光記録媒体
【課題】４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られる光記録媒体の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える。
式中、Ｒ１〜Ｒ８は水素、アルキル基、アリール基又はアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ１〜Ｒ８は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える。
式中、Ｒ１〜Ｒ８は水素、アルキル基、アリール基又はアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ１〜Ｒ８は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の照射により情報を記録する光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光記録媒体の更なる高密度記録を実現するために記録再生光の短波長化が試みられており、具体的には、青色半導体レーザー光（波長４０５ｎｍ）のような４００ｎｍ付近の短波長域の光の使用が検討されている。しかし、従来のＣＤやＤＶＤに用いられてきた色素材料は、上記波長域の光では情報の記録に必要な屈折率変化を生じ得ないため、そのままでは適用が困難である。そこで、上記波長域の記録再生光に合わせた色素として、下記特許文献１に示すような材料が開発されている。
【特許文献１】特開２００２−１７２８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の色素を記録層に用いた光記録媒体は上記の短波長域の光で記録したときの記録再生特性が必ずしも十分ではなく、この点で更なる改善が求められていた。
【０００４】
そこで、本発明は、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の光記録媒体は、下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える。
【０００６】
【化１】
【０００７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。
【０００８】
上記本発明の光記録媒体は、記録層を構成する光記録材料として、トリアゾール骨格を有する化合物においてアクリルアミド基を導入した式（１）の構造を有する色素を用いたことにより、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られるものとなった。なお、（メタ）アクリルアミド基とは、アクリルアミド基又はメタクリルアミド基を意味する。
【０００９】
記録再生特性向上の効果をより顕著なものとするため、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であることが好ましい。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であり、且つ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がｔ−ブチル基又はｔ−オクチル基であることがより好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られる光記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１２】
図１は本発明の光記録媒体の好適な一実施形態を示す断面図である。図１に示す光記録媒体１は、基板２の一面上（図中下側）に、反射層６、記録層３、誘電体層４及び光透過層５がこの順で積層された積層構造を有する。光記録媒体１は追記型の光記録ディスクであり、青色半導体レーザー光の照射によって情報を記録及び再生するために用いられる。
【００１３】
記録層３は、上記式（１）で表される化合物（以下、場合により「トリアゾール化合物」という。）の１種又は２種以上を主成分として形成されている。式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示す。
【００１４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基（以下「アクリルアミド含有基」という。）である。これらの中でもＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がアクリルアミド含有基であることが好ましい。特に、Ｒ１がアクリルアミド含有基であることが好ましい。
【００１５】
アクリルアミド含有基は、例えば下記一般式（２）で表される。式（２）中、Ｒ９はアルキル基（好ましくは炭素数１〜４である直鎖または分岐アルキル基）を示し、Ｒ１０は水素原子又はメチル基（好ましくは水素原子）を示す。Ｒ９としてはメチル基が特に好ましい。
【００１６】
【化２】
【００１７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうちアクリルアミド含有基以外のもののから選ばれる少なくとも１個は、分岐アルキル基であることが好ましい。特に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が分岐アルキル基であることが好ましい。分岐アルキル基としては、ｔ−ブチル基及びｔ−オクチル基（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル基）が挙げられる。
【００１８】
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうちアクリルアミド含有基以外のもののから選ばれる少なくとも１個は、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基であることが好ましい。この場合、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち１個がアクリルアミド含有基、１個が分岐アルキル基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち１個が置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基であることが特に好ましい。アルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基が挙げられる。
【００１９】
より具体的には、記録層３は下記一般式（１０）で表されるトリアゾール化合物を含有することが好ましい。
【００２０】
【化３】
【００２１】
式（１０）中、Ｒ９及びＲ１０は上記式（２）中のＲ９及びＲ１０とその好適な態様も含めて同義であり、Ｒ１１は分岐アルキル基を示し、Ｒ１２は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基又は水素原子を示す。式（１０）のトリアゾール化合物としては、下記一般式（１１）で表されるものがある。
【００２２】
【化４】
【００２３】
式（１）のトリアゾール化合物は、当業者には理解されるように、例えば下記一般式（３）で表されるトリアゾール化合物と、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミドとを硫酸等の酸触媒の存在下で反応させるより合成することができる。
【００２４】
【化５】
【００２５】
式（３）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は式（１）におけるＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８とその好適な態様も含めて同義であり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうち少なくとも１個は水素原子である。式（３）のトリアゾール化合物は公知の方法で合成することが可能であり、市販品として入手可能なものもある。
【００２６】
記録層３の厚さは、５〜１００ｎｍであることが好ましい。特に３０〜７０ｎｍとすると、変調度と反射率とのバランスが良くなるため、より好ましい。この範囲外では、反射率が低下して、再生を行うことが困難となる傾向にある。また、グルーブ２３に隣接する部分における記録層３の膜厚を１００ｎｍ以上とすると、変調度と反射率とのバランスが悪化する傾向にある。
【００２７】
記録層３は、例えば、上述のトリアゾール化合物を光記録材料として溶媒に溶解した光記録材料溶液を用いて形成される。光記録材料溶液の溶媒としては、アルコール、脂肪族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、ハロゲン化アルキル系溶媒等が挙げられる。これらの中でも、アルコール又は脂肪族炭化水素系溶媒を含む溶媒が好ましい。
【００２８】
アルコールとしては、フッ素化アルコール、アルコキシアルコール又はケトアルコールが好ましい。特に、ポリカーボネート基板上に記録層を形成する場合、フッ素化アルコールが好適である。
【００２９】
光記録材料溶液は、溶媒中に光記録材料を投入し、必要に応じて加熱しながら、超音波処理等してこれを溶解することにより、調製できる。光記録材料溶液における光記録材料の濃度は、光記録材料溶液全体を基準として０．１〜１０質量％であることが好ましい。光記録材料溶液は、光記録材料及び溶媒の他、必要に応じて、バインダー、分散剤、安定剤などを含有していてもよい。
【００３０】
光記録材料溶液を用いて記録層３を形成させる場合、光記録材料溶液からなる溶液層を反射層６上に形成する工程の後、溶液層中の溶媒を除去して、光記録材料を含有する記録層３を形成させる。すなわち、光記録媒体１は、有機色素を含有する光記録材料を溶媒に溶解した光記録材料溶液からなる溶液層を基板２上に形成させる工程と、溶液層中の溶媒を除去して記録層３を形成させる工程とを備える製造方法によって製造することができる。溶液層は、スピンコーティング法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法などの方法で反射層６上に塗布することにより形成される。これらの中でも、スピンコート法が好ましい。
【００３１】
基板２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．３〜１．６ｍｍ、好ましくは０．５〜１．３ｍｍ程度のディスク状の形状を有する。記録層３の基板２と反対側、すなわち光透過層５側からの光照射により情報の記録及びその再生が行われる。そのため、基板２は必ずしも光学的に透明である必要はない。具体的には、基板２を形成する材料としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種プラスチック材料等が好適に用いられる。あるいは、ガラス、セラミックス、金属等を用いてもよい。
【００３２】
基板２の記録層３側の面には、溝状のグルーブＧと、隣り合うグルーブＧ同士の間で相対的に高くなっている（光透過層５側の光記録媒体表面に近くなっている）部分であるランドＬとを含む微細な凹凸パターンが形成されている。グルーブＧは、通常、スパイラル状に延びた溝として形成されている。グルーブＧの深さＧｄ（ランドＬの光透過層５側に最も突き出た部分からの深さ）は、好ましくは４０〜１５０ｎｍであり、より好ましくは６０〜１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制できる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなる他、クロストークが大きくなったり、ウォブル信号のようなプリフォーマット信号が小さくなったりする傾向がある。一方、深さＧｄが１５０ｎｍを超えると、ランドＬ及びグルーブＧを高精度で形成することが難しくなるために、反射信号の低下や感度の低下を招き得る。
【００３３】
グルーブ幅Ｇｗ（グルーブＧの底から深さＧｄの１／２の高さにおけるグルーブＧの幅）は、好ましくは１１０〜２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０〜１９０ｎｍである。グルーブピッチＧｐ（隣り合うグルーブＧ同士の間隔、例えば、隣り合うグルーブＧの幅Ｇｗ方向における中心同士の間隔）は、例えば２９０〜３５０ｎｍであり、好ましくは３１０〜３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークが十分に抑制される。
【００３４】
上記のような凹凸パターンが形成された基板２は、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形により作製できる。プラスチック材料以外の材料を用いる場合には、例えば、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって基板２が成形される。
【００３５】
記録層３の基板２側の面上、すなわち、記録層３に記録再生光が入射する側と反対側の面上には、反射層６が設けられている。反射層６の厚さは０．１〜１００μｍであることが好ましい。
【００３６】
反射層６は、適度な反射率を得る等の目的で、記録層３の記録再生光が入射する側（入射面側）と反対側の面上に設けられている。反射層６は、例えば、金属又は合金から形成される。反射層６は、具体的には、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）又はこれらの少なくとも１種を含む合金から形成されることが好ましい。特に、Ａｇ又はＡｇを含む合金、例えば、ＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ）を用いることが、適切な反射率が得られるため好ましい。
【００３７】
あるいは、反射層６を構成する材料として、樹脂、セラミックス、金属化合物等を用いることもできる。樹脂やセラミックスを用いる場合、反射層は、樹脂と、金属粒子及びセラミックス粒子から選ばれる１種又は２種以上の粒子とを含有するものであることが好ましい。金属化合物を用いる場合、金属化合物としてはアルコキシド、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩及びアセチルアセトン塩からなる群より選ばれる１種又は２種以上の金属化合物が好ましい。これら金属化合物中の金属としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ等が挙げられる。
【００３８】
反射層６の厚さは、０〜２００ｎｍであることが好ましい。反射層６は、例えば、蒸着、スパッタ等の気相成長法や、溶液法により形成することができる。
【００３９】
誘電体層４は、記録層３に密着して設けられている。誘電体層４は、記録層３を機械的、化学的に保護する保護層としての機能とともに、光学特性を調整する干渉層としての機能を有する。誘電体層４は記録層３の記録光及び再生光が入射する側に位置するため、４０５ｎｍのレーザー光を透過させることが必要である。
【００４０】
誘電体層４に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ及びＭｇからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物又はこれらの複合物が好適に用いられる。特に、光透過能の観点から、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＡｌＮ、Ｔａ２Ｏ３等が好ましい。これら誘電体層４は単層であってもよいし、複数の層を有していてもよい。誘電体層４は、例えば、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法等の気相成長法によって形成することができる。
【００４１】
誘電体層４上には、光透過層５が誘電体層４に密着して設けられている。光透過層５は単層であってもよいし、多層構造を有していてもよい。光透過層５は、記録光及び再生光に対して、光学的に透明で、反射が少なく、複屈折が小さい材料から形成されることが好ましい。具体的には、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化型樹脂などが好適に用いられる。光透過層５は、例えば、紫外線硬化樹脂などの材料を含む塗布液を誘電体層４上に塗布してから塗膜を乾燥し、更に必要に応じて樹脂を硬化させることにより形成可能である。塗布の際には、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法などが適用可能である。このようにして形成される光透過層５の厚さはその材質に応じて適宜選択されるが、光透過能の観点からは、一般に１〜１５０μｍであることが好ましい。
【００４２】
光記録媒体１の記録層３に対して、４０５ｎｍの記録光を光透過層５側からパルス状に照射することにより、情報を高密度に記録することが可能である。特に、記録層３のグルーブＧに沿った部分に集光して情報の記録及び再生を行う、いわゆるｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ方式で情報の記録及び再生を行うことが好ましい。
【００４３】
本発明の光記録媒体は、上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の光記録媒体は、所謂ＨＤ−ＤＶＤとして知られる光記録媒体においても同様に用いることができる。この場合、光記録媒体は従来公知のＤＶＤに相当する構成を適用すればよい。例えば、図１の光透過層５に相当する基板を用意し、これの一面上に直接記録層３を形成し、更にその上に反射層６及び基板２をこの順で積層した構成とすることができる。このような構成の光記録媒体において、記録及び再生を光透過層５に相当する基板の側から行う場合には、図１の実施形態におけるランドＬがグルーブとして機能し、グルーブＧがランドとして機能することになる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４５】
１．トリアゾール化合物の合成
（実施例１）
温度計、攪拌機を取り付けた５００ｍＬのフラスコ中で２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔ−ブチルフェノール２５ｇ（０．０９４モル）を９７％濃硫酸５０ｍＬに溶解した。そこに、５〜１０℃に保ちながらＮ−ヒドロキシメチルアクリルアミド１１．３４ｇ（０．１１モル）を少量ずつ２時間かけて加え、加え終わってから同温度で２時間攪拌し、さらに室温で４時間攪拌した。約３００ｍＬの氷水にその反応液を加え、析出物をろ別して充分に水洗し粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン１５０ｍＬ及びイソプロピルアルコール５０ｍＬの混合液に加熱により溶解し、熱ろ過し、ろ液を冷却後析出した固形物をろ別して、下記化学式（１ａ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）メチルアクリルアミド）を得た（収量２０．２ｇ、白色結晶、収率６１．６％）。
【００４６】
【化６】
【００４７】
・融点：１９６．７〜１９７．１℃
・純度：９９．２％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図２）：λｍａｘ３３９ｎｍ、εｍａｘ１７６００
・溶解度：ＩＰＡ ０．２％、ＥＣ ０．７％、ＴＦＰ ０．４％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは、島津製作所社製の「ＵＶ−２４５０」を用い、２５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で試料濃度１０ｐｐｍで測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、島津製作所社製の「ＬＣ−６Ａ」を用い、カラムを「ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ」（商品名、住化分析センター社製、φ６ｍｍ×１５ｃｍ）、温度を４０℃、移動相をメタノール：水＝９５：５、流速を１．０ｍＬ／分として、検出波長２５０ｎｍで行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図７）。
【００４８】
（実施例２）
出発物質として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノールを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｂ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル）アクリルアミド）を得た（収量２４．８ｇ、白色結晶、収率７２．５％）。
【００４９】
【化７】
【００５０】
・融点：２０１．６〜２０２．３℃
・純度：９８．６％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図３）：λｍａｘ３４１ｎｍ、εｍａｘ１７３００
・溶解度：ＩＰＡ ０．１％以下、ＥＣ ０．１％以下、ＴＦＰ ０．２５％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは実施例１と同様の条件で測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、移動相をメタノール：水＝９：１とした他は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図８）。
【００５１】
（実施例３）
出発物質として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノールを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｃ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−ヒドロキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）メチル）アクリルアミド）を得た（収量４８．２ｇ、白色結晶、収率７３．９％）。
【００５２】
【化８】
【００５３】
・融点：１２９．４〜１３１．０℃
・純度：９８．９％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図４）：λｍａｘ３４１ｎｍ、εｍａｘ１６４００
・溶解度：ＥＣ ０．１％以上
ＵＶ−近紫外吸収スペクトル測定及びＨＰＬＣ測定は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図９）。
【００５４】
（実施例４）
出発物質としてメチル２−（５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレートを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｄ）のトリアゾール化合物（メチル２−（３−（アクリルアミドメチル）−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート）を得た（収量７．９ｇ、黄色結晶、収率６３．０％）。
【００５５】
【化９】
【００５６】
・融点：１８３．６〜１８４．２℃
・純度：９５．７％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図５）：λｍａｘ３５２ｎｍ、εｍａｘ１８６００
・溶解度：ＥＣ １％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは実施例１と同様の条件で測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、カラムを「Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３ ５μｍ」（商品名、ジーエルサイエンス社製、φ４．６ｍｍ×１５ｃｍ）とし、移動相をアセトニトリル：水＝８：２（リン酸０．３％）とした他は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図１０）。
【００５７】
（実施例５）
出発物質としてメチル２−（２−ヒドロキシ−５−（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレートを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｅ）のトリアゾール化合物（メチル２−（３−（アクリルアミドメチル）−２−ヒドロキシ−５−（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート）を得た（収量２．１５ｇ、黄色結晶、収率４６．３％）。
【００５８】
【化１０】
【００５９】
・融点：１７５．２〜１７５．５℃
・純度：９８．０％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図６）：λｍａｘ３５４ｎｍ、εｍａｘ１８１００
・溶解度：ＩＰＡ ０．１％以下、ＥＣ ０．７％、ＴＦＰ １％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトル測定及びＨＰＬＣ測定は実施例４と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図１１）。
【００６０】
２．光記録媒体の作製
実施例１〜５で合成したアゾ化合物をテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に溶解して光記録材料溶液を調製した。一方、グルーブが形成されたポリカーボネート基板を準備し、このグルーブ面上に、スパッタリング法によりＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ合金）からなる反射層を形成した。
【００６１】
次いで、基板上に形成された反射層上に、上記塗布液をスピンコート法により塗布し、乾燥して、基板上に記録層を形成した。その後、記録層上にスパッタリング法によりＳｉＯ２−ＺｎＳからなる誘電層を形成した後、この誘電層上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線の照射により硬化させて基板を形成した。これにより、図１に示す光記録媒体と同様の構成を有する光記録媒体を得た。
【００６２】
また、下記化学式（５）で表されるトリアゾール化合物を用いた他は実施例と同様にして、比較例の光記録媒体を作製した。
【００６３】
【化１１】
【００６４】
３．光記録媒体のＣＮＲ測定
実施例及び比較例の各光記録媒体を光ディスク評価装置（商品名：ＤＤＵ１０００、パルステック社製）にセットした。そして、対物レンズのＮＡ（開口数）を０．８５とし、青色波長域（４０７ｎｍ）のレーザービーム記録ヘッド内の集光レンズで光透過側から集光して、ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ方式で記録層に対して光記録を行った。このとき、２Ｔ信号の単一信号を入力した。光記録後の各光記録媒体について、記録層における未記録部分に波長４０７ｎｍの再生光（０．３ｍＷ）を照射し、当該再生光のＣＮＲ（ｄＢ）を測定した。
【００６５】
【表１】
【００６６】
表１に示すように、アクリルアミド基を導入したトリアゾール化合物を記録層に用いた実施例の光記録媒体は、十分な記録再生特性を示すことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る光記録媒体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】実施例１で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図３】実施例２で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図４】実施例３で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図５】実施例４で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図６】実施例５で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図７】実施例１で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図８】実施例２で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図９】実施例３で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図１０】実施例４で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図１１】実施例５で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…光記録媒体、２…基板、３…記録層、４…誘電体層、５…光透過層、６…反射層、Ｇ…グルーブ、Ｌ…ランド。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の照射により情報を記録する光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光記録媒体の更なる高密度記録を実現するために記録再生光の短波長化が試みられており、具体的には、青色半導体レーザー光（波長４０５ｎｍ）のような４００ｎｍ付近の短波長域の光の使用が検討されている。しかし、従来のＣＤやＤＶＤに用いられてきた色素材料は、上記波長域の光では情報の記録に必要な屈折率変化を生じ得ないため、そのままでは適用が困難である。そこで、上記波長域の記録再生光に合わせた色素として、下記特許文献１に示すような材料が開発されている。
【特許文献１】特開２００２−１７２８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の色素を記録層に用いた光記録媒体は上記の短波長域の光で記録したときの記録再生特性が必ずしも十分ではなく、この点で更なる改善が求められていた。
【０００４】
そこで、本発明は、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の光記録媒体は、下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える。
【０００６】
【化１】
【０００７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。
【０００８】
上記本発明の光記録媒体は、記録層を構成する光記録材料として、トリアゾール骨格を有する化合物においてアクリルアミド基を導入した式（１）の構造を有する色素を用いたことにより、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られるものとなった。なお、（メタ）アクリルアミド基とは、アクリルアミド基又はメタクリルアミド基を意味する。
【０００９】
記録再生特性向上の効果をより顕著なものとするため、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であることが好ましい。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であり、且つ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がｔ−ブチル基又はｔ−オクチル基であることがより好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、４００ｎｍ付近の光で記録したときに十分な記録再生特性が得られる光記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１２】
図１は本発明の光記録媒体の好適な一実施形態を示す断面図である。図１に示す光記録媒体１は、基板２の一面上（図中下側）に、反射層６、記録層３、誘電体層４及び光透過層５がこの順で積層された積層構造を有する。光記録媒体１は追記型の光記録ディスクであり、青色半導体レーザー光の照射によって情報を記録及び再生するために用いられる。
【００１３】
記録層３は、上記式（１）で表される化合物（以下、場合により「トリアゾール化合物」という。）の１種又は２種以上を主成分として形成されている。式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示す。
【００１４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基（以下「アクリルアミド含有基」という。）である。これらの中でもＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がアクリルアミド含有基であることが好ましい。特に、Ｒ１がアクリルアミド含有基であることが好ましい。
【００１５】
アクリルアミド含有基は、例えば下記一般式（２）で表される。式（２）中、Ｒ９はアルキル基（好ましくは炭素数１〜４である直鎖または分岐アルキル基）を示し、Ｒ１０は水素原子又はメチル基（好ましくは水素原子）を示す。Ｒ９としてはメチル基が特に好ましい。
【００１６】
【化２】
【００１７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうちアクリルアミド含有基以外のもののから選ばれる少なくとも１個は、分岐アルキル基であることが好ましい。特に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が分岐アルキル基であることが好ましい。分岐アルキル基としては、ｔ−ブチル基及びｔ−オクチル基（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル基）が挙げられる。
【００１８】
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうちアクリルアミド含有基以外のもののから選ばれる少なくとも１個は、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基であることが好ましい。この場合、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち１個がアクリルアミド含有基、１個が分岐アルキル基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち１個が置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基であることが特に好ましい。アルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基が挙げられる。
【００１９】
より具体的には、記録層３は下記一般式（１０）で表されるトリアゾール化合物を含有することが好ましい。
【００２０】
【化３】
【００２１】
式（１０）中、Ｒ９及びＲ１０は上記式（２）中のＲ９及びＲ１０とその好適な態様も含めて同義であり、Ｒ１１は分岐アルキル基を示し、Ｒ１２は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基又は水素原子を示す。式（１０）のトリアゾール化合物としては、下記一般式（１１）で表されるものがある。
【００２２】
【化４】
【００２３】
式（１）のトリアゾール化合物は、当業者には理解されるように、例えば下記一般式（３）で表されるトリアゾール化合物と、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミドとを硫酸等の酸触媒の存在下で反応させるより合成することができる。
【００２４】
【化５】
【００２５】
式（３）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は式（１）におけるＲ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８とその好適な態様も含めて同義であり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうち少なくとも１個は水素原子である。式（３）のトリアゾール化合物は公知の方法で合成することが可能であり、市販品として入手可能なものもある。
【００２６】
記録層３の厚さは、５〜１００ｎｍであることが好ましい。特に３０〜７０ｎｍとすると、変調度と反射率とのバランスが良くなるため、より好ましい。この範囲外では、反射率が低下して、再生を行うことが困難となる傾向にある。また、グルーブ２３に隣接する部分における記録層３の膜厚を１００ｎｍ以上とすると、変調度と反射率とのバランスが悪化する傾向にある。
【００２７】
記録層３は、例えば、上述のトリアゾール化合物を光記録材料として溶媒に溶解した光記録材料溶液を用いて形成される。光記録材料溶液の溶媒としては、アルコール、脂肪族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、ハロゲン化アルキル系溶媒等が挙げられる。これらの中でも、アルコール又は脂肪族炭化水素系溶媒を含む溶媒が好ましい。
【００２８】
アルコールとしては、フッ素化アルコール、アルコキシアルコール又はケトアルコールが好ましい。特に、ポリカーボネート基板上に記録層を形成する場合、フッ素化アルコールが好適である。
【００２９】
光記録材料溶液は、溶媒中に光記録材料を投入し、必要に応じて加熱しながら、超音波処理等してこれを溶解することにより、調製できる。光記録材料溶液における光記録材料の濃度は、光記録材料溶液全体を基準として０．１〜１０質量％であることが好ましい。光記録材料溶液は、光記録材料及び溶媒の他、必要に応じて、バインダー、分散剤、安定剤などを含有していてもよい。
【００３０】
光記録材料溶液を用いて記録層３を形成させる場合、光記録材料溶液からなる溶液層を反射層６上に形成する工程の後、溶液層中の溶媒を除去して、光記録材料を含有する記録層３を形成させる。すなわち、光記録媒体１は、有機色素を含有する光記録材料を溶媒に溶解した光記録材料溶液からなる溶液層を基板２上に形成させる工程と、溶液層中の溶媒を除去して記録層３を形成させる工程とを備える製造方法によって製造することができる。溶液層は、スピンコーティング法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法などの方法で反射層６上に塗布することにより形成される。これらの中でも、スピンコート法が好ましい。
【００３１】
基板２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．３〜１．６ｍｍ、好ましくは０．５〜１．３ｍｍ程度のディスク状の形状を有する。記録層３の基板２と反対側、すなわち光透過層５側からの光照射により情報の記録及びその再生が行われる。そのため、基板２は必ずしも光学的に透明である必要はない。具体的には、基板２を形成する材料としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種プラスチック材料等が好適に用いられる。あるいは、ガラス、セラミックス、金属等を用いてもよい。
【００３２】
基板２の記録層３側の面には、溝状のグルーブＧと、隣り合うグルーブＧ同士の間で相対的に高くなっている（光透過層５側の光記録媒体表面に近くなっている）部分であるランドＬとを含む微細な凹凸パターンが形成されている。グルーブＧは、通常、スパイラル状に延びた溝として形成されている。グルーブＧの深さＧｄ（ランドＬの光透過層５側に最も突き出た部分からの深さ）は、好ましくは４０〜１５０ｎｍであり、より好ましくは６０〜１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制できる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなる他、クロストークが大きくなったり、ウォブル信号のようなプリフォーマット信号が小さくなったりする傾向がある。一方、深さＧｄが１５０ｎｍを超えると、ランドＬ及びグルーブＧを高精度で形成することが難しくなるために、反射信号の低下や感度の低下を招き得る。
【００３３】
グルーブ幅Ｇｗ（グルーブＧの底から深さＧｄの１／２の高さにおけるグルーブＧの幅）は、好ましくは１１０〜２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０〜１９０ｎｍである。グルーブピッチＧｐ（隣り合うグルーブＧ同士の間隔、例えば、隣り合うグルーブＧの幅Ｇｗ方向における中心同士の間隔）は、例えば２９０〜３５０ｎｍであり、好ましくは３１０〜３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークが十分に抑制される。
【００３４】
上記のような凹凸パターンが形成された基板２は、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形により作製できる。プラスチック材料以外の材料を用いる場合には、例えば、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって基板２が成形される。
【００３５】
記録層３の基板２側の面上、すなわち、記録層３に記録再生光が入射する側と反対側の面上には、反射層６が設けられている。反射層６の厚さは０．１〜１００μｍであることが好ましい。
【００３６】
反射層６は、適度な反射率を得る等の目的で、記録層３の記録再生光が入射する側（入射面側）と反対側の面上に設けられている。反射層６は、例えば、金属又は合金から形成される。反射層６は、具体的には、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）又はこれらの少なくとも１種を含む合金から形成されることが好ましい。特に、Ａｇ又はＡｇを含む合金、例えば、ＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ）を用いることが、適切な反射率が得られるため好ましい。
【００３７】
あるいは、反射層６を構成する材料として、樹脂、セラミックス、金属化合物等を用いることもできる。樹脂やセラミックスを用いる場合、反射層は、樹脂と、金属粒子及びセラミックス粒子から選ばれる１種又は２種以上の粒子とを含有するものであることが好ましい。金属化合物を用いる場合、金属化合物としてはアルコキシド、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩及びアセチルアセトン塩からなる群より選ばれる１種又は２種以上の金属化合物が好ましい。これら金属化合物中の金属としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ等が挙げられる。
【００３８】
反射層６の厚さは、０〜２００ｎｍであることが好ましい。反射層６は、例えば、蒸着、スパッタ等の気相成長法や、溶液法により形成することができる。
【００３９】
誘電体層４は、記録層３に密着して設けられている。誘電体層４は、記録層３を機械的、化学的に保護する保護層としての機能とともに、光学特性を調整する干渉層としての機能を有する。誘電体層４は記録層３の記録光及び再生光が入射する側に位置するため、４０５ｎｍのレーザー光を透過させることが必要である。
【００４０】
誘電体層４に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ及びＭｇからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物又はこれらの複合物が好適に用いられる。特に、光透過能の観点から、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＡｌＮ、Ｔａ２Ｏ３等が好ましい。これら誘電体層４は単層であってもよいし、複数の層を有していてもよい。誘電体層４は、例えば、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法等の気相成長法によって形成することができる。
【００４１】
誘電体層４上には、光透過層５が誘電体層４に密着して設けられている。光透過層５は単層であってもよいし、多層構造を有していてもよい。光透過層５は、記録光及び再生光に対して、光学的に透明で、反射が少なく、複屈折が小さい材料から形成されることが好ましい。具体的には、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化型樹脂などが好適に用いられる。光透過層５は、例えば、紫外線硬化樹脂などの材料を含む塗布液を誘電体層４上に塗布してから塗膜を乾燥し、更に必要に応じて樹脂を硬化させることにより形成可能である。塗布の際には、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法などが適用可能である。このようにして形成される光透過層５の厚さはその材質に応じて適宜選択されるが、光透過能の観点からは、一般に１〜１５０μｍであることが好ましい。
【００４２】
光記録媒体１の記録層３に対して、４０５ｎｍの記録光を光透過層５側からパルス状に照射することにより、情報を高密度に記録することが可能である。特に、記録層３のグルーブＧに沿った部分に集光して情報の記録及び再生を行う、いわゆるｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ方式で情報の記録及び再生を行うことが好ましい。
【００４３】
本発明の光記録媒体は、上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の光記録媒体は、所謂ＨＤ−ＤＶＤとして知られる光記録媒体においても同様に用いることができる。この場合、光記録媒体は従来公知のＤＶＤに相当する構成を適用すればよい。例えば、図１の光透過層５に相当する基板を用意し、これの一面上に直接記録層３を形成し、更にその上に反射層６及び基板２をこの順で積層した構成とすることができる。このような構成の光記録媒体において、記録及び再生を光透過層５に相当する基板の側から行う場合には、図１の実施形態におけるランドＬがグルーブとして機能し、グルーブＧがランドとして機能することになる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４５】
１．トリアゾール化合物の合成
（実施例１）
温度計、攪拌機を取り付けた５００ｍＬのフラスコ中で２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔ−ブチルフェノール２５ｇ（０．０９４モル）を９７％濃硫酸５０ｍＬに溶解した。そこに、５〜１０℃に保ちながらＮ−ヒドロキシメチルアクリルアミド１１．３４ｇ（０．１１モル）を少量ずつ２時間かけて加え、加え終わってから同温度で２時間攪拌し、さらに室温で４時間攪拌した。約３００ｍＬの氷水にその反応液を加え、析出物をろ別して充分に水洗し粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン１５０ｍＬ及びイソプロピルアルコール５０ｍＬの混合液に加熱により溶解し、熱ろ過し、ろ液を冷却後析出した固形物をろ別して、下記化学式（１ａ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）メチルアクリルアミド）を得た（収量２０．２ｇ、白色結晶、収率６１．６％）。
【００４６】
【化６】
【００４７】
・融点：１９６．７〜１９７．１℃
・純度：９９．２％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図２）：λｍａｘ３３９ｎｍ、εｍａｘ１７６００
・溶解度：ＩＰＡ ０．２％、ＥＣ ０．７％、ＴＦＰ ０．４％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは、島津製作所社製の「ＵＶ−２４５０」を用い、２５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で試料濃度１０ｐｐｍで測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、島津製作所社製の「ＬＣ−６Ａ」を用い、カラムを「ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ」（商品名、住化分析センター社製、φ６ｍｍ×１５ｃｍ）、温度を４０℃、移動相をメタノール：水＝９５：５、流速を１．０ｍＬ／分として、検出波長２５０ｎｍで行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図７）。
【００４８】
（実施例２）
出発物質として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノールを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｂ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル）アクリルアミド）を得た（収量２４．８ｇ、白色結晶、収率７２．５％）。
【００４９】
【化７】
【００５０】
・融点：２０１．６〜２０２．３℃
・純度：９８．６％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図３）：λｍａｘ３４１ｎｍ、εｍａｘ１７３００
・溶解度：ＩＰＡ ０．１％以下、ＥＣ ０．１％以下、ＴＦＰ ０．２５％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは実施例１と同様の条件で測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、移動相をメタノール：水＝９：１とした他は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図８）。
【００５１】
（実施例３）
出発物質として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノールを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｃ）のトリアゾール化合物（Ｎ−（（３−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−ヒドロキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）メチル）アクリルアミド）を得た（収量４８．２ｇ、白色結晶、収率７３．９％）。
【００５２】
【化８】
【００５３】
・融点：１２９．４〜１３１．０℃
・純度：９８．９％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図４）：λｍａｘ３４１ｎｍ、εｍａｘ１６４００
・溶解度：ＥＣ ０．１％以上
ＵＶ−近紫外吸収スペクトル測定及びＨＰＬＣ測定は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図９）。
【００５４】
（実施例４）
出発物質としてメチル２−（５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレートを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｄ）のトリアゾール化合物（メチル２−（３−（アクリルアミドメチル）−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート）を得た（収量７．９ｇ、黄色結晶、収率６３．０％）。
【００５５】
【化９】
【００５６】
・融点：１８３．６〜１８４．２℃
・純度：９５．７％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図５）：λｍａｘ３５２ｎｍ、εｍａｘ１８６００
・溶解度：ＥＣ １％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトルは実施例１と同様の条件で測定した。純度を求めるためのＨＰＬＣ測定は、カラムを「Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３ ５μｍ」（商品名、ジーエルサイエンス社製、φ４．６ｍｍ×１５ｃｍ）とし、移動相をアセトニトリル：水＝８：２（リン酸０．３％）とした他は実施例１と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図１０）。
【００５７】
（実施例５）
出発物質としてメチル２−（２−ヒドロキシ−５−（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレートを用いた他は実施例１と同様にして、下記化学式（１ｅ）のトリアゾール化合物（メチル２−（３−（アクリルアミドメチル）−２−ヒドロキシ−５−（２，４，４，−トリメチルペンタン−２−イル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート）を得た（収量２．１５ｇ、黄色結晶、収率４６．３％）。
【００５８】
【化１０】
【００５９】
・融点：１７５．２〜１７５．５℃
・純度：９８．０％（ＨＰＬＣ）
・ＵＶ−近紫外吸収スペクトル（図６）：λｍａｘ３５４ｎｍ、εｍａｘ１８１００
・溶解度：ＩＰＡ ０．１％以下、ＥＣ ０．７％、ＴＦＰ １％
ＵＶ−近紫外吸収スペクトル測定及びＨＰＬＣ測定は実施例４と同様の条件で行った。また、赤外吸収スペクトルをＫＢｒ法により測定した（図１１）。
【００６０】
２．光記録媒体の作製
実施例１〜５で合成したアゾ化合物をテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に溶解して光記録材料溶液を調製した。一方、グルーブが形成されたポリカーボネート基板を準備し、このグルーブ面上に、スパッタリング法によりＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ合金）からなる反射層を形成した。
【００６１】
次いで、基板上に形成された反射層上に、上記塗布液をスピンコート法により塗布し、乾燥して、基板上に記録層を形成した。その後、記録層上にスパッタリング法によりＳｉＯ２−ＺｎＳからなる誘電層を形成した後、この誘電層上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線の照射により硬化させて基板を形成した。これにより、図１に示す光記録媒体と同様の構成を有する光記録媒体を得た。
【００６２】
また、下記化学式（５）で表されるトリアゾール化合物を用いた他は実施例と同様にして、比較例の光記録媒体を作製した。
【００６３】
【化１１】
【００６４】
３．光記録媒体のＣＮＲ測定
実施例及び比較例の各光記録媒体を光ディスク評価装置（商品名：ＤＤＵ１０００、パルステック社製）にセットした。そして、対物レンズのＮＡ（開口数）を０．８５とし、青色波長域（４０７ｎｍ）のレーザービーム記録ヘッド内の集光レンズで光透過側から集光して、ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ方式で記録層に対して光記録を行った。このとき、２Ｔ信号の単一信号を入力した。光記録後の各光記録媒体について、記録層における未記録部分に波長４０７ｎｍの再生光（０．３ｍＷ）を照射し、当該再生光のＣＮＲ（ｄＢ）を測定した。
【００６５】
【表１】
【００６６】
表１に示すように、アクリルアミド基を導入したトリアゾール化合物を記録層に用いた実施例の光記録媒体は、十分な記録再生特性を示すことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る光記録媒体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】実施例１で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図３】実施例２で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図４】実施例３で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図５】実施例４で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図６】実施例５で合成した化合物のＵＶ−近紫外吸収スペクトルを示す図である。
【図７】実施例１で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図８】実施例２で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図９】実施例３で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図１０】実施例４で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【図１１】実施例５で合成した化合物の赤外吸収スペクトルを示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…光記録媒体、２…基板、３…記録層、４…誘電体層、５…光透過層、６…反射層、Ｇ…グルーブ、Ｌ…ランド。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える光記録媒体。
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。］
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であり、且つ、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がｔ−ブチル基又はｔ−オクチル基である、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物を含有する記録層を備える光記録媒体。
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基を示し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち少なくとも１個は置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である。］
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基である、請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個が置換基として（メタ）アクリルアミド基を有するアルキル基であり、且つ、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち少なくとも１個がｔ−ブチル基又はｔ−オクチル基である、請求項１記載の光記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００７−２０３５９７（Ｐ２００７−２０３５９７Ａ）
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２５００２（Ｐ２００６−２５００２）
【出願日】平成１８年２月１日（２００６．２．１）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月１日（２００６．２．１）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
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