含フッ素ポリエーテル化合物
低い蒸気圧および粘性を有し、使用時の劣化の問題を防ぎ、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用に用いうる化合物を提供する。
次式（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚで表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
ただし、Ｘは次式ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−で表される基（ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数。）、Ｚは次式ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−で表わされる基（ＲＦは炭素数１〜２０の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基等、ｇは３〜２００の整数。）、Ｙは（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基等、ｘは２以上の整数、ｚは０以上の整数、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数。
次式（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚで表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
ただし、Ｘは次式ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−で表される基（ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数。）、Ｚは次式ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−で表わされる基（ＲＦは炭素数１〜２０の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基等、ｇは３〜２００の整数。）、Ｙは（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基等、ｘは２以上の整数、ｚは０以上の整数、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペルフルオロ化されたポリエーテル化合物は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤等として広く使用される。たとえば、末端基を−ＣＨ２ＯＨに変換した化合物として下式（Ｉ）で表される化合物（ただし、ｈおよびｉは、それぞれ１以上の整数を示す。）が知られている（たとえば、非特許文献１参照）。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ−（ＣＦ２Ｏ）ｉ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ （Ｉ）
該化合物（Ｉ）を基材表面に塗布することにより形成した被膜の一部が欠損したときには、欠損部周辺の化合物（Ｉ）が欠損部を覆い、該欠損部を修復する性質（自己修復性）があることが文献上知られている。また自己修復性には、化合物（Ｉ）の分子末端に存在する−ＣＨ２ＯＨ基が関与していることも知られている。
【０００３】
化合物（Ｉ）等のペルフルオロ化されたポリエーテル化合物が高温条件で使用されるようになるにつれ、より低い蒸気圧を有する化合物が望まれている。低い蒸気圧を達成する試みとして、高分子量化が行われている。しかし、上記化合物（Ｉ）を高分子化すると、粘度が著しく上昇して、塗布が困難になる問題があった。また高分子量化により単位体積当たりの−ＣＨ２ＯＨ基の比率が低くなり、自己修復性が低下する問題があった。
【０００４】
これらの問題を解決する化合物として、下式（II）で示される化合物（ただしｈおよびｉは、それぞれ１以上の整数を示す。）も提案されているが粘度が高かった。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ−（ＣＦ２Ｏ）ｉ−ＣＦ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−ＯＨ （II）
【０００５】
さらに、化合物（Ｉ）および化合物（II）は、いずれも分子構造中に−ＯＣＦ２Ｏ−単位を必須とする。該単位は化合物の分解反応の原因となる単位であり、該単位を有する化合物は使用により劣化がおこる問題があった（たとえば、非特許文献２、非特許文献３、および非特許文献４参照）。
【０００６】
−ＯＣＦ２Ｏ−単位が存在しないペルフルオロ化されたポリエーテル化合物としては、末端が−ＣＯＯＨ基である化合物が報告されている（たとえば、非特許文献５参照）。しかし、末端が−ＣＯＯＨ基である化合物は、高温条件下におかれると−ＣＯＯＨ末端が脱ＣＯ２して極性の末端基を喪失する問題、および、自己修復性が低下する問題があった。また、−ＣＯＯＨ基を有する化合物の−ＣＯＯＨ基の酸性は大であるため、腐食の原因となる問題があった。
【０００７】
【非特許文献１】Ｃ．Ｔｏｎｅｌｌｉら、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、９５巻、１９９９年、５１−７０頁
【非特許文献２】Ｗ．Ｆｏｎｇら、「ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ」、３５巻２号、１９９９年３月、９１１−９１２頁
【非特許文献３】Ｊ．Ｓｃｈｅｉｒｓ著、「Ｍｏｄｅｒｎ Ｆｌｕｏｒｏｐｏｌｙｍｅｒｓ」、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ Ｌｔｄ．，１９９７年、４６６−４６８頁
【非特許文献４】Ｐ．Ｈ．Ｋａｓａｉ、「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ」、２５巻、１９９２年、６７９１頁
【非特許文献５】Ｋｙｌｅ Ｗ． Ｆｅｌｌｌｉｎｇら、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、１２５巻、２００４年、７４９−７５４頁。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記の問題を解決する目的でなされたものであり、低い蒸気圧および粘性を有し、化学的な安定性に優れ、使用時の劣化の問題のない新規な含フッ素ポリエーテル化合物の提供を目的とする。また本発明は自己修復性に優れ、かつ、潤滑油またはコーティング剤等として有用に用いうる含フッ素ポリエーテル化合物、および該化合物を含む溶剤組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は以下の発明を提供する。
１．下式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｘ：下式（Ｘ）で表される基（ここで、ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数を示す。）。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
Ｚ：下式（Ｚ）で表わされる基（ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。）を示す。ｇは３〜２００の整数を示す。）。
ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
Ｙ：（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基を示し、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
ｘ、ｚ：ｘは２以上の整数であり、ｚは０以上の整数であり、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数である。ｘが２以上である場合の式（Ｘ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の式（Ｚ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００１０】
２．式（Ｘ）で表される基が下式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基である上記１に記載の化合物。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
【００１１】
３．式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−１）で表される化合物または下式（Ａ−２）で表される化合物である上記２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【００１２】
４．式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−３）で表される化合物である上記２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは前記と同じ意味を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【００１３】
５．式（Ａ）で表される化合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した分子量が５００〜１００万であり、かつ、分子量分布が１．０〜１．５である上記１〜４のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【００１４】
６．上記１〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物と有機溶媒とを含む溶液組成物。
【００１５】
７．溶液組成物中の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度が、０．０１〜５０質量％である上記６に記載の溶液組成物。
【００１６】
８．上記1〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物が提供される。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、低い蒸気圧および粘性を有し、使用時の劣化の問題が少ない性質を有する。また本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、自己修復性に優れる化合物である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本明細書においては、式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物を化合物（Ａ）のように記す。また式（Ｘ）で表わされる基を基（Ｘ）のように記す。他の式においても同様に記す。
本発明は下記化合物（Ａ）を提供する。本発明の化合物（Ａ）中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
化合物（Ａ）中のＸは下式（Ｘ）で表される１価の基を示す。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃＣＦ２−Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
ここで、ａは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位の数を示し、０〜１００の整数であり、０〜１０の整数が好ましく、０〜２が特に好ましく、０または１がとりわけ好ましい。
【００１９】
ｂは−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位の数を示し、０〜１００の整数であり、０〜１０の整数が好ましく、０〜２が特に好ましく、０または１がとりわけ好ましい。
【００２０】
ａとｂとの組み合わせとしては、ａもｂも０である場合、ａが０でありｂが１以上（ｂは１であるのが好ましい。）である場合、ａが１以上（ａは１であるのが好ましい）でありｂが０である場合が好ましい。
【００２１】
ｃは−（ＣＨ２）−単位の数を示し、１〜１００の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１または２が特に好ましい。ｃが２以上である場合、ｃは偶数であるのが、製造のしやすさの点で好ましい。
【００２２】
ｄは−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−単位の数を示し、１〜２００の整数であり、３〜１００の整数が好ましく、３〜２００の整数が特に好ましく、３〜７０の整数がとりわけ好ましく、５〜５０の整数がさらに好ましい。ａ、ｂ、およびｃのいずれかが０である場合には、該単位は存在しないことを意味する。
【００２３】
式（Ｘ）においては、ａが０、ｂが０、ｃが１、およびｄが３〜２００である基（Ｘ）、ａおよびｂの一方が１以上であり他方が０であり、ｃが１、およびｄが３〜２００である基（Ｘ）が好ましい。
【００２４】
式（Ｘ）における「−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−」部分の表記は、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位の両単位がそれぞれ１単位以上存在する場合の並び方が、限定されないことを意味する。すなわち、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位がそれぞれ１つずつ存在する場合には、水酸基に結合する単位は、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位であっても−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位であってもよい。
【００２５】
また−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位が存在し、かつ、少なくとも一方の単位が２単位以上存在する場合には、これらの単位の配列はブロック状であってもランダム状であってもよく、ブロック状であるのが好ましく、水酸基末端から式（Ｘ）で表記した各単位の順列でブロック状に配列しているのが特に好ましい。
【００２６】
基（Ｘ）としては、以下の例が挙げられる。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
このうち基（Ｘ）としては、基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）が製造のしやすさ、および化合物が分解しにくく、安定である点で好ましい。
【００２７】
式（Ａ）中のＺは下式（Ｚ）で表わされる１価の基を示す。
ＲＦ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基、または、炭素数１〜２０の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基（ただし、該基中には、−ＯＣＦ２Ｏ−単位は存在しない。）示す。ＲＦの構造としては、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環構造を有する構造が挙げられ、直鎖構造または分岐構造が好ましく、直鎖構造が特に好ましい。ＲＦの炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１６が特に好ましい。
【００２８】
ＲＦの具体例としては、以下の基が挙げられ、基（ＲＦ１）が好ましい。ただし、ｓは０〜１５の整数を示し、ＣｙＦはペルフルオロシクロヘキシル基を示し、ｔは０〜１５の整数を示し、ＡｄＦはペルフルオロ化アダマンタンチル基を示し、ｔは０〜１５の整数を示す。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｓ− （ＲＦ１）、
ＣｙＦ−（ＣＦ２）ｔ−、
ＡｄＦ−（ＣＦ２）ｔ−。
【００２９】
ｇは−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−単位の数を示し、３〜２００の整数を示し、３〜１００の整数が好ましく、３〜７０の整数が特に好ましく、５〜５０の整数がとりわけ好ましい。
【００３０】
基（Ｚ）としては、以下の例が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−１）
ＣＦ３（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−２）
ＣＦ３（ＣＦ２）５−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−３）
化合物（Ａ）は、Ｙにｘ個の１価の基（Ｘ）およびｚ個の１価の基（Ｙ）が結合した化合物であり、Ｙは（ｘ＋ｚ）価の基である。
【００３１】
Ｙの価数である（ｘ＋ｚ）は３以上の整数であり、３〜２０の整数が好ましく、３〜１０の整数が特に好ましい。（ｘ＋ｚ）の値は、化合物（Ａ）の用途に応じて適宜調節するのが好ましく、化合物（Ａ）を後述する潤滑剤として使用する場合の（ｘ＋ｚ）は３〜１０の整数が好ましく、３または４がとりわけ好ましく、３がさらに好ましい。Ｙの価数が３または４である化合物（特に３である化合物）は、製造がしやすく、沸点も適切であり、かつ自己修復性に優れる。
【００３２】
基（Ｘ）の数（ｘ）は２以上の整数であり、３〜２０の整数が好ましく、３〜１０の整数が特に好ましく、３または４がとりわけ好ましい。基（Ｚ）の数（ｚ）は０以上の整数であり、ｚは０〜１７の整数が好ましく、０〜７の整数が特に好ましく、０（すなわち基（Ｚ）は存在しない）または１がとりわけ好ましい。ｘが２以上である場合の基（Ｘ）はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の基（Ｚ）はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
Ｙの炭素数は１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましく、とりわけ３〜５が好ましい。Ｙが（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基である場合の該基とは、炭素原子とフッ素原子のみからなる（ｘ＋ｚ）価の飽和の基である。Ｙがエーテル性酸素原子を含む基である場合の該エーテル性酸素原子の数は、１個または２個以上であり、１〜３個が好ましい。該エーテル性酸素原子は、炭素−炭素原子間に存在することから、ＸとＺに結合するＹの末端部分にはエーテル性酸素原子は存在しない。また化合物（Ａ）中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造が存在しないことから、Ｙ中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。また、Ｙ中のエーテル性酸素原子は結合末端の炭素原子には結合しない。Ｙはエーテル性酸素原子を含まない基である（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基が好ましい。３価の基（Ｙ）としては、ペルフルオロアルカン−トリイル基、４価の基（Ｙ）としては、ペルフルオロアルカン−テトライル基が特に好ましく、炭素数１〜２０のこれらの基がとりわけ好ましく、さらに炭素数３〜５のこれらの基が好ましい。
【００３４】
Ｚが存在せず、基（Ｙ）が３価の基（Ｙ３）である場合の化合物（Ａ）としては、下記化合物（Ａ−１）が好ましい。ただし、Ｘ１０は基（Ｘ−１）〜基（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
【００３５】
化合物（Ａ−１）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）３Ｙ３ （Ａ−１１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）３Ｙ３ （Ａ−１２）
【００３６】
Ｚが存在せず、基（Ｙ）が４価の基（Ｙ４）である場合の化合物（Ａ）としては、下記化合物（Ａ−２）が好ましい。ただし、Ｘ１０は基（Ｘ−１）〜基（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【００３７】
化合物（Ａ−２）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物（Ａ−２１）または下記化合物（Ａ−２２）が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）４Ｙ４ （Ａ−２１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）４Ｙ４ （Ａ−２２）
【００３８】
Ｚが存在する場合、基（Ｙ）が３価の基（Ｙ３）である下記化合物（Ａ−３）が好ましい。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは式（Ｚ）で表される基を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【００３９】
化合物（Ａ−３）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物（Ａ−３１）および下記化合物（Ａ−３２）が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３２）
上記の式中、Ｙ３（ペルフルオロアルカン−トリイル基）としては、下記の基が挙げられる。
【００４０】
【化１】
Ｙ４（ペルフルオロアルカン−テトライル基）としては、下記の基が挙げられる。
【００４１】
【化２】
上記以外の基（Ｙ）の例は、化合物（Ａ）の例中に示される。
【００４２】
化合物（Ａ）は、１種の化合物として存在しても、２種以上の化合物としても存在してもよい。後者の例としては、化合物（Ａ）中に存在する基（Ｘ）および／または基（Ｚ）が異なる２種以上の化合物を含む組成物としても存在する例が挙げられる。
【００４３】
化合物（Ａ）が化合物（Ａ）の２種以上からなる組成物である場合、基（Ｘ）におけるａの平均は０〜２の正数が好ましく、０が特に好ましい。ｂの平均は０〜２の正数が好ましい。ｃの平均は１が好ましい。ｄの平均は３〜１００の正数が好ましい。ｇの平均は３〜１００の正数が好ましい。
【００４４】
化合物（Ａ）の分子量は５００〜１０万が好ましく、１０００〜２万が特に好ましい。また化合物（Ａ）が２種以上の化合物の混合物からなる場合、化合物（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜１．５が好ましく、１．０〜１．２５が特に好ましい。分子量および分子量分布が該範囲にある場合には、粘度が低く、蒸発成分が少なく、溶媒に溶解した際の均一性に優れる利点がある。化合物（Ａ）の分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定でき、測定条件は、後述する実施例中に記載した条件が採用できる。
【００４５】
本発明における化合物（Ａ）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。ただし、下式中のＸおよびＺは前記と同じ意味を示す。ｋは１〜１０の整数を示し、同一分子中にｋが２個以上存在する場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４６】
【化３】
【００４７】
本発明の化合物（Ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−で表される単位は存在しない。−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が存在しない化合物とは、通常の分析手法（19Ｆ−ＮＭＲ等）では該単位の存在が検出できない化合物を意味する。
【００４８】
本発明の化合物（Ａ）は、該化合物（Ａ）に対応する炭素骨格を有する多価ポリエチレングリコールから本発明者によるＷＯ０２／４３９７等に記載される方法と同様の方法で製造できる。原料となる多価ポリエチレングリコールとしては、種々の構造、分子量のものが安価に市販されており、容易に入手できる。また、多価アルコールにエチレンオキサイドを付加することによって容易に合成できる。
【００４９】
具体的には、化合物（Ａ）におけるｃが１である化合物は以下の方法で製造できる。
ただし、下式中の記号は前記の意味と同じ意味を示す。ＹＨはＹと同一の基、または、Ｙのフッ素原子の１部または全部が水素原子に置換された基を示す。ＲはＲＦと同一の基、またはＲＦのフッ素原子の１部または全部が水素原子に置換された基を示し、ＲＦと同一の基が好ましい。Ｒｂは、１価の含フッ素有機基を示し、ペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含有するペルフルオロアルキル基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−単位は存在しない。）が好ましい。ＲｂＦは、１価のペルフルオロ化有機基を示し、Ｒｂと同一のペルフルオロアルキル基またはＲｂと同一のエーテル性酸素原子を含有するペルフルオロアルキル基が好ましい。Ｒｃはアルキル基を示す。Ｘ１は塩素原子またはフッ素原子を示す。
【００５０】
すなわち、下記化合物（Ｄ１）を下記化合物（Ｄ２）と反応させて下記化合物（Ｄ３）を得て、該化合物（Ｄ３）をペルフルオロ化して下記化合物（Ｄ４）を得て、該化合物（Ｄ４）においてエステル結合の分解反応を行って下記化合物（Ｄ５）を得る。つぎに化合物（Ｄ５）に下記化合物（Ｄ６）を反応させて下記化合物（Ｄ７）を得て、または化合物（Ｄ５）を加水分解して下記化合物（Ｄ８）を得て、つぎに化合物（Ｄ７）を還元およびエステル結合の分解反応を行なって、または化合物（Ｄ８）をそれぞれ還元して、下記化合物（Ａ−４）を得る。また化合物（Ｄ７）は、化合物（Ｄ４）と式Ｒｃ−ＯＨ（ただし、Ｒｃは前記と同じ意味を示す。）で表される化合物とをエステル交換反応することによっても得られる。該化合物（Ａ−４）は、化合物（Ａ）におけるｃが１であり、ａおよびｂが０である化合物である。
【００５１】
【化４】
【００５２】
化合物（Ａ）において、ｃが２以上であり、ａおよびｂが０である下記化合物（Ａ−５）は、前記方法における化合物（Ｄ５）にヨウ素（Ｉ２）またはＬｉＩ等を反応させることにより、末端−ＣＯＦ基を−Ｉ（ヨウ素原子）に変換して化合物（Ｄ９）を得る。つぎに化合物（Ｄ９）に任意のモル数のエチレンを付加反応させて化合物（Ｄ１０）とした後に、化合物（Ｄ１０）の末端ヨウ素原子を発煙硫酸またはベタインによってアルコール化する方法によって得ることができる。
【００５３】
【化５】
【００５４】
ａが１以上である化合物（Ａ）は、前記の方法で得た化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）に、それぞれ、エチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドを付加することにより得られる。またｂが１以上である化合物（Ａ）は、化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）に、それぞれ、グリシジルアルコールを付加することによって得られる。
【００５５】
エチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドの付加反応は、公知の方法および条件にならって実施できる。ここで化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）のフッ素含有量が高い場合には、付加反応に用いるエチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドとの相溶性が低いため、付加反応の反応系が２相分離することがある。相分離が起こると、反応時間が長くなり効率的ではないため、相溶性を高めるための溶媒を反応系中に添加して反応を行うのが好ましい。該溶媒としては、ヒドロフルオロカーボン類（ＨＣＦＣ類）が挙げられる。
【００５６】
該製造方法の出発物質である化合物（Ｄ１）は、通常の場合、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位の数が異なる２種以上の混合物であるものが入手しやすい。混合物である化合物（Ｄ１）を用いて上記製造方法を実施した場合には、生成する化合物（Ａ）もまた混合物として生成する。
【００５７】
化合物（Ａ）の製造方法における各反応工程は、公知の反応の手法および条件（たとえばＷＯ０２／４３９７号パンフレット等に記載される方法）にならって実施できる。また化合物（Ｄ５）の化合物（Ｄ７）および化合物（Ｄ８）への反応工程も、公知の方法にしたがって実施できる。たとえば、化合物（Ｄ７）および化合物（Ｄ８）の製造における還元工程は、特開平１０−７２５６８号公報（段落００２１）等に記載される方法にしたがって実施できる。該還元工程は、ＮａＢＨ４、ボラン−ＴＨＦ、リチウムアルミニウムヒドリド等の還元剤を用いて実施するのが好ましい。
上記方法で得た化合物（Ａ）を含む生成物は、通常の場合、目的に応じた精製処理を行って高純度の化合物（Ａ）を得た後に目的とする用途に用いるのが好ましい。
【００５８】
精製処理によって、生成物中に含まれる金属不純物、陰イオン不純物、および反応副生物（たとえば、水酸基数の異なる副生物等）を除去するのが好ましい。精製処理の手法としてはイオン吸着ポリマーによって、金属不純物、陰イオン不純物等を除去する公知の方法、および超臨界抽出による方法が挙げられる。
【００５９】
また生成処理に、カラムクロマトグラフィを採用した場合には、副生成物等を効率的に除去できることから工業的に有利である。カラムクロマトグラフィの固定相としては、シリカゲル、活性アルミナ、酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、およびケイ酸マグネシウム（たとえば商品名：Ｆｏｒｉｓｉｌ）等が挙げられ、細孔の平均直径が２００オングストローム未満であるものを用いるのが好ましい。移動相としては、一般の非極性溶媒および極性溶媒を用いることができ、さらに必要に応じてこれらの溶媒の比率を変えて極性を変化させるのが好ましい。また本発明の化合物（Ａ）は含フッ素化合物であり一般にはフッ素系溶媒に対する溶解性に優れるが、カラムクロマトグラフィにおける移動相にフッ素系溶媒は必須ではない。
【００６０】
非極性溶媒としてはヘキサンおよびオクタン等の炭化水素系溶媒；Ｒ−１１３およびＲ−２２５等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。極性溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒；ヘキサフルオロイソプロパノール等のハロゲン化アルコール；アセトン、よびメチルエチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸等のカルボン酸溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；ジメチルスルホキシド等のアルキルスルホキシド等、が挙げられる。
【００６１】
本発明の方法で得られる化合物（Ａ）は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤として有用な化合物である。すなわち本発明は含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤を提供する。
【００６２】
潤滑剤としては、磁気ディスク用のダイヤモンド状炭素保護膜（ＤＬＣ膜）上に塗布する潤滑剤が挙げられる。表面改質剤としては、ポリマーの表面に塗布してポリマーの屈折率を制御する、またはポリマーの耐薬品性を改善する等の用途に用いうる。
【００６３】
化合物（Ａ）を潤滑剤または表面改質剤として使用する場合には、化合物（Ａ）を溶液組成物として用いるのが好ましい。溶液組成物とする場合の溶剤としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、トリブチルアミン等のパーフルオロアミン類やバートレル（デュポン社製）などのパーフルオロアルカン類を用いるのが好ましい。溶液組成物中の化合物（Ａ）の濃度は、用途に応じて適宜調節でき、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましい。
【００６４】
化合物（Ａ）を含む溶液組成物は、溶液、懸濁液、または乳化液のいずれであってもよく、溶液であるのが好ましい。また溶剤としては、後述するコーティング（たとえばディップコート工程におけるコーティング）に適した沸点を持つ溶剤を用いるのが好ましい。溶液組成物中には、化合物（Ａ）と溶剤以外の成分（以下、他の成分という）が含まれていてもよい。化合物（Ａ）を潤滑剤として用いる場合の他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製商品名：Ｘ−１ｐ。）等が挙げられる。化合物（Ａ）をコーティング材料として用いる場合には、シラン系、エポキシ系、チタン系、アルミニウム系などのカップリング剤が挙げられ、これらは基材と化合物（Ａ）との接着性を向上させうる。
【００６５】
化合物（Ａ）を潤滑剤または表面改質剤として使用する場合には、化合物（Ａ）または化合物（Ａ）を含む溶液組成物を基材表面に塗布し、乾燥することによって化合物（Ａ）の薄膜を形成させて、目的とする機能を発現させるのが好ましい。
【００６６】
塗布方法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、および真空蒸着法などの方法が挙げられ、スピンコート法、ディップコート法、または真空蒸着法が好ましい。
【００６７】
スピンコート法、ディップコート法により塗布する場合には、溶液組成物として用いるのが好ましい。溶液組成物においては、ハンドリンクのしやすさ、沸点、入手しやすさ等を適宜考慮して溶剤を選択するのが好ましい。
【００６８】
本発明の化合物（Ａ）を用いて形成した薄膜は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。また該薄膜は、高い潤滑性を保持し、かつ自己修復性を有する。該薄膜の膜厚は、通常０．００１〜５０μｍが好ましい。基材の形状および材質は特に限定されない。本発明の化合物（Ａ）を含む溶液組成物を塗布した基材の用途としては、ハードディスク基板、光ファイバ、鏡、太陽電池、光ディスク、タッチパネル、感光および定着ドラム、フィルムコンデンサ、ガラス窓用反射防止フィルムなどの各種フィルムなどが挙げられる。
【００６９】
化合物（Ａ）を界面活性剤として用いる例としては、塗料の表面張力を低下させる添加剤またはレベリング剤、研磨液のレベリング剤などが挙げられる。塗料に添加する場合には、塗料に対する化合物（Ａ）の量が０．０１〜５質量％程度になるように添加するのが好ましい。
【００７０】
化合物（Ａ）は上記以外の他の用途にも有用に用いうる。化合物（Ａ）を他の用途に用いる場合においては、化合物（Ａ）をそのまま用いても、または溶液組成物等の形態で用いてもよい。他の用途としては、電線被覆材、撥インク剤（たとえば塗装用、インクジェットなどの印刷機器用）、半導体素子用接着剤（たとえばＬＯＣ（リードオンチップ）テープ用接着剤、半導体用保護コート（たとえば防湿コート剤、半田用這い上がり防止剤）、光学分野に用いる薄膜（たとえばペリクル膜等）への添加剤、ディスプレイ用反射防止膜の潤滑剤、レジスト用反射防止膜）等が挙げられる。
本発明の化合物（Ａ）をこれらの用途に用いた場合には長期にわたり安定した性能を維持できる等の利点がある。
【実施例】
【００７１】
以下に本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、以下において、テトラメチルシランをＴＭＳ、ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ−１１３、ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ−２２５、ＣＣｌＦ２ＣＦ２ＣＣｌ２ＣＦ２ＣＦ３をＲ−４１９と記す。
また、Ｍｗは質量平均分子量を、Ｍｎは数平均分子量を示す。平均分子量はＭｎを意味し、分子量分布はＭｗ／Ｍｎを意味する。
【００７２】
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）によって測定した。ＧＰＣによる測定は、特開２００１−２０８７３６に記載する方法にしたがった。具体的には、Ｒ−２２５（旭硝子社製商品名：アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）およびヘキサフルオロイソプロピルアルコール（ＨＦＩＰ）の（９９：１）混合溶媒を移動相として用い、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製、商品名）を２本直列に連結して分析カラムとした。分子量測定用標準試料として、Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満である分子量が２０００〜１００００のペルフルオロポリエーテル４種およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上である分子量が１３００のペルフルオロポリエーテル１種を用いて分析した。移動相流速を１．０ｍＬ、カラム温度を３７℃とし、検出器としては、蒸発光散乱検出器を用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）の基準物質にはＴＭＳを用い、19Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）の基準物質にはＣＦＣｌ３を用いた。ＮＭＲの溶媒は特に記載しない限りＲ−１１３を用いた。
【００７３】
［例１］エステル化反応の例
式ＨＣ（ＣＨ２ＯＨ）３で表されるトリオールに、公知の方法でエチレンオキシドを付加し、つぎに、Ｒ−２２５（５０ｇ）、ＮａＦ（２．８８ｇ）をフラスコに入れ、内温を２５℃に保ちながら激しく撹拌して、窒素をバブリングさせて、下記化合物（Ｄ２−１）を得る。そこにＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ（３４．３ｇ）を、内温を１０℃以下に保ちながら１．０時間かけて滴下する。滴下終了後、室温で２４時間撹拌して、粗液を回収する。さらに粗液を減圧ろ過し、その後、回収液を真空乾燥機（１００℃、６６６．５Ｐａ（絶対圧））で１２時間乾燥する。ここで得た粗液をＲ−２２５（１００ｍＬ）に溶解し、飽和重曹水（１０００ｍＬ）で３回水洗を行い、有機相を回収する。さらに、回収した有機相に硫酸マグネシウム（１．０ｇ）を加え、１２時間撹拌を行う。その後、加圧ろ過を行って硫酸マグネシウムを除去し、エバポレーターでＲ−２２５を留去し、室温で液体のポリマー（５２．８ｇ）を得る。１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲの結果、得られたポリマーは下記化合物（Ｄ３−１）であることを確認する。ただし、（ｋ＋ｒ＋ｐ）の平均値は２７．０。Ｒｆは−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３。Ｍｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５である。
【００７４】
【化６】
【００７５】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【００７６】
［例２］例１で得た化合物（Ｄ３−１）のフッ素化例
（例２−１）反応溶媒にＲ−１１３を用いる例
５００ｍＬのハステロイ製オートクレーブに、Ｒ−１１３（３１２ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保つ。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−２０℃に保持した冷却器を直列に設置する。−２０℃に保持した冷却器からは、凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置する。窒素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、流速１６．９７Ｌ／ｈで１時間吹き込む。
【００７７】
つぎに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例１で得た生成物（Ｄ３−１）（１５ｇ）をＲ−１１３（２００ｇ）に溶解した溶液を１１時間かけて注入する。
つぎに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、Ｒ−１１３溶液を６ｍＬ注入する。さらに、窒素ガスを１．０時間吹き込む。
【００７８】
反応終了後、粗液を回収し、溶媒を真空乾燥（６０℃、６．０ｈ）にて留去して、室温で液体の生成物（２１．４ｇ）を得る。該生成物を分析した結果は、例１で得た化合物（Ｄ３−１）中の水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された下記化合物（Ｄ４−１）であることを確認する。化合物（Ｄ３−１）中の水素原子数に対する化合物（Ｄ４−１）のフッ素原子数の９９．９モル％以上であった。Ｍｎは４６００であることから下式中の（ｋ＋ｒ＋ｐ）はＭｎが４６００となる値である。また、Ｍｗ／Ｍｎは１．２０である。
【００７９】
【化７】
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８１】
（例２−２）反応溶媒がＲ−４１９を用いる例
例２−１におけるＲ−１１３をＲ−４１９に変えた以外は、同様に反応を行う。生成物を分析した結果、例２−１の生成物と同一の化合物（Ｄ４−１）の生成を確認する。
【００８２】
（例２−３）反応溶媒がＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である例
例２−１におけるＲ−１１３をＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に変えた以外は、同様に反応を行う。生成物を分析した結果、例２−１の生成物と同一の化合物（Ｄ４−１）の生成を確認する。
【００８３】
［例３］例２−１で得た化合物（Ｄ４−１）の熱分解例
スターラーチップを投入した５０ｍＬの丸底フラスコを充分に窒素置換する。該丸底フラスコに１，１，３，４−テトラクロロヘキサフルオロブタン（２５ｇ）、ＫＦ（０．２０ｇ）および、例２−１で得た化合物（Ｄ４−１）（２０ｇ）を加えて激しく撹拌し、１２０℃に保つ。丸底フラスコ出口には、２０℃に保持した冷却器、およびドライアイス−エタノール冷却管を直列に設置し、窒素シールを行う。
８時間後内温を室温まで下げ、続いて冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、溶媒および反応副性物を留去する。３時間後、室温で液体の生成物（１３．３ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、下記化合物（Ｄ５−１）の生成を確認する。化合物（Ｄ４−１）中のエステル結合の総数に対する、生成物中の−ＣＯＦ基数の割合は９９モル％以上である。
【００８４】
【化８】
【００８５】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８６】
［例４］例３で得た化合物（Ｄ５−１）のメチルエステル化例
（例４−１）エステル化反応による製造例
例３で得た化合物（Ｄ５−１）が入った丸底フラスコにＫＦ（０．９ｇ）、Ｒ−１１３（５．０ｇ）を投入し、内温を２５℃に保ちながら激しく撹拌する。さらに、メタノール（０．５ｇ）を内温を２５℃以上に保ちながらゆっくりと滴下する。
８時間後、撹拌を停止し、粗液を加圧ろ過器にてろ過し、ＫＦを除去する。続いて、エバポレーターにてＲ−１１３、および過剰のメタノールを完全に除去して室温で液状の生成物（１３．５ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、下記化合物（Ｄ７−１）の生成を確認する。化合物（Ｄ５−１）中の−ＣＯＦ基の全てがメチルエステル化されている。Ｍｎは３２００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１７である。
【００８７】
【化９】
【００８８】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８９】
（例４−２）エステル交換反応による製造例
スターラーチップを投入した５０ｍＬの丸底フラスコを充分に窒素置換する。例２−１と同様の方法で得た化合物（Ｄ４−１）（２０．０ｇ）とメタノール（１．０ｇ）を加えて、室温にてバブリングを行いながら、激しく撹拌した。丸底フラスコ出口は窒素シールを行う。
８時間後、冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、過剰のメタノール、および反応副性物を留去する。３時間後、室温で液体の生成物（１３．６ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、化合物（Ｄ７−１）の生成を確認する。生成物のＭｎは３２００であった。化合物（Ｄ４−１）中のエステル結合数に対する生成物中の−ＣＯＯＣＨ３基数は９９．９モル％である。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９０】
［例５］例４で得た化合物（Ｄ７−１）の変換例
例４−２の方法で得た化合物（Ｄ７−１）（１３．０ｇ）とＲ−２２５（２４０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を混ぜ、ボラン・テトラヒドロフラン錯体（４．０ｇ）を窒素気流下で加え、室温で一夜撹拌する。溶媒をエバポレーターで留去し、残存物に２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加えて、Ｒ−２２５で抽出し、抽出物を濃縮して粗生成物（１１．９５ｇ）を得る。粗生成物をシリカゲルカラム（溶離液：Ｒ−２２５／ヘキサフルオロイソプロピルアルコール）で精製する。１Ｈ−ＮＭＲ、および19ＦＮＭＲによって下記化合物（Ａ−１１ａ）の生成を確認する。また化合物中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が実質的に含まれていないことを確認する。Ｍｎは３０００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２である。
【００９１】
【化１０】
【００９２】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９３】
［例６］例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）へのエチレンカーボネート付加反応例
例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１０．０ｇ）、Ｒ−４１９（１０ｍＬ）、およびエチレンカーボネ−ト（１．０ｇ）を丸底フラスコ（５０ｍＬ）に投入して撹拌する。つぎに窒素雰囲気下でポタジウムフルオリド（０．９ｇ）を加え、フラスコ上部に２０℃に冷却した還流装置を設置し、装置出口を窒素で置換した状態で１５０℃に加熱しながら、３６時間撹拌して反応粗液を得る。該液をフィルター（孔径０．１μｍ、ＰＴＦＥ製）を通して加圧ろ過して、ろ別して得たろ液の溶媒をエバポレーターで留去すると、２５℃で液体の薄黄色化合物（１０．８０ｇ）を生成物として得る。
【００９４】
該生成物を１Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、化合物（Ａ−１１ａ）の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基が−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基に変換された下記化合物（Ａ−１１ｂ）の生成を確認する。反応に用いた化合物（Ａ−１１ａ）の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基に対する生成物中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基の割合は９７．３モル％であり、生成物は末端基の異なる２種以上の混合物からなっている。Ｍｎは３０５０であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．２５である。また19Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−１１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認する。
【００９５】
【化１１】
【００９６】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９７】
［例７］例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）への２，３−エポキシ−１−プロパノール付加反応例
窒素雰囲気下の丸底フラスコ（２５０ｍＬ）に例５と同様の方法で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１０ｇ）、および２−メチル−２−プロパノール（５．０ｇ）を投入し、均一混合するまで撹拌する。丸底フラスコ出口に２０℃の出口を窒素ガスで置換した還流管を設置する。
【００９８】
次にｔ−ブトキシドカリウム（０．２０ｇ）をオートクレーブに投入し、７０℃に加熱して３０分間撹拌する。さらに内温を７０℃に保持して、２，３−エポキシ−１−プロパノール（０．８ｇ）を２時間かけて滴下し、１２時間撹拌する。丸底フラスコを２５℃に冷却し窒素ガスで置換してから、０．２ｇ／Ｌの塩酸（５０ｍＬ）を滴下して２層分離液を得る。該液の有機層を回収しＲ−２２５（５０ｍＬ）を加えた溶液を、蒸留水（５００ｍＬ）で２回洗浄し硫酸マグネシウムで脱水してから、エバポレーターで溶媒を留去すると、２５℃で液体の薄黄色化合物（１０．６８ｇ）を生成物として得る。
【００９９】
生成物を１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、化合物（Ａ−１１ｂ）中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基が−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨに変換された下記化合物（Ａ−１２ａ）の生成を確認する。反応に用いた化合物（Ａ−１１ｂ）中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基に対する生成物中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨの割合は９２．５モル％であり、生成物は末端基の異なる２種以上の混合物からなっている。１９Ｆ−ＮＭＲによって、−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しない化合物であることを確認する。またＭｎは３０６０であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．２８である。
【０１００】
【化１２】
【０１０１】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【０１０２】
［例８］化合物（Ａ−１１ａ）をコーティングした例
例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１ｇ）およびペルフルオロ（ｔ−ブチル）アミン（９９ｇ、トクヤマ社製、ＩＬ−２６３）をガラス製フラスコ中に投入し２時間撹拌して無色透明な均一溶液を得る。該溶液をスピン速度７００ｒｐｍのアルミ板上に２０秒スピンコートし、８０℃で１時間加熱処理した結果、アルミ板上に厚さが０．０５μｍの均一な透明の膜が形成する。アルミ板表面の摩擦係数は著しく低下している。
【０１０３】
［例９］化合物（Ａ−１１ａ）の安定性試験例
窒素雰囲気（１００ｍＬ／ｍｉｎ）下、１０℃／ｍｉｎの割合で２５℃から５００℃まで昇温した際の、例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（２５ｍｇ）の質量減少を示差熱天秤上で測定した結果、３００℃まで重量減少が認められず、質量減少プロフィールは一定であることから優れた安定性を示す。
【０１０４】
さらに、γ−アルミナ微粉（０．５ｇ、日揮化学社製、Ｎ−６１１Ｎ）を存在させた場合の、表記化合物（２５ｍｇ）の安定性試験を行った場合でも、質量減少プロフィールはγ−アルミナ微粉が存在しない場合と同様であり、ルイス酸触媒存在下においても優れた安定性を示す。
【０１０５】
［例１０］公知のペルフルオロポリエーテルの安定性試験（比較例）
−ＯＣＦ２Ｏ−構造を必須とするペルフルオロポリエーテル（アウジモント社製、フォンブリンＺ ＤｉＯＬ４０００）を用いて、例９と同様の方法で安定性試験を行った結果、γ−アルミナ微粉の存在下では該エーテルは２４０〜２５０℃で全量が分解し、低分子量化合物となって気化した。
【０１０６】
［例１１］
（例１１−１）化合物（Ａ−１１ｄ）の製造例および評価例
例１の化合物（Ｄ２−１）を市販のポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂製、ユニオックスＧ１２００）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応と同じ反応を行い、化合物（Ａ−１１ｄ）を得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−１１ｄ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−１１ｄ）のＭｎは３０００であった。さらに該化合物（Ａ−１１ｄ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−１１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−１１ｄ）のＭｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１４であった。
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】
化合物（Ｄ３−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１０９】
化合物（Ｄ４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１１０】
化合物（Ｄ５−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１１】
化合物（Ｄ７−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１２】
化合物（Ａ−１１ｄ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１３】
（例１１−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１１−１で製造した化合物（Ａ−１１ｄ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−１１ｅ）を得た。化合物（Ａ−１１ｅ）のＭｎは３０５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２６であった。１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−１１ｅ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１１４】
【化１４】
【０１１５】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１６】
(例１１−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１１−１で製造した化合物（Ａ−１１ｄ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−１２ｂ）を得た。化合物（Ａ−１２ｂ）のＭｎは３０６０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２９であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−１２ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１１７】
【化１５】
【０１１８】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１９】
［例１２］
（例１２−１）化合物（Ａ−２１ａ）の製造例
例１の化合物（Ｄ３−１）を下記化合物（Ｄ３−３）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応を同様に行い、化合物（Ａ−２１ａ）を得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−２１ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−２１ａ）のＭｎは２６００３６００であった。さらに該化合物（Ａ−２１ａ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−２１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−２１ａ）のＭｗ／Ｍｎは１．２１であった。
Ｃ（ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＲｆ）４ （Ｄ３−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯＲｆ）４ （Ｄ４−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＯＦ）４ （Ｄ５−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＯＯＣＨ３）４ （Ｄ７−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＨ）４ （Ａ−２１ａ）
【０１２０】
化合物（Ｄ３−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１２１】
化合物（Ｄ４−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６５．２〜−６８．８，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１２２】
化合物（Ｄ５−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−６０．２〜−６８．８，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２３】
化合物（Ｄ７−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６３．２〜−６５．８，−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２４】
化合物（Ａ−２１ａ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２５】
（例１２−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１２−１で製造した化合物（Ａ−２１ａ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−２１ｂ）を得た。化合物（Ａ−２１ｂ）のＭｎは２６７０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．３０であった。
また１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−２１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）４ （Ａ−２１ｂ）
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２６】
(例１２−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１２−１で製造した化合物（Ａ−２１ａ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−２２ａ）を得た。化合物（Ａ−２２ａ）のＭｎは２６５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．３４であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−２２ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１２７】
Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＨ）４（Ａ−２２ａ）
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２８】
［例１３］
（例１３−１）化合物（Ａ−３１ａ）の製造例および評価例
例１の化合物（Ｄ３−１）を下記化合物（Ｄ３−４）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応を同様に行い、化合物（Ａ−３１ａ）を得た。なお、化合物（Ｄ３−４）の原料であるポリオキシエチレングリセロールエーテル（Ｄ２−４）は、特許（ＰＥＲＦＥＣＴの基本特許）に記載の方法を用いて得た化合物（Ｄ０−４）に公知の方法で２，３−エポキシ−１−プロパノールを付加して（Ｄ１−４）とし、さらにエチレンオキシドを付加することで得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−３１ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−３１ａ）のＭｎは２９００であった。さらに該化合物（Ａ−１１ｄ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−１１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−３１ａ）のＭｗ／Ｍｎは１．１３であった。
【０１２９】
【化１６】
【０１３０】
化合物（Ｄ３−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，３．９５，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−８７．０〜−９２．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１３１】
化合物（Ｄ４−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１３２】
化合物（Ｄ５−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−５４．０〜−５６．０，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３３】
化合物（Ｄ７−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３４】
化合物（Ａ−１１ｄ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−８０．１，−８８．２〜−９０．５。
【０１３５】
（例１３−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１３−１で製造した化合物（Ａ−３１ａ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−３１ｂ）を得た。化合物（Ａ−３１ｂ）のＭｎは２９５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．１９であった。
また１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−３１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１３６】
【化１７】
【０１３７】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３８】
(例１１−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１３−１で製造した化合物（Ａ−３１ａ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−３２ａ）を得た。化合物（Ａ−３２ａ）のＭｎは２９６０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２１であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−３２ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１３９】
【化１８】
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【産業上の利用可能性】
【０１４１】
本発明は、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物を提供する。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、低い蒸気圧および粘性を有し、化学的な安定性が高く使用時の劣化の問題が少ない性質を有する。また本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、自己修復性に優れる化合物であることから、上記用途に有用に用いうる。
なお、本発明の明細書の開示として、本出願の優先権主張の基礎となる日本特許願２００４−５５８６号（２００４年１月１３日に日本特許庁に出願）の全明細書の内容をここに引用し取り入れるものである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペルフルオロ化されたポリエーテル化合物は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤等として広く使用される。たとえば、末端基を−ＣＨ２ＯＨに変換した化合物として下式（Ｉ）で表される化合物（ただし、ｈおよびｉは、それぞれ１以上の整数を示す。）が知られている（たとえば、非特許文献１参照）。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ−（ＣＦ２Ｏ）ｉ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ （Ｉ）
該化合物（Ｉ）を基材表面に塗布することにより形成した被膜の一部が欠損したときには、欠損部周辺の化合物（Ｉ）が欠損部を覆い、該欠損部を修復する性質（自己修復性）があることが文献上知られている。また自己修復性には、化合物（Ｉ）の分子末端に存在する−ＣＨ２ＯＨ基が関与していることも知られている。
【０００３】
化合物（Ｉ）等のペルフルオロ化されたポリエーテル化合物が高温条件で使用されるようになるにつれ、より低い蒸気圧を有する化合物が望まれている。低い蒸気圧を達成する試みとして、高分子量化が行われている。しかし、上記化合物（Ｉ）を高分子化すると、粘度が著しく上昇して、塗布が困難になる問題があった。また高分子量化により単位体積当たりの−ＣＨ２ＯＨ基の比率が低くなり、自己修復性が低下する問題があった。
【０００４】
これらの問題を解決する化合物として、下式（II）で示される化合物（ただしｈおよびｉは、それぞれ１以上の整数を示す。）も提案されているが粘度が高かった。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ−（ＣＦ２Ｏ）ｉ−ＣＦ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−ＯＨ （II）
【０００５】
さらに、化合物（Ｉ）および化合物（II）は、いずれも分子構造中に−ＯＣＦ２Ｏ−単位を必須とする。該単位は化合物の分解反応の原因となる単位であり、該単位を有する化合物は使用により劣化がおこる問題があった（たとえば、非特許文献２、非特許文献３、および非特許文献４参照）。
【０００６】
−ＯＣＦ２Ｏ−単位が存在しないペルフルオロ化されたポリエーテル化合物としては、末端が−ＣＯＯＨ基である化合物が報告されている（たとえば、非特許文献５参照）。しかし、末端が−ＣＯＯＨ基である化合物は、高温条件下におかれると−ＣＯＯＨ末端が脱ＣＯ２して極性の末端基を喪失する問題、および、自己修復性が低下する問題があった。また、−ＣＯＯＨ基を有する化合物の−ＣＯＯＨ基の酸性は大であるため、腐食の原因となる問題があった。
【０００７】
【非特許文献１】Ｃ．Ｔｏｎｅｌｌｉら、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、９５巻、１９９９年、５１−７０頁
【非特許文献２】Ｗ．Ｆｏｎｇら、「ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ」、３５巻２号、１９９９年３月、９１１−９１２頁
【非特許文献３】Ｊ．Ｓｃｈｅｉｒｓ著、「Ｍｏｄｅｒｎ Ｆｌｕｏｒｏｐｏｌｙｍｅｒｓ」、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ Ｌｔｄ．，１９９７年、４６６−４６８頁
【非特許文献４】Ｐ．Ｈ．Ｋａｓａｉ、「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ」、２５巻、１９９２年、６７９１頁
【非特許文献５】Ｋｙｌｅ Ｗ． Ｆｅｌｌｌｉｎｇら、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、１２５巻、２００４年、７４９−７５４頁。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記の問題を解決する目的でなされたものであり、低い蒸気圧および粘性を有し、化学的な安定性に優れ、使用時の劣化の問題のない新規な含フッ素ポリエーテル化合物の提供を目的とする。また本発明は自己修復性に優れ、かつ、潤滑油またはコーティング剤等として有用に用いうる含フッ素ポリエーテル化合物、および該化合物を含む溶剤組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は以下の発明を提供する。
１．下式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｘ：下式（Ｘ）で表される基（ここで、ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数を示す。）。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
Ｚ：下式（Ｚ）で表わされる基（ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。）を示す。ｇは３〜２００の整数を示す。）。
ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
Ｙ：（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基を示し、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
ｘ、ｚ：ｘは２以上の整数であり、ｚは０以上の整数であり、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数である。ｘが２以上である場合の式（Ｘ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の式（Ｚ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００１０】
２．式（Ｘ）で表される基が下式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基である上記１に記載の化合物。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
【００１１】
３．式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−１）で表される化合物または下式（Ａ−２）で表される化合物である上記２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【００１２】
４．式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−３）で表される化合物である上記２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは前記と同じ意味を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【００１３】
５．式（Ａ）で表される化合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した分子量が５００〜１００万であり、かつ、分子量分布が１．０〜１．５である上記１〜４のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【００１４】
６．上記１〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物と有機溶媒とを含む溶液組成物。
【００１５】
７．溶液組成物中の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度が、０．０１〜５０質量％である上記６に記載の溶液組成物。
【００１６】
８．上記1〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物が提供される。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、低い蒸気圧および粘性を有し、使用時の劣化の問題が少ない性質を有する。また本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、自己修復性に優れる化合物である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本明細書においては、式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物を化合物（Ａ）のように記す。また式（Ｘ）で表わされる基を基（Ｘ）のように記す。他の式においても同様に記す。
本発明は下記化合物（Ａ）を提供する。本発明の化合物（Ａ）中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
化合物（Ａ）中のＸは下式（Ｘ）で表される１価の基を示す。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃＣＦ２−Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
ここで、ａは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位の数を示し、０〜１００の整数であり、０〜１０の整数が好ましく、０〜２が特に好ましく、０または１がとりわけ好ましい。
【００１９】
ｂは−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位の数を示し、０〜１００の整数であり、０〜１０の整数が好ましく、０〜２が特に好ましく、０または１がとりわけ好ましい。
【００２０】
ａとｂとの組み合わせとしては、ａもｂも０である場合、ａが０でありｂが１以上（ｂは１であるのが好ましい。）である場合、ａが１以上（ａは１であるのが好ましい）でありｂが０である場合が好ましい。
【００２１】
ｃは−（ＣＨ２）−単位の数を示し、１〜１００の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１または２が特に好ましい。ｃが２以上である場合、ｃは偶数であるのが、製造のしやすさの点で好ましい。
【００２２】
ｄは−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−単位の数を示し、１〜２００の整数であり、３〜１００の整数が好ましく、３〜２００の整数が特に好ましく、３〜７０の整数がとりわけ好ましく、５〜５０の整数がさらに好ましい。ａ、ｂ、およびｃのいずれかが０である場合には、該単位は存在しないことを意味する。
【００２３】
式（Ｘ）においては、ａが０、ｂが０、ｃが１、およびｄが３〜２００である基（Ｘ）、ａおよびｂの一方が１以上であり他方が０であり、ｃが１、およびｄが３〜２００である基（Ｘ）が好ましい。
【００２４】
式（Ｘ）における「−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−」部分の表記は、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位の両単位がそれぞれ１単位以上存在する場合の並び方が、限定されないことを意味する。すなわち、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位がそれぞれ１つずつ存在する場合には、水酸基に結合する単位は、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位であっても−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位であってもよい。
【００２５】
また−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位および−（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）−単位が存在し、かつ、少なくとも一方の単位が２単位以上存在する場合には、これらの単位の配列はブロック状であってもランダム状であってもよく、ブロック状であるのが好ましく、水酸基末端から式（Ｘ）で表記した各単位の順列でブロック状に配列しているのが特に好ましい。
【００２６】
基（Ｘ）としては、以下の例が挙げられる。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
このうち基（Ｘ）としては、基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）が製造のしやすさ、および化合物が分解しにくく、安定である点で好ましい。
【００２７】
式（Ａ）中のＺは下式（Ｚ）で表わされる１価の基を示す。
ＲＦ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基、または、炭素数１〜２０の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基（ただし、該基中には、−ＯＣＦ２Ｏ−単位は存在しない。）示す。ＲＦの構造としては、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環構造を有する構造が挙げられ、直鎖構造または分岐構造が好ましく、直鎖構造が特に好ましい。ＲＦの炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１６が特に好ましい。
【００２８】
ＲＦの具体例としては、以下の基が挙げられ、基（ＲＦ１）が好ましい。ただし、ｓは０〜１５の整数を示し、ＣｙＦはペルフルオロシクロヘキシル基を示し、ｔは０〜１５の整数を示し、ＡｄＦはペルフルオロ化アダマンタンチル基を示し、ｔは０〜１５の整数を示す。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｓ− （ＲＦ１）、
ＣｙＦ−（ＣＦ２）ｔ−、
ＡｄＦ−（ＣＦ２）ｔ−。
【００２９】
ｇは−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−単位の数を示し、３〜２００の整数を示し、３〜１００の整数が好ましく、３〜７０の整数が特に好ましく、５〜５０の整数がとりわけ好ましい。
【００３０】
基（Ｚ）としては、以下の例が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−１）
ＣＦ３（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−２）
ＣＦ３（ＣＦ２）５−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ−３）
化合物（Ａ）は、Ｙにｘ個の１価の基（Ｘ）およびｚ個の１価の基（Ｙ）が結合した化合物であり、Ｙは（ｘ＋ｚ）価の基である。
【００３１】
Ｙの価数である（ｘ＋ｚ）は３以上の整数であり、３〜２０の整数が好ましく、３〜１０の整数が特に好ましい。（ｘ＋ｚ）の値は、化合物（Ａ）の用途に応じて適宜調節するのが好ましく、化合物（Ａ）を後述する潤滑剤として使用する場合の（ｘ＋ｚ）は３〜１０の整数が好ましく、３または４がとりわけ好ましく、３がさらに好ましい。Ｙの価数が３または４である化合物（特に３である化合物）は、製造がしやすく、沸点も適切であり、かつ自己修復性に優れる。
【００３２】
基（Ｘ）の数（ｘ）は２以上の整数であり、３〜２０の整数が好ましく、３〜１０の整数が特に好ましく、３または４がとりわけ好ましい。基（Ｚ）の数（ｚ）は０以上の整数であり、ｚは０〜１７の整数が好ましく、０〜７の整数が特に好ましく、０（すなわち基（Ｚ）は存在しない）または１がとりわけ好ましい。ｘが２以上である場合の基（Ｘ）はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の基（Ｚ）はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
Ｙの炭素数は１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましく、とりわけ３〜５が好ましい。Ｙが（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基である場合の該基とは、炭素原子とフッ素原子のみからなる（ｘ＋ｚ）価の飽和の基である。Ｙがエーテル性酸素原子を含む基である場合の該エーテル性酸素原子の数は、１個または２個以上であり、１〜３個が好ましい。該エーテル性酸素原子は、炭素−炭素原子間に存在することから、ＸとＺに結合するＹの末端部分にはエーテル性酸素原子は存在しない。また化合物（Ａ）中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造が存在しないことから、Ｙ中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。また、Ｙ中のエーテル性酸素原子は結合末端の炭素原子には結合しない。Ｙはエーテル性酸素原子を含まない基である（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基が好ましい。３価の基（Ｙ）としては、ペルフルオロアルカン−トリイル基、４価の基（Ｙ）としては、ペルフルオロアルカン−テトライル基が特に好ましく、炭素数１〜２０のこれらの基がとりわけ好ましく、さらに炭素数３〜５のこれらの基が好ましい。
【００３４】
Ｚが存在せず、基（Ｙ）が３価の基（Ｙ３）である場合の化合物（Ａ）としては、下記化合物（Ａ−１）が好ましい。ただし、Ｘ１０は基（Ｘ−１）〜基（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
【００３５】
化合物（Ａ−１）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）３Ｙ３ （Ａ−１１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）３Ｙ３ （Ａ−１２）
【００３６】
Ｚが存在せず、基（Ｙ）が４価の基（Ｙ４）である場合の化合物（Ａ）としては、下記化合物（Ａ−２）が好ましい。ただし、Ｘ１０は基（Ｘ−１）〜基（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【００３７】
化合物（Ａ−２）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物（Ａ−２１）または下記化合物（Ａ−２２）が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）４Ｙ４ （Ａ−２１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）４Ｙ４ （Ａ−２２）
【００３８】
Ｚが存在する場合、基（Ｙ）が３価の基（Ｙ３）である下記化合物（Ａ−３）が好ましい。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは式（Ｚ）で表される基を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【００３９】
化合物（Ａ−３）としては、Ｘ１０が基（Ｘ−１）または基（Ｘ−２）である場合の下記化合物（Ａ−３１）および下記化合物（Ａ−３２）が好ましい。
（ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３１）
（ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３２）
上記の式中、Ｙ３（ペルフルオロアルカン−トリイル基）としては、下記の基が挙げられる。
【００４０】
【化１】
Ｙ４（ペルフルオロアルカン−テトライル基）としては、下記の基が挙げられる。
【００４１】
【化２】
上記以外の基（Ｙ）の例は、化合物（Ａ）の例中に示される。
【００４２】
化合物（Ａ）は、１種の化合物として存在しても、２種以上の化合物としても存在してもよい。後者の例としては、化合物（Ａ）中に存在する基（Ｘ）および／または基（Ｚ）が異なる２種以上の化合物を含む組成物としても存在する例が挙げられる。
【００４３】
化合物（Ａ）が化合物（Ａ）の２種以上からなる組成物である場合、基（Ｘ）におけるａの平均は０〜２の正数が好ましく、０が特に好ましい。ｂの平均は０〜２の正数が好ましい。ｃの平均は１が好ましい。ｄの平均は３〜１００の正数が好ましい。ｇの平均は３〜１００の正数が好ましい。
【００４４】
化合物（Ａ）の分子量は５００〜１０万が好ましく、１０００〜２万が特に好ましい。また化合物（Ａ）が２種以上の化合物の混合物からなる場合、化合物（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜１．５が好ましく、１．０〜１．２５が特に好ましい。分子量および分子量分布が該範囲にある場合には、粘度が低く、蒸発成分が少なく、溶媒に溶解した際の均一性に優れる利点がある。化合物（Ａ）の分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定でき、測定条件は、後述する実施例中に記載した条件が採用できる。
【００４５】
本発明における化合物（Ａ）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。ただし、下式中のＸおよびＺは前記と同じ意味を示す。ｋは１〜１０の整数を示し、同一分子中にｋが２個以上存在する場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４６】
【化３】
【００４７】
本発明の化合物（Ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−で表される単位は存在しない。−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が存在しない化合物とは、通常の分析手法（19Ｆ−ＮＭＲ等）では該単位の存在が検出できない化合物を意味する。
【００４８】
本発明の化合物（Ａ）は、該化合物（Ａ）に対応する炭素骨格を有する多価ポリエチレングリコールから本発明者によるＷＯ０２／４３９７等に記載される方法と同様の方法で製造できる。原料となる多価ポリエチレングリコールとしては、種々の構造、分子量のものが安価に市販されており、容易に入手できる。また、多価アルコールにエチレンオキサイドを付加することによって容易に合成できる。
【００４９】
具体的には、化合物（Ａ）におけるｃが１である化合物は以下の方法で製造できる。
ただし、下式中の記号は前記の意味と同じ意味を示す。ＹＨはＹと同一の基、または、Ｙのフッ素原子の１部または全部が水素原子に置換された基を示す。ＲはＲＦと同一の基、またはＲＦのフッ素原子の１部または全部が水素原子に置換された基を示し、ＲＦと同一の基が好ましい。Ｒｂは、１価の含フッ素有機基を示し、ペルフルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含有するペルフルオロアルキル基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−単位は存在しない。）が好ましい。ＲｂＦは、１価のペルフルオロ化有機基を示し、Ｒｂと同一のペルフルオロアルキル基またはＲｂと同一のエーテル性酸素原子を含有するペルフルオロアルキル基が好ましい。Ｒｃはアルキル基を示す。Ｘ１は塩素原子またはフッ素原子を示す。
【００５０】
すなわち、下記化合物（Ｄ１）を下記化合物（Ｄ２）と反応させて下記化合物（Ｄ３）を得て、該化合物（Ｄ３）をペルフルオロ化して下記化合物（Ｄ４）を得て、該化合物（Ｄ４）においてエステル結合の分解反応を行って下記化合物（Ｄ５）を得る。つぎに化合物（Ｄ５）に下記化合物（Ｄ６）を反応させて下記化合物（Ｄ７）を得て、または化合物（Ｄ５）を加水分解して下記化合物（Ｄ８）を得て、つぎに化合物（Ｄ７）を還元およびエステル結合の分解反応を行なって、または化合物（Ｄ８）をそれぞれ還元して、下記化合物（Ａ−４）を得る。また化合物（Ｄ７）は、化合物（Ｄ４）と式Ｒｃ−ＯＨ（ただし、Ｒｃは前記と同じ意味を示す。）で表される化合物とをエステル交換反応することによっても得られる。該化合物（Ａ−４）は、化合物（Ａ）におけるｃが１であり、ａおよびｂが０である化合物である。
【００５１】
【化４】
【００５２】
化合物（Ａ）において、ｃが２以上であり、ａおよびｂが０である下記化合物（Ａ−５）は、前記方法における化合物（Ｄ５）にヨウ素（Ｉ２）またはＬｉＩ等を反応させることにより、末端−ＣＯＦ基を−Ｉ（ヨウ素原子）に変換して化合物（Ｄ９）を得る。つぎに化合物（Ｄ９）に任意のモル数のエチレンを付加反応させて化合物（Ｄ１０）とした後に、化合物（Ｄ１０）の末端ヨウ素原子を発煙硫酸またはベタインによってアルコール化する方法によって得ることができる。
【００５３】
【化５】
【００５４】
ａが１以上である化合物（Ａ）は、前記の方法で得た化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）に、それぞれ、エチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドを付加することにより得られる。またｂが１以上である化合物（Ａ）は、化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）に、それぞれ、グリシジルアルコールを付加することによって得られる。
【００５５】
エチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドの付加反応は、公知の方法および条件にならって実施できる。ここで化合物（Ａ−４）または化合物（Ａ−５）のフッ素含有量が高い場合には、付加反応に用いるエチレンカーボネートおよび／またはエチレンオキサイドとの相溶性が低いため、付加反応の反応系が２相分離することがある。相分離が起こると、反応時間が長くなり効率的ではないため、相溶性を高めるための溶媒を反応系中に添加して反応を行うのが好ましい。該溶媒としては、ヒドロフルオロカーボン類（ＨＣＦＣ類）が挙げられる。
【００５６】
該製造方法の出発物質である化合物（Ｄ１）は、通常の場合、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−単位の数が異なる２種以上の混合物であるものが入手しやすい。混合物である化合物（Ｄ１）を用いて上記製造方法を実施した場合には、生成する化合物（Ａ）もまた混合物として生成する。
【００５７】
化合物（Ａ）の製造方法における各反応工程は、公知の反応の手法および条件（たとえばＷＯ０２／４３９７号パンフレット等に記載される方法）にならって実施できる。また化合物（Ｄ５）の化合物（Ｄ７）および化合物（Ｄ８）への反応工程も、公知の方法にしたがって実施できる。たとえば、化合物（Ｄ７）および化合物（Ｄ８）の製造における還元工程は、特開平１０−７２５６８号公報（段落００２１）等に記載される方法にしたがって実施できる。該還元工程は、ＮａＢＨ４、ボラン−ＴＨＦ、リチウムアルミニウムヒドリド等の還元剤を用いて実施するのが好ましい。
上記方法で得た化合物（Ａ）を含む生成物は、通常の場合、目的に応じた精製処理を行って高純度の化合物（Ａ）を得た後に目的とする用途に用いるのが好ましい。
【００５８】
精製処理によって、生成物中に含まれる金属不純物、陰イオン不純物、および反応副生物（たとえば、水酸基数の異なる副生物等）を除去するのが好ましい。精製処理の手法としてはイオン吸着ポリマーによって、金属不純物、陰イオン不純物等を除去する公知の方法、および超臨界抽出による方法が挙げられる。
【００５９】
また生成処理に、カラムクロマトグラフィを採用した場合には、副生成物等を効率的に除去できることから工業的に有利である。カラムクロマトグラフィの固定相としては、シリカゲル、活性アルミナ、酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、およびケイ酸マグネシウム（たとえば商品名：Ｆｏｒｉｓｉｌ）等が挙げられ、細孔の平均直径が２００オングストローム未満であるものを用いるのが好ましい。移動相としては、一般の非極性溶媒および極性溶媒を用いることができ、さらに必要に応じてこれらの溶媒の比率を変えて極性を変化させるのが好ましい。また本発明の化合物（Ａ）は含フッ素化合物であり一般にはフッ素系溶媒に対する溶解性に優れるが、カラムクロマトグラフィにおける移動相にフッ素系溶媒は必須ではない。
【００６０】
非極性溶媒としてはヘキサンおよびオクタン等の炭化水素系溶媒；Ｒ−１１３およびＲ−２２５等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。極性溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒；ヘキサフルオロイソプロパノール等のハロゲン化アルコール；アセトン、よびメチルエチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸等のカルボン酸溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；ジメチルスルホキシド等のアルキルスルホキシド等、が挙げられる。
【００６１】
本発明の方法で得られる化合物（Ａ）は、潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤として有用な化合物である。すなわち本発明は含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤を提供する。
【００６２】
潤滑剤としては、磁気ディスク用のダイヤモンド状炭素保護膜（ＤＬＣ膜）上に塗布する潤滑剤が挙げられる。表面改質剤としては、ポリマーの表面に塗布してポリマーの屈折率を制御する、またはポリマーの耐薬品性を改善する等の用途に用いうる。
【００６３】
化合物（Ａ）を潤滑剤または表面改質剤として使用する場合には、化合物（Ａ）を溶液組成物として用いるのが好ましい。溶液組成物とする場合の溶剤としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、トリブチルアミン等のパーフルオロアミン類やバートレル（デュポン社製）などのパーフルオロアルカン類を用いるのが好ましい。溶液組成物中の化合物（Ａ）の濃度は、用途に応じて適宜調節でき、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましい。
【００６４】
化合物（Ａ）を含む溶液組成物は、溶液、懸濁液、または乳化液のいずれであってもよく、溶液であるのが好ましい。また溶剤としては、後述するコーティング（たとえばディップコート工程におけるコーティング）に適した沸点を持つ溶剤を用いるのが好ましい。溶液組成物中には、化合物（Ａ）と溶剤以外の成分（以下、他の成分という）が含まれていてもよい。化合物（Ａ）を潤滑剤として用いる場合の他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製商品名：Ｘ−１ｐ。）等が挙げられる。化合物（Ａ）をコーティング材料として用いる場合には、シラン系、エポキシ系、チタン系、アルミニウム系などのカップリング剤が挙げられ、これらは基材と化合物（Ａ）との接着性を向上させうる。
【００６５】
化合物（Ａ）を潤滑剤または表面改質剤として使用する場合には、化合物（Ａ）または化合物（Ａ）を含む溶液組成物を基材表面に塗布し、乾燥することによって化合物（Ａ）の薄膜を形成させて、目的とする機能を発現させるのが好ましい。
【００６６】
塗布方法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、および真空蒸着法などの方法が挙げられ、スピンコート法、ディップコート法、または真空蒸着法が好ましい。
【００６７】
スピンコート法、ディップコート法により塗布する場合には、溶液組成物として用いるのが好ましい。溶液組成物においては、ハンドリンクのしやすさ、沸点、入手しやすさ等を適宜考慮して溶剤を選択するのが好ましい。
【００６８】
本発明の化合物（Ａ）を用いて形成した薄膜は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。また該薄膜は、高い潤滑性を保持し、かつ自己修復性を有する。該薄膜の膜厚は、通常０．００１〜５０μｍが好ましい。基材の形状および材質は特に限定されない。本発明の化合物（Ａ）を含む溶液組成物を塗布した基材の用途としては、ハードディスク基板、光ファイバ、鏡、太陽電池、光ディスク、タッチパネル、感光および定着ドラム、フィルムコンデンサ、ガラス窓用反射防止フィルムなどの各種フィルムなどが挙げられる。
【００６９】
化合物（Ａ）を界面活性剤として用いる例としては、塗料の表面張力を低下させる添加剤またはレベリング剤、研磨液のレベリング剤などが挙げられる。塗料に添加する場合には、塗料に対する化合物（Ａ）の量が０．０１〜５質量％程度になるように添加するのが好ましい。
【００７０】
化合物（Ａ）は上記以外の他の用途にも有用に用いうる。化合物（Ａ）を他の用途に用いる場合においては、化合物（Ａ）をそのまま用いても、または溶液組成物等の形態で用いてもよい。他の用途としては、電線被覆材、撥インク剤（たとえば塗装用、インクジェットなどの印刷機器用）、半導体素子用接着剤（たとえばＬＯＣ（リードオンチップ）テープ用接着剤、半導体用保護コート（たとえば防湿コート剤、半田用這い上がり防止剤）、光学分野に用いる薄膜（たとえばペリクル膜等）への添加剤、ディスプレイ用反射防止膜の潤滑剤、レジスト用反射防止膜）等が挙げられる。
本発明の化合物（Ａ）をこれらの用途に用いた場合には長期にわたり安定した性能を維持できる等の利点がある。
【実施例】
【００７１】
以下に本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、以下において、テトラメチルシランをＴＭＳ、ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ−１１３、ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ−２２５、ＣＣｌＦ２ＣＦ２ＣＣｌ２ＣＦ２ＣＦ３をＲ−４１９と記す。
また、Ｍｗは質量平均分子量を、Ｍｎは数平均分子量を示す。平均分子量はＭｎを意味し、分子量分布はＭｗ／Ｍｎを意味する。
【００７２】
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）によって測定した。ＧＰＣによる測定は、特開２００１−２０８７３６に記載する方法にしたがった。具体的には、Ｒ−２２５（旭硝子社製商品名：アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）およびヘキサフルオロイソプロピルアルコール（ＨＦＩＰ）の（９９：１）混合溶媒を移動相として用い、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製、商品名）を２本直列に連結して分析カラムとした。分子量測定用標準試料として、Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満である分子量が２０００〜１００００のペルフルオロポリエーテル４種およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上である分子量が１３００のペルフルオロポリエーテル１種を用いて分析した。移動相流速を１．０ｍＬ、カラム温度を３７℃とし、検出器としては、蒸発光散乱検出器を用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）の基準物質にはＴＭＳを用い、19Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）の基準物質にはＣＦＣｌ３を用いた。ＮＭＲの溶媒は特に記載しない限りＲ−１１３を用いた。
【００７３】
［例１］エステル化反応の例
式ＨＣ（ＣＨ２ＯＨ）３で表されるトリオールに、公知の方法でエチレンオキシドを付加し、つぎに、Ｒ−２２５（５０ｇ）、ＮａＦ（２．８８ｇ）をフラスコに入れ、内温を２５℃に保ちながら激しく撹拌して、窒素をバブリングさせて、下記化合物（Ｄ２−１）を得る。そこにＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ（３４．３ｇ）を、内温を１０℃以下に保ちながら１．０時間かけて滴下する。滴下終了後、室温で２４時間撹拌して、粗液を回収する。さらに粗液を減圧ろ過し、その後、回収液を真空乾燥機（１００℃、６６６．５Ｐａ（絶対圧））で１２時間乾燥する。ここで得た粗液をＲ−２２５（１００ｍＬ）に溶解し、飽和重曹水（１０００ｍＬ）で３回水洗を行い、有機相を回収する。さらに、回収した有機相に硫酸マグネシウム（１．０ｇ）を加え、１２時間撹拌を行う。その後、加圧ろ過を行って硫酸マグネシウムを除去し、エバポレーターでＲ−２２５を留去し、室温で液体のポリマー（５２．８ｇ）を得る。１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲの結果、得られたポリマーは下記化合物（Ｄ３−１）であることを確認する。ただし、（ｋ＋ｒ＋ｐ）の平均値は２７．０。Ｒｆは−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３。Ｍｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５である。
【００７４】
【化６】
【００７５】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
19Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【００７６】
［例２］例１で得た化合物（Ｄ３−１）のフッ素化例
（例２−１）反応溶媒にＲ−１１３を用いる例
５００ｍＬのハステロイ製オートクレーブに、Ｒ−１１３（３１２ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保つ。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−２０℃に保持した冷却器を直列に設置する。−２０℃に保持した冷却器からは、凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置する。窒素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、流速１６．９７Ｌ／ｈで１時間吹き込む。
【００７７】
つぎに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例１で得た生成物（Ｄ３−１）（１５ｇ）をＲ−１１３（２００ｇ）に溶解した溶液を１１時間かけて注入する。
つぎに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、Ｒ−１１３溶液を６ｍＬ注入する。さらに、窒素ガスを１．０時間吹き込む。
【００７８】
反応終了後、粗液を回収し、溶媒を真空乾燥（６０℃、６．０ｈ）にて留去して、室温で液体の生成物（２１．４ｇ）を得る。該生成物を分析した結果は、例１で得た化合物（Ｄ３−１）中の水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された下記化合物（Ｄ４−１）であることを確認する。化合物（Ｄ３−１）中の水素原子数に対する化合物（Ｄ４−１）のフッ素原子数の９９．９モル％以上であった。Ｍｎは４６００であることから下式中の（ｋ＋ｒ＋ｐ）はＭｎが４６００となる値である。また、Ｍｗ／Ｍｎは１．２０である。
【００７９】
【化７】
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８１】
（例２−２）反応溶媒がＲ−４１９を用いる例
例２−１におけるＲ−１１３をＲ−４１９に変えた以外は、同様に反応を行う。生成物を分析した結果、例２−１の生成物と同一の化合物（Ｄ４−１）の生成を確認する。
【００８２】
（例２−３）反応溶媒がＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である例
例２−１におけるＲ−１１３をＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に変えた以外は、同様に反応を行う。生成物を分析した結果、例２−１の生成物と同一の化合物（Ｄ４−１）の生成を確認する。
【００８３】
［例３］例２−１で得た化合物（Ｄ４−１）の熱分解例
スターラーチップを投入した５０ｍＬの丸底フラスコを充分に窒素置換する。該丸底フラスコに１，１，３，４−テトラクロロヘキサフルオロブタン（２５ｇ）、ＫＦ（０．２０ｇ）および、例２−１で得た化合物（Ｄ４−１）（２０ｇ）を加えて激しく撹拌し、１２０℃に保つ。丸底フラスコ出口には、２０℃に保持した冷却器、およびドライアイス−エタノール冷却管を直列に設置し、窒素シールを行う。
８時間後内温を室温まで下げ、続いて冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、溶媒および反応副性物を留去する。３時間後、室温で液体の生成物（１３．３ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、下記化合物（Ｄ５−１）の生成を確認する。化合物（Ｄ４−１）中のエステル結合の総数に対する、生成物中の−ＣＯＦ基数の割合は９９モル％以上である。
【００８４】
【化８】
【００８５】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８６】
［例４］例３で得た化合物（Ｄ５−１）のメチルエステル化例
（例４−１）エステル化反応による製造例
例３で得た化合物（Ｄ５−１）が入った丸底フラスコにＫＦ（０．９ｇ）、Ｒ−１１３（５．０ｇ）を投入し、内温を２５℃に保ちながら激しく撹拌する。さらに、メタノール（０．５ｇ）を内温を２５℃以上に保ちながらゆっくりと滴下する。
８時間後、撹拌を停止し、粗液を加圧ろ過器にてろ過し、ＫＦを除去する。続いて、エバポレーターにてＲ−１１３、および過剰のメタノールを完全に除去して室温で液状の生成物（１３．５ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、下記化合物（Ｄ７−１）の生成を確認する。化合物（Ｄ５−１）中の−ＣＯＦ基の全てがメチルエステル化されている。Ｍｎは３２００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１７である。
【００８７】
【化９】
【００８８】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００８９】
（例４−２）エステル交換反応による製造例
スターラーチップを投入した５０ｍＬの丸底フラスコを充分に窒素置換する。例２−１と同様の方法で得た化合物（Ｄ４−１）（２０．０ｇ）とメタノール（１．０ｇ）を加えて、室温にてバブリングを行いながら、激しく撹拌した。丸底フラスコ出口は窒素シールを行う。
８時間後、冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、過剰のメタノール、および反応副性物を留去する。３時間後、室温で液体の生成物（１３．６ｇ）を得る。
生成物を分析した結果、化合物（Ｄ７−１）の生成を確認する。生成物のＭｎは３２００であった。化合物（Ｄ４−１）中のエステル結合数に対する生成物中の−ＣＯＯＣＨ３基数は９９．９モル％である。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９０】
［例５］例４で得た化合物（Ｄ７−１）の変換例
例４−２の方法で得た化合物（Ｄ７−１）（１３．０ｇ）とＲ−２２５（２４０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を混ぜ、ボラン・テトラヒドロフラン錯体（４．０ｇ）を窒素気流下で加え、室温で一夜撹拌する。溶媒をエバポレーターで留去し、残存物に２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加えて、Ｒ−２２５で抽出し、抽出物を濃縮して粗生成物（１１．９５ｇ）を得る。粗生成物をシリカゲルカラム（溶離液：Ｒ−２２５／ヘキサフルオロイソプロピルアルコール）で精製する。１Ｈ−ＮＭＲ、および19ＦＮＭＲによって下記化合物（Ａ−１１ａ）の生成を確認する。また化合物中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が実質的に含まれていないことを確認する。Ｍｎは３０００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２である。
【００９１】
【化１０】
【００９２】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９３】
［例６］例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）へのエチレンカーボネート付加反応例
例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１０．０ｇ）、Ｒ−４１９（１０ｍＬ）、およびエチレンカーボネ−ト（１．０ｇ）を丸底フラスコ（５０ｍＬ）に投入して撹拌する。つぎに窒素雰囲気下でポタジウムフルオリド（０．９ｇ）を加え、フラスコ上部に２０℃に冷却した還流装置を設置し、装置出口を窒素で置換した状態で１５０℃に加熱しながら、３６時間撹拌して反応粗液を得る。該液をフィルター（孔径０．１μｍ、ＰＴＦＥ製）を通して加圧ろ過して、ろ別して得たろ液の溶媒をエバポレーターで留去すると、２５℃で液体の薄黄色化合物（１０．８０ｇ）を生成物として得る。
【００９４】
該生成物を１Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、化合物（Ａ−１１ａ）の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基が−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基に変換された下記化合物（Ａ−１１ｂ）の生成を確認する。反応に用いた化合物（Ａ−１１ａ）の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基に対する生成物中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基の割合は９７．３モル％であり、生成物は末端基の異なる２種以上の混合物からなっている。Ｍｎは３０５０であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．２５である。また19Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−１１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認する。
【００９５】
【化１１】
【００９６】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【００９７】
［例７］例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）への２，３−エポキシ−１−プロパノール付加反応例
窒素雰囲気下の丸底フラスコ（２５０ｍＬ）に例５と同様の方法で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１０ｇ）、および２−メチル−２−プロパノール（５．０ｇ）を投入し、均一混合するまで撹拌する。丸底フラスコ出口に２０℃の出口を窒素ガスで置換した還流管を設置する。
【００９８】
次にｔ−ブトキシドカリウム（０．２０ｇ）をオートクレーブに投入し、７０℃に加熱して３０分間撹拌する。さらに内温を７０℃に保持して、２，３−エポキシ−１−プロパノール（０．８ｇ）を２時間かけて滴下し、１２時間撹拌する。丸底フラスコを２５℃に冷却し窒素ガスで置換してから、０．２ｇ／Ｌの塩酸（５０ｍＬ）を滴下して２層分離液を得る。該液の有機層を回収しＲ−２２５（５０ｍＬ）を加えた溶液を、蒸留水（５００ｍＬ）で２回洗浄し硫酸マグネシウムで脱水してから、エバポレーターで溶媒を留去すると、２５℃で液体の薄黄色化合物（１０．６８ｇ）を生成物として得る。
【００９９】
生成物を１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、化合物（Ａ−１１ｂ）中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基が−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨに変換された下記化合物（Ａ−１２ａ）の生成を確認する。反応に用いた化合物（Ａ−１１ｂ）中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基に対する生成物中の−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨの割合は９２．５モル％であり、生成物は末端基の異なる２種以上の混合物からなっている。１９Ｆ−ＮＭＲによって、−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しない化合物であることを確認する。またＭｎは３０６０であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．２８である。
【０１００】
【化１２】
【０１０１】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０，−１８１．５〜−１８４．５。
【０１０２】
［例８］化合物（Ａ−１１ａ）をコーティングした例
例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（１ｇ）およびペルフルオロ（ｔ−ブチル）アミン（９９ｇ、トクヤマ社製、ＩＬ−２６３）をガラス製フラスコ中に投入し２時間撹拌して無色透明な均一溶液を得る。該溶液をスピン速度７００ｒｐｍのアルミ板上に２０秒スピンコートし、８０℃で１時間加熱処理した結果、アルミ板上に厚さが０．０５μｍの均一な透明の膜が形成する。アルミ板表面の摩擦係数は著しく低下している。
【０１０３】
［例９］化合物（Ａ−１１ａ）の安定性試験例
窒素雰囲気（１００ｍＬ／ｍｉｎ）下、１０℃／ｍｉｎの割合で２５℃から５００℃まで昇温した際の、例５で得た化合物（Ａ−１１ａ）（２５ｍｇ）の質量減少を示差熱天秤上で測定した結果、３００℃まで重量減少が認められず、質量減少プロフィールは一定であることから優れた安定性を示す。
【０１０４】
さらに、γ−アルミナ微粉（０．５ｇ、日揮化学社製、Ｎ−６１１Ｎ）を存在させた場合の、表記化合物（２５ｍｇ）の安定性試験を行った場合でも、質量減少プロフィールはγ−アルミナ微粉が存在しない場合と同様であり、ルイス酸触媒存在下においても優れた安定性を示す。
【０１０５】
［例１０］公知のペルフルオロポリエーテルの安定性試験（比較例）
−ＯＣＦ２Ｏ−構造を必須とするペルフルオロポリエーテル（アウジモント社製、フォンブリンＺ ＤｉＯＬ４０００）を用いて、例９と同様の方法で安定性試験を行った結果、γ−アルミナ微粉の存在下では該エーテルは２４０〜２５０℃で全量が分解し、低分子量化合物となって気化した。
【０１０６】
［例１１］
（例１１−１）化合物（Ａ−１１ｄ）の製造例および評価例
例１の化合物（Ｄ２−１）を市販のポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂製、ユニオックスＧ１２００）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応と同じ反応を行い、化合物（Ａ−１１ｄ）を得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−１１ｄ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−１１ｄ）のＭｎは３０００であった。さらに該化合物（Ａ−１１ｄ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−１１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−１１ｄ）のＭｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１４であった。
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】
化合物（Ｄ３−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１０９】
化合物（Ｄ４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１１０】
化合物（Ｄ５−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１１】
化合物（Ｄ７−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１２】
化合物（Ａ−１１ｄ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１３】
（例１１−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１１−１で製造した化合物（Ａ−１１ｄ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−１１ｅ）を得た。化合物（Ａ−１１ｅ）のＭｎは３０５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２６であった。１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−１１ｅ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１１４】
【化１４】
【０１１５】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１６】
(例１１−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１１−１で製造した化合物（Ａ−１１ｄ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−１２ｂ）を得た。化合物（Ａ−１２ｂ）のＭｎは３０６０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２９であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−１２ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１１７】
【化１５】
【０１１８】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１１９】
［例１２］
（例１２−１）化合物（Ａ−２１ａ）の製造例
例１の化合物（Ｄ３−１）を下記化合物（Ｄ３−３）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応を同様に行い、化合物（Ａ−２１ａ）を得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−２１ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−２１ａ）のＭｎは２６００３６００であった。さらに該化合物（Ａ−２１ａ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−２１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−２１ａ）のＭｗ／Ｍｎは１．２１であった。
Ｃ（ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＲｆ）４ （Ｄ３−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯＲｆ）４ （Ｄ４−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＯＦ）４ （Ｄ５−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＯＯＣＨ３）４ （Ｄ７−３）
→ Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＨ）４ （Ａ−２１ａ）
【０１２０】
化合物（Ｄ３−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１２１】
化合物（Ｄ４−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６５．２〜−６８．８，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１２２】
化合物（Ｄ５−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−６０．２〜−６８．８，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２３】
化合物（Ｄ７−３）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６３．２〜−６５．８，−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２４】
化合物（Ａ−２１ａ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２５】
（例１２−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１２−１で製造した化合物（Ａ−２１ａ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−２１ｂ）を得た。化合物（Ａ−２１ｂ）のＭｎは２６７０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．３０であった。
また１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−２１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）４ （Ａ−２１ｂ）
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２６】
(例１２−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１２−１で製造した化合物（Ａ−２１ａ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−２２ａ）を得た。化合物（Ａ−２２ａ）のＭｎは２６５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．３４であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−２２ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１２７】
Ｃ（ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｋＣＦ２ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＨ）４（Ａ−２２ａ）
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−６４．２〜−６５．８，−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１２８】
［例１３］
（例１３−１）化合物（Ａ−３１ａ）の製造例および評価例
例１の化合物（Ｄ３−１）を下記化合物（Ｄ３−４）に変更し、例１、例２−１、例３、例４−１、例５の反応を同様に行い、化合物（Ａ−３１ａ）を得た。なお、化合物（Ｄ３−４）の原料であるポリオキシエチレングリセロールエーテル（Ｄ２−４）は、特許（ＰＥＲＦＥＣＴの基本特許）に記載の方法を用いて得た化合物（Ｄ０−４）に公知の方法で２，３−エポキシ−１−プロパノールを付加して（Ｄ１−４）とし、さらにエチレンオキシドを付加することで得た。各例において得た化合物の構造と、ＮＭＲスペクトルは以下のとおりであった。化合物（Ａ−３１ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−単位が含まれていないことを確認した。化合物（Ａ−３１ａ）のＭｎは２９００であった。さらに該化合物（Ａ−１１ｄ）を用いて、例８および例９と同様の評価を行い、化合物（Ａ−１１ａ）と同じ結論を得た。化合物（Ａ−３１ａ）のＭｗ／Ｍｎは１．１３であった。
【０１２９】
【化１６】
【０１３０】
化合物（Ｄ３−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，３．９５，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−８７．０〜−９２．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
【０１３１】
化合物（Ｄ４−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
【０１３２】
化合物（Ｄ５−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：１２．７，−５４．０〜−５６．０，−７８．１，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３３】
化合物（Ｄ７−４−２）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９５，５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７８．３，−８８．２〜−９２．０，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３４】
化合物（Ａ−１１ｄ）のＮＭＲスペクトル
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−８０．１，−８８．２〜−９０．５。
【０１３５】
（例１３−２）
例６における化合物（Ａ−１１ａ）を例１３−１で製造した化合物（Ａ−３１ａ）に変更して例６と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−３１ｂ）を得た。化合物（Ａ−３１ｂ）のＭｎは２９５０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．１９であった。
また１９Ｆ−ＮＭＲによって、該化合物（Ａ−３１ｂ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１３６】
【化１７】
【０１３７】
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：４．３１、３．９，３．７６。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【０１３８】
(例１１−３)
例７における化合物（Ａ−１１ａ）を例１３−１で製造した化合物（Ａ−３１ａ）に変更して例７と同様に反応を行い、下記化合物（Ａ−３２ａ）を得た。化合物（Ａ−３２ａ）のＭｎは２９６０であった。Ｍｗ／Ｍｎは１．２１であった。
また19Ｆ−ＮＭＲによって、化合物（Ａ−３２ａ）中には−（ＯＣＦ２Ｏ）−構造が存在しないことを確認した。
【０１３９】
【化１８】
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．４５，３．６７，４．６７。
19Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜−５６．０，−７７．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
【産業上の利用可能性】
【０１４１】
本発明は、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用な新規な含フッ素ポリエーテル化合物を提供する。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、低い蒸気圧および粘性を有し、化学的な安定性が高く使用時の劣化の問題が少ない性質を有する。また本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、自己修復性に優れる化合物であることから、上記用途に有用に用いうる。
なお、本発明の明細書の開示として、本出願の優先権主張の基礎となる日本特許願２００４−５５８６号（２００４年１月１３日に日本特許庁に出願）の全明細書の内容をここに引用し取り入れるものである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｘ：下式（Ｘ）で表される基（ここで、ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数を示す。）。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
Ｚ：下式（Ｚ）で表わされる基（ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。）を示す。ｇは３〜２００の整数を示す。）。
ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
Ｙ：（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基を示し、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
ｘ、ｚ：ｘは２以上の整数であり、ｚは０以上の整数であり、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数である。ｘが２以上である場合の式（Ｘ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の式（Ｚ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
式（Ｘ）で表される基が下式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基である請求項１に記載の化合物。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
【請求項３】
式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−１）で表される化合物または下式（Ａ−２）で表される化合物である請求項２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【請求項４】
式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−３）で表される化合物である請求項２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは前記と同じ意味を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【請求項５】
式（Ａ）で表される化合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した分子量が５００〜１００万であり、かつ、分子量分布が１．０〜１．５である請求項１〜４のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物と有機溶媒とを含む溶液組成物。
【請求項７】
溶液組成物中の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度が、０．０１〜５０質量％である請求項６に記載の溶液組成物。
【請求項８】
請求項1〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤。
【請求項１】
下式（Ａ）で表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
（Ｘ−）ｘＹ（−Ｚ）ｚ （Ａ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｘ：下式（Ｘ）で表される基（ここで、ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数を示す。）。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ−（ＣＨ２）ｃ−
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ）
Ｚ：下式（Ｚ）で表わされる基（ここで、ＲＦは炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（ただし、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。）を示す。ｇは３〜２００の整数を示す。）。
ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− （Ｚ）
Ｙ：（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基を示し、該基中には−ＯＣＦ２Ｏ−構造は存在しない。
ｘ、ｚ：ｘは２以上の整数であり、ｚは０以上の整数であり、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数である。ｘが２以上である場合の式（Ｘ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｚが２以上である場合の式（Ｚ）で表される基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
式（Ｘ）で表される基が下式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基である請求項１に記載の化合物。ただし、ｄは前記と同じ意味を示す。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−１）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−２）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−３）
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− （Ｘ−４）
【請求項３】
式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−１）で表される化合物または下式（Ａ−２）で表される化合物である請求項２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｙ４はペルフルオロアルカン−テトライル基を示す。
（Ｘ１０−）３Ｙ３ （Ａ−１）
（Ｘ１０−）４Ｙ４ （Ａ−２）
【請求項４】
式（Ａ）で表される化合物が下式（Ａ−３）で表される化合物である請求項２に記載の化合物。ただし、Ｘ１０は式（Ｘ−１）で表される基〜下式（Ｘ−４）で表される基から選ばれるいずれかの基を示し、Ｙ３はペルフルオロアルカン−トリイル基を示し、Ｚは前記と同じ意味を示す。
（Ｘ１０−）２Ｙ３−Ｚ （Ａ−３）
【請求項５】
式（Ａ）で表される化合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した分子量が５００〜１００万であり、かつ、分子量分布が１．０〜１．５である請求項１〜４のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物と有機溶媒とを含む溶液組成物。
【請求項７】
溶液組成物中の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度が、０．０１〜５０質量％である請求項６に記載の溶液組成物。
【請求項８】
請求項1〜５のいずれかに記載の含フッ素ポリエーテル化合物を必須成分とする潤滑剤、表面改質剤、または界面活性剤。
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０６８５３４
【国際公開日】平成１７年７月２８日（２００５．７．２８）
【発行日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５１７０４５（Ｐ２００５−５１７０４５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／０００２５６
【国際出願日】平成１７年１月１２日（２００５．１．１２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１７年７月２８日（２００５．７．２８）
【発行日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／０００２５６
【国際出願日】平成１７年１月１２日（２００５．１．１２）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
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