ましい。
【００２２】
共重合体の配合や造粒方法は特に制限はされず、公知の方法を採用することができる。例えば、共重合体、耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤をあらかじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混練する方法や、塊状連続重合の最終段階で耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤を系内に添加・混合後に造粒する方法がある。
【実施例】
【００２３】
以下、詳細な内容について実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２４】
［参考例１］
撹拌機を付した容積約１５リットルの完全混合型反応器、容積約４０リットルの塔式プラグフロー型反応器、予熱器を付した脱揮槽を直列に接続して構成した。スチレン５２質量部、メタクリル酸メチル（以下ＭＭＡ）４８質量部、エチルベンゼン１２質量部で構成される混合溶液に溶解し、さらに１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−シクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサＣ）０．０３質量部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）を０．１質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６ｋｇで温度１３０℃に制御した完全混合型反応器に導入した。第１完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、この反応液にｎ−ドデシルメルカプタン（花王社製チオカルコール２０）を毎時２．０ｇ加えた後、温度１３０℃に制御した完全混合型反応器に導入した。なお、完全混合型反応器の撹拌数は１８０ｒｐｍで実施した。次いで完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、流れの方向に向かって温度１３０℃から１５０℃の勾配がつくように調整した塔式プラグフロー型反応器に導入した。この反応液を予熱器で加温しながら、温度２４０℃で圧力１．０ｋＰａに制御した脱揮槽に導入し、未反応単量体等の揮発分を除去した。この樹脂液をギアポンプで抜き出し、ストランド状に押出し切断することによりペレット形状の共重合体（Ａ）−１を得た。Mw＝１５万であった。
【００２５】
［参考例２］
スチレン４０質量部、ＭＭＡ６０質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−２を得た。Mw＝１４万であった。
【００２６】
［参考例３］
スチレン２２質量部、ＭＭＡ７８質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−３を得た。Mw＝１３万であった。
【００２７】
［参考例４］
スチレン７８質量部、ＭＭＡ２２質量部とした以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−４を得た。Mw＝１６万であった。
【００２８】
［参考例５］
オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを添加しなかった以外は参考例１と同様に行い、共重合体（Ａ）−５を得た。Mw＝１５万であった。
【００２９】
［参考例６］
内容積２００リットルの重合缶に６５リットルのシクロヘキサンと７．０ｇのテトラヒドロフラン（ランダム化剤）及び３．３ｋｇのスチレンを仕込み撹拌を行いながら３０℃にて１２５ｍｌのｎ−ブチルリチウム（１０％シクロヘキサン溶液）（開始剤）を添加後、昇温を行い、８０℃で４０分間重合させた。次にスチレン５．１ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを添加し、８０℃で４０分間重合させた。その後、重合液に過剰のメタノールを添加し重合を停止させ、溶媒除去、乾燥させて共重合体（Ｂ）−１を得た。Mw＝１１万であった。
【００３０】
［参考例７］
初期のスチレン３．３ｋｇを２．1ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを３．２ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを１５．８ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−２を得た。Mw＝１１万であった。
【００３１】
［参考例８］
初期のスチレン３．３ｋｇを０ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを０ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを２１．０ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−３を得た。Mw＝１１万であった。
【００３２】
［参考例９］
初期のスチレン３．３ｋｇを６．２ｋｇとし、次に添加したスチレン５．１ｋｇを９．８ｋｇとブタジエン１２．６ｋｇを５．３ｋｇとした以外は参考例６と同様に行い、共重合体（Ｂ）−４を得た。Mw＝１１万であった。
【００３３】
[実施例及び比較例]
参考例１〜９で製造した共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）を表1で示した割合（質量部）で配合してヘンシェルミキサーで混合した後、二軸押出機（東芝機械（株）社製 ＴＥＭ−３５Ｂ）にて、シリンダー温度２3０℃で溶融混練してペレット化した。なお、実施例５では、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計１００質量部に対し、ヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノールを各０．１質量部をヘンシェルミキサーで混合して押出を行った。
得られた共重合樹脂組成物を名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形温度２５０℃、金型温度６０℃で射出成形することにより、直径１８０ｍｍ、センターホール１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍの光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その評価結果を表１に示した。
【００３４】
【表１】
【００３５】
なお、評価は下記の方法によった。
（１）透明性
ＡＳＴＭ Ｄ１００３に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いてヘーズを測定し、成形品内のヘーズ（単位：％）の最大値で示した。１％以下を合格とした。
（２）色相
色差計（日本電色工業社製Σ―８０）を用いてｂ値を測定し、成形品内のｂ値の最大値で示した。２以下を合格とした。
（３）耐衝撃性
ＪＩＳ Ｋ７２１１に準拠して、錘先端５Ｒ、錘径１４ｍｍφ、質量２００ｇｆの錘を用い、成形品のセンターホールと外側の中間部に錘を落とすことで、５０％破壊高さ（単位：ｃｍ）を測定した。２０cm以上を合格とした。
（４）吸湿変形性
成形品を温度７０℃で湿度９０％の環境下に５日間放置したときの直径の寸法変化率（単位：％）を測定した。変化率０．３％以下を合格とした。
（５）複屈折
位相差測定装置（王子計測社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いてリタデーション（Ｒe）を測定し、成形品内のＲｅ（単位：ｎｍ）の最大値で示した。５０ｎｍ以下を合格とした。
（６）メルトマスフローレイト（ＭＦＲ）
ＪＩＳ Ｋ７２１０に基づき、温度２００℃、荷重４９Ｎで樹脂ペレットを用いて測定した。なお、測定機は東洋精機製作所社製メルトインデックサ（Ｆ−Ｆ０１）を使用した。
（７）屈折率測定
プレス成形機（２３０℃、２０ＭＰｓ）により試験片（０．５ｍｍ厚み）を作製して、デジタル屈折計ＲＸ−２０００（ＡＴＡＧＯ社製）を用いて、温度２５℃で測定した。なお、接触液はヨウ化水銀カリウム飽和水溶液を使用した。
【００３６】
本出願に係わる実施例は、良好な結果である。
また、スチレン系単量体とブタジエン単量体の比率は常に前者が後者より高いとＲｅの値が小さく、特に前者が後者の１．７倍から２．３倍であると特に好ましい。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下に示す共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
【請求項２】
ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１記載の光学用成形体。
【請求項３】
ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学用成形体。
【請求項４】
光学用成形体が、光ディスク基板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項５】
光学用成形体が、導光板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項６】
光学用成形体が、レンズであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項７】
光学用成形体が、前面板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項８】
光学用成形体が、光学シート用ベースシートであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項９】
光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項１】
以下に示す共重合体（Ａ）９０〜６０質量部と共重合体（Ｂ）１０〜４０質量部からなる樹脂組成物を用いた光学用成形体。
共重合体（Ａ）：スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位８０〜３０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位２０〜７０質量％である共重合体。
共重合体（Ｂ）：スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体であって、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７０〜２０質量％、ブタジエン系単量体単位３０〜８０質量％である共重合体。
但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の屈折率差の絶対値が０．００５以下である。
【請求項２】
ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１記載の光学用成形体。
【請求項３】
ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、共重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）の合計を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学用成形体。
【請求項４】
光学用成形体が、光ディスク基板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項５】
光学用成形体が、導光板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項６】
光学用成形体が、レンズであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項７】
光学用成形体が、前面板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項８】
光学用成形体が、光学シート用ベースシートであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項９】
光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【公開番号】特開２００７−２２４２２１（Ｐ２００７−２２４２２１Ａ）
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−４９４６７（Ｐ２００６−４９４６７）
【出願日】平成１８年２月２７日（２００６．２．２７）
【出願人】（０００００３２９６）電気化学工業株式会社 (1,539)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月２７日（２００６．２．２７）
【出願人】（０００００３２９６）電気化学工業株式会社 (1,539)
【Ｆターム（参考）】
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