描画装置
【課題】パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供する。
【解決手段】ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。キャリッジ３Ａ，３Ｂは、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１ａ，３１ｂをそれぞれ有する。キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａには、ヘッド部４Ａが取り付けられる。キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂには、ヘッド部４Ｂが取り付けられる。
レーザ光発生部５により発生されたレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂからステージ１上のマスクブランクス１０に向けてそれぞれ出射される。
【解決手段】ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。キャリッジ３Ａ，３Ｂは、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１ａ，３１ｂをそれぞれ有する。キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａには、ヘッド部４Ａが取り付けられる。キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂには、ヘッド部４Ｂが取り付けられる。
レーザ光発生部５により発生されたレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂからステージ１上のマスクブランクス１０に向けてそれぞれ出射される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの製造のために、マスクブランクスにパターンを描画する描画方法および描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、フォトマスクの製造には、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。描画装置は、一方向（以下、Ｙ方向と呼ぶ）に移動可能なステージを有する。ステージの上方には、レーザ光を出射するためのヘッド部がＹ方向に垂直な一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に移動可能に設けられる。
【０００３】
ステージ上にマスクブランクスが固定される。その状態で、ヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス上のＸ方向に沿った一定幅の領域においてパターンの描画が行われる。
【０００４】
次いで、ステージがＹ方向に沿って移動することにより、マスクブランクスの位置がＹ方向にずらされる。その状態で、上記同様にヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、上記の一定幅の領域と隣接する他の一定幅の領域において、パターンの描画が行われる。
【０００５】
このように、Ｘ方向に沿った一定幅の領域において描画を行う毎に、マスクブランクスの位置をＹ方向にずらすことにより、マスクブランクスの全面において描画を行うことができる。
【特許文献１】特開２００２−２４４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年では、液晶ディスプレイ等の製品の大型化が進んでおり、これらの製品の製造時に必要なフォトマスクも大型化している。フォトマスクの大型化に伴い、パターンの描画時間が著しく増加する。そこで、生産効率を上げるためにパターンの描画時間の短縮が要望されている。
【０００７】
本発明の目的は、パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明に係る描画装置は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、レーザ光を出射するための複数のレーザ光出射部と、複数のレーザ出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる複数の第１の移動機構と、複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとを第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御する制御手段とを備えたものである。
【０００９】
この描画装置においては、複数の第１の移動機構により複数のレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動し、第２の移動機構により複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとが第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動する。
【００１０】
また、制御手段により複数の第１の移動機構および第２の移動機構が制御されるとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射がそれぞれ制御される。それらにより、マスクブランクスの描画すべきパターンの部分にレーザ光が出射され、パターンが描画される。
【００１１】
この場合、複数のレーザ光出射部によりパターンの描画を行うことにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて描画効率が向上する。それにより、パターンの描画時間を短縮することができる。
【００１２】
（２）マスクブランクスは複数のレーザ光出射部に対応した複数の描画領域を有し、制御手段は、複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画領域にそれぞれ独立して描画が行われるように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１３】
この場合、マスクブランクスの複数の描画領域に並行してパターンの描画を行うことができる。それにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００１４】
（３）複数のレーザ光出射部は第２の方向に間隔をおいて配置され、制御手段は、複数のレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動しつつそれぞれ所定のタイミングでレーザ光を出射し、複数のレーザ光出射部の往復移動ごとに複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動するように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１５】
この場合、第２の方向に間隔をおいて配置された複数のレーザ光出射部の各々により、マスクブランクスの第１の方向に沿った一定幅の領域ごとにパターンの描画が行われる。それにより、マスクブランクスの第２の方向に並ぶ複数の領域において並行して描画が行われる。その結果、パターンの描画時間が大幅に短縮される。
【００１６】
（４）マスクブランクスは共通の描画領域を有し、制御手段は、複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画条件で共通の描画領域に描画が行われるように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１７】
この場合、１回の動作で複数の異なる描画条件によるパターンの描画を行うことができる。それにより、短時間で高精細なパターンの描画を行うことができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、複数のレーザ光出射部によりパターンの描画を行うことにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて描画効率が向上する。それにより、パターンの描画時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態に係る描画装置について図面を参照しながら説明する。
【００２０】
（１）第１の実施の形態
（１−１）構成
図１は、第１の実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。図１において、水平面内で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向と定義する。
【００２１】
図１に示すように、描画装置１００は、ステージ１、ステージ駆動部２、キャリッジ３Ａ，３Ｂ、ヘッド部４Ａ，４Ｂ、レーザ光発生部５、オンオフ切替部６Ａ，６Ｂおよび制御部７を備える。
【００２２】
ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。マスクブランクス１０は、例えばガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等からなる遮光性薄膜および感光性膜が順に形成された構成を有する。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。
【００２３】
キャリッジ３Ａ，３Ｂはそれぞれ門型形状を有し、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１ａ，３１ｂをそれぞれ有する。ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔は、ステージ１上に固定されるマスクブランクス１０のＹ方向における長さの略２分の１に設定される。なお、種々の大きさのマスクブランクス１に対応するために、ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔が変更可能であることが好ましい。
【００２４】
キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａには、ヘッド部４Ａが取り付けられる。ヘッド部４Ａは、キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａに沿ってＸ方向に移動可能に構成される。キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂには、ヘッド部４Ｂが取り付けられる。ヘッド部４Ｂは、キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂに沿ってＸ方向に移動可能に構成される。
【００２５】
レーザ光発生部５は、例えばクリプトンイオンレーザを有し、レーザ光を発生する。そのレーザ光は、図示しないビームスプリッタにより２つに分離される。分離された一方のレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６Ａを通してヘッド部４Ａに導かれる。他方のレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６Ｂを通してヘッド部４Ｂに導かれる。そして、これらのレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂからステージ１上のマスクブランクス１０に向けてそれぞれ出射される。なお、ヘッド部４Ａ，４Ｂに導かれるレーザ光がさらに分離され、複数本のレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂの各々から出射されてもよい。
【００２６】
また、本実施の形態では、共通のレーザ光発生部５により発生されたレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂから出射されるが、ヘッド部４Ａ，４Ｂの各々に対応するように２つのレーザ光発生部が設けられてもよい。
【００２７】
オンオフ切替部６Ａにより、ヘッド部４Ａからのレーザ光の出射のオンオフが切り替えられる。また、オンオフ切替部６Ｂにより、ヘッド部４Ｂからのレーザ光の出射のオンオフが切り替えられる。
【００２８】
ここで、図１においては、マスクブランクス１０上の領域が、Ｘ方向に平行な破線Ｓ１によって２等分されている。以下の説明において、破線Ｓ１を境界とするマスクブランクス１０上の一方の領域を第１の描画領域１０Ａと呼び、他方の領域を第２の描画領域１０Ｂと呼ぶ。
【００２９】
本実施の形態では、ヘッド部４Ａによってマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおけるパターンの描画が行われ、ヘッド部４Ｂによってマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂにおけるパターンの描画が行われる。
【００３０】
制御部７は、描画すべきパターンに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ａ，６Ｂをそれぞれ制御する。本実施の形態では、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ａのオンオフが制御され、マスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ｂのオンオフが制御される。
【００３１】
また、制御部７は、ヘッド部４Ａ，４Ｂの動作およびステージ駆動部２の動作をそれぞれ制御する。なお、複数のオンオフ切替部および複数のヘッド部に対応するように複数の制御部が設けられてもよい。
【００３２】
（１−２）動作
次に、図１に示した描画装置１００の動作の概要について説明する。図２〜図４は、描画装置１００の動作について説明するための模式的平面図である。
【００３３】
まず、図２（ａ）に示すように、ヘッド部４Ａの下方にマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａの端部が位置しかつヘッド部４Ｂの下方にマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂの端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。
【００３４】
なお、上記のように、ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔は、マスクブランクス１０のＹ方向における長さの略２分の１に設定される。そのため、第１の描画領域１０Ａに対するヘッド部４ＡのＹ方向における相対位置と、第２の描画領域１０Ｂに対するヘッド部４ＢのＹ方向における相対位置とが、互いにほぼ一致する。すなわち、ヘッド部４Ａの下方に第１の描画領域１０Ａの端部が位置する状態では、ヘッド部４Ｂの下方に第２の描画領域１０Ｂの端部が位置する。
【００３５】
次に、図２（ｂ）に示すように、ヘッド部４Ａがヘッド移動部３１ａの一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａに向けてレーザ光を出射する。同時に、ヘッド部４Ｂがヘッド移動部３１ｂの一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂに向けてレーザ光を出射する。
【００３６】
これにより、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおいて、Ｘ方向に沿ったストライプ領域Ｐ１ａにパターンの描画が行われ、マスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂにおいて、Ｘ方向に沿ったストライプ領域Ｐ１ｂにパターンの描画が行われる。なお、ストライプ領域Ｐ１ａは第１および第２の描画領域１０Ａの境界線（破線Ｓ１）に沿い、ストライプ領域Ｐ１ｂはマスクブランクス１０のＸ方向に平行な一辺に沿う。
【００３７】
続いて、図３（ｃ）に示すように、ヘッド部４Ａ，４Ｂがレーザ光の出射を停止した状態でヘッド移動部３１ａ，３１ｂの一端部にそれぞれ戻る。また、ステージ１がストライプ領域Ｐ１ａ，Ｐ１ｂの幅分だけＹ方向に移動する。
【００３８】
そして、図３（ｄ）に示すように、ヘッド部４Ａ，４Ｂが再びヘッド移動部３１ａ，３１ｂの一端部から他端部にそれぞれ移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂに向けてそれぞれレーザ光を出射する。これにより、ストライプ領域Ｐ１ａに隣接するストライプ領域Ｐ２ａにパターンの描画が行われるとともに、ストライプ領域Ｐ１ｂに隣接するストライプ領域Ｐ２ｂにパターンの描画が行われる。
【００３９】
このようにして、マスクブランクス１０の第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂにおいて、それぞれストライプ領域毎にパターンの描画が行われる。最終的に、図４（ｅ）に示すように、ヘッド部４Ａによってマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａの全面（複数のストライプ領域Ｐ１ａ〜Ｐｚａ）においてパターンの描画が行われる。また、ヘッド部４Ｂによってマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂの全面（複数のストライプ領域Ｐ１ｂ〜Ｐｚｂ）においてパターンの描画が行われる。ここで、Ｚは２以上の整数である。
【００４０】
（１−３）効果
このように、本実施の形態では、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおける描画と第２の描画領域１０Ｂにおける描画とがヘッド部４Ａ，４Ｂに分担されて同時に行われる。これにより、１つのヘッド部によってマスクブランクス１０の全面に描画を行う場合に比べて、描画時間を略半分に短縮することができる。
【００４１】
また、描画装置１００の動作の精度は所定量の許容誤差を有するが、その許容誤差は描画の開始時点から終了時点までの過程で累積される。そのため、例えば１つのヘッド部によりマスクブランクス１０のＸ方向に沿う一辺から他辺にかけて描画を行う場合、他辺側の領域において、描画すべきパターンと実際に描画されるパターンとのずれが大きくなる。
【００４２】
それに対して、本実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４Ｂにより分担して描画を行うことにより、許容誤差の累積を抑制することができる。したがって、描画すべきパターンと実際に描画されるパターンとの間に大きなずれが発生することを抑制することができる。
【００４３】
（１−４）応用例
上記実施の形態では、キャリッジおよびヘッド部が２対設けられるが、キャリッジおよびヘッド部がそれぞれ３対以上設けられてもよい。この場合、マスクブランクス１０へのパターンの描画を３つ以上のヘッド部に分担して同時に行うことができる。それにより、描画時間のさらなる短縮が可能になるとともに、許容誤差の累積をより十分に抑制することができる。
【００４４】
なお、複数のキャリッジは、それぞれＹ方向に一定の間隔で配置されることが好ましい。その場合、各ヘッド部による描画面積を均一にすることができる。そのため、描画効率をさらに向上させることができる。ただし、複数のヘッド部間の干渉および複数のヘッド部から出射されるレーザ光間の干渉が生じないように、複数のキャリッジの間隔を調整する必要がある。
【００４５】
また、上記実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向に固定され、ステージ１がＹ方向に移動可能に構成されるが、これに限らず、ステージ１がＹ方向に固定され、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向にそれぞれ独立に移動可能に構成されてもよい。
【００４６】
この場合、ヘッド部４Ａとヘッド部４Ｂとを互いに異なる速度でＹ方向に移動させることができる。そのため、例えばヘッド部４Ａ，４Ｂの一方により高密度なパターンの描画を行い、他方により低密度なパターンの描画を行うときに、一方のヘッド部の移動速度を低くし、他方のヘッド部の移動速度を高くすることができる。これにより、描画効率をさらに向上させることが可能になる。
【００４７】
なお、この場合には、ヘッド部４Ａにより描画を行う領域の面積とヘッド部４Ｂにより描画を行う領域の面積とが異なってもよい。
【００４８】
（２）第２の実施の形態
次に、本発明の第２の実施の形態に係る描画装置について、上記第１の実施の形態と異なる点を説明する。
【００４９】
本実施の形態では、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータとヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータとが互いに異なる値に設定される。ここで、描画パラメータは、マスクブランクス１０への描画条件を決定するための種々のパラメータを含む。
【００５０】
描画パラメータの例として、レーザ光のビーム数およびビーム径が挙げられる。また、実際のパターンの描画時には、ヘッド部４Ａ，４ＢがＸ方向に移動しながらヘッド部４Ａ，４Ｂから出射されるレーザ光が一定の周期でＸ方向と交差する方向に振られる。この振れ量を描画パラメータとしてもよい。
【００５１】
また、パターンの描画時には、レーザ光による温度変化等に起因してマスクブランクス１０に歪みが発生する。さらに、パターンの描画後の工程においてもマスクブランクス１０に歪みが発生することがある。このような歪みによる精度の低下を抑制するために、予め補正値を算出し、その補正値に基づいて描画を行ってもよい。その場合、この補正値を描画パラメータとしてもよい。
【００５２】
ところで、高精細なパターンの描画を行うためには、パターンの部分に応じて描画パラメータの値を変更することが望ましい。例えば、パターンの縁部を描画する場合には、その内側の領域を描画する場合に比べてより細かい描画が可能なように描画パラメータを変更することが望ましい。
【００５３】
しかしながら、動作中に描画パラメータの値を変更することは困難である。そのため、ヘッド部を１つのみ備えた描画装置においては、一旦マスクブランクス１０の全面への描画を終了した後に、描画パラメータの値を変更して再度マスクブランクス１０の全面への描画を行う必要がある。通常、ヘッド部の移動速度は一定であるので、マスクブランクス１０の全面への描画を複数回行う場合には、描画時間が著しく増加する。
【００５４】
それに対して、本実施の形態では、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータとヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータとが互いに異なる値に設定されることにより、短い時間で高精細なパターンの描画を行うことが可能となる。以下、その詳細を説明する。
【００５５】
（２−１）動作
第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明する。図５〜図７は、第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【００５６】
なお、図５（ａ）に示すように、本実施の形態に係る描画装置１００ａにおいては、上記第１の実施の形態に係る描画装置１００に比べて、キャリッジ３Ａ，３Ｂが互いに近接するように設けられる。
【００５７】
まず、図５（ａ）に示すように、ヘッド部４Ａの下方にマスクブランクス１０の端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。続いて、図５（ｂ）に示すように、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・に順にパターンの描画が行われる。この場合、ヘッド部４Ｂは停止した状態で維持される。なお、ストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・への描画時におけるヘッド部４Ａの動作は、ストライプ領域Ｐ１ａ，Ｐ２ａ，・・・への描画時におけるヘッド部４Ａの動作と同様である（図２〜図５参照）。
【００５８】
ヘッド部４Ａによるストライプ領域Ｐｉへの描画が終了した時点で、図６（ｃ）に示すように、ヘッド部４Ｂがマスクブランクス１０の端部の上方（ストライプ領域Ｐ１の上方）に位置する状態となる。ここで、ｉは１以上の整数であり、本例では４である。
【００５９】
この場合、図６（ｄ）に示すように、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐｉ＋１（本例ではＰ５）への描画が行われるときに、ヘッド部４Ｂによりストライプ領域Ｐ１への描画が行われる。
【００６０】
上記のように、ヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータの値は、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータの値と異なる。そのため、ヘッド部４Ｂにより、ヘッド部４Ａと異なる条件でストライプ領域Ｐ１に描画が行われる。
【００６１】
そして、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐｉ＋１，Ｐｉ＋２，・・・に順に描画が行われるとともに、ヘッド部４Ｂによりストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・に順に描画が行われる。なお、ストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・への描画時におけるヘッド部４Ｂの動作は、ストライプ領域Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，・・・への描画時におけるヘッド部４Ｂの動作と同様である（図２〜図５参照）。
【００６２】
その後、図７（ｅ）に示すように、ヘッド部４Ａによるマスクブランクス１０の全面（ストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚ）への描画が終了する。続いて、図７（ｆ）に示すように、ヘッド部４Ｂによるマスクブランクス１０の全面（ストライプ領域Ｐ１〜Ｐｗ）への描画が終了する。ここで、ｗは２以上の整数であり、上記ｚの略２倍である。
【００６３】
（２−２）効果
このように、本実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４Ｂに対応する描画パラメータが互いに異なる値に設定された状態で、ヘッド部４Ａ，４Ｂによりマスクブランクス１０の全面にパターンの描画が行われる。この場合、１回の動作で、パターンの部分に応じて異なる条件で描画を行うことができる。したがって、１つのヘッド部により描画を行う場合に比べて、短時間で高精細なパターンの描画を行うことができる。
【００６４】
（２−３）応用例
上記第２の実施の形態では、キャリッジおよびヘッド部が２対設けられるが、キャリッジおよびヘッド部がそれぞれ３対以上設けられてもよい。この場合、３つ以上のヘッド部に対応する描画パラメータをそれぞれ異なる値に設定することにより、１回の動作において３つ以上の条件で描画を行うことが可能になる。
【００６５】
また、上記第２の実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向に固定され、ステージ１がＹ方向に移動可能に構成されるが、これに限らず、ステージ１がＹ方向に固定され、ヘッド部４Ａ，４ＢがそれぞれＹ方向に移動可能に構成されてもよい。この場合、設定された描画パラメータに応じて、ヘッド部４Ａとヘッド部４Ｂとを互いに異なる速度でＹ方向に移動させることができる。
【００６６】
（３） 請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００６７】
上記実施の形態においては、Ｘ方向が第１の方向の例であり、Ｙ方向が第２の方向の例であり、ヘッド部４Ａ，４Ｂがレーザ光出射部の例であり、キャリッジ３Ａ，３Ｂおよびヘッド部４Ａ，４Ｂが第１の移動機構の例であり、ステージ駆動部２が第２の移動機構の例であり、制御部７が制御手段の例であり、第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂが描画領域の例である。
【００６８】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明は、種々のマスクブランクスへのパターンの描画に有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】第１の実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。
【図２】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図３】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図５】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図６】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図７】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【符号の説明】
【００７１】
１ ステージ
２ ステージ駆動部
３Ａ，３Ｂ キャリッジ
４Ａ，４Ｂ ヘッド部
５ レーザ光発生部
６Ａ，６Ｂ オンオフ切替部
７ 制御部
１０ マスクブランクス
１０Ａ 第１の描画領域
１０Ｂ 第２の描画領域
３１ａ，３１ｂ ヘッド移動部
１００，１００ａ 描画装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの製造のために、マスクブランクスにパターンを描画する描画方法および描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、フォトマスクの製造には、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。描画装置は、一方向（以下、Ｙ方向と呼ぶ）に移動可能なステージを有する。ステージの上方には、レーザ光を出射するためのヘッド部がＹ方向に垂直な一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に移動可能に設けられる。
【０００３】
ステージ上にマスクブランクスが固定される。その状態で、ヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス上のＸ方向に沿った一定幅の領域においてパターンの描画が行われる。
【０００４】
次いで、ステージがＹ方向に沿って移動することにより、マスクブランクスの位置がＹ方向にずらされる。その状態で、上記同様にヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、上記の一定幅の領域と隣接する他の一定幅の領域において、パターンの描画が行われる。
【０００５】
このように、Ｘ方向に沿った一定幅の領域において描画を行う毎に、マスクブランクスの位置をＹ方向にずらすことにより、マスクブランクスの全面において描画を行うことができる。
【特許文献１】特開２００２−２４４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年では、液晶ディスプレイ等の製品の大型化が進んでおり、これらの製品の製造時に必要なフォトマスクも大型化している。フォトマスクの大型化に伴い、パターンの描画時間が著しく増加する。そこで、生産効率を上げるためにパターンの描画時間の短縮が要望されている。
【０００７】
本発明の目的は、パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明に係る描画装置は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、レーザ光を出射するための複数のレーザ光出射部と、複数のレーザ出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる複数の第１の移動機構と、複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとを第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御する制御手段とを備えたものである。
【０００９】
この描画装置においては、複数の第１の移動機構により複数のレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動し、第２の移動機構により複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとが第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動する。
【００１０】
また、制御手段により複数の第１の移動機構および第２の移動機構が制御されるとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射がそれぞれ制御される。それらにより、マスクブランクスの描画すべきパターンの部分にレーザ光が出射され、パターンが描画される。
【００１１】
この場合、複数のレーザ光出射部によりパターンの描画を行うことにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて描画効率が向上する。それにより、パターンの描画時間を短縮することができる。
【００１２】
（２）マスクブランクスは複数のレーザ光出射部に対応した複数の描画領域を有し、制御手段は、複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画領域にそれぞれ独立して描画が行われるように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１３】
この場合、マスクブランクスの複数の描画領域に並行してパターンの描画を行うことができる。それにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００１４】
（３）複数のレーザ光出射部は第２の方向に間隔をおいて配置され、制御手段は、複数のレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動しつつそれぞれ所定のタイミングでレーザ光を出射し、複数のレーザ光出射部の往復移動ごとに複数のレーザ光出射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動するように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１５】
この場合、第２の方向に間隔をおいて配置された複数のレーザ光出射部の各々により、マスクブランクスの第１の方向に沿った一定幅の領域ごとにパターンの描画が行われる。それにより、マスクブランクスの第２の方向に並ぶ複数の領域において並行して描画が行われる。その結果、パターンの描画時間が大幅に短縮される。
【００１６】
（４）マスクブランクスは共通の描画領域を有し、制御手段は、複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画条件で共通の描画領域に描画が行われるように、複数の第１の移動機構および第２の移動機構を制御するとともに複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御してもよい。
【００１７】
この場合、１回の動作で複数の異なる描画条件によるパターンの描画を行うことができる。それにより、短時間で高精細なパターンの描画を行うことができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、複数のレーザ光出射部によりパターンの描画を行うことにより、１つのレーザ光出射部によりパターンの描画を行う場合に比べて描画効率が向上する。それにより、パターンの描画時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態に係る描画装置について図面を参照しながら説明する。
【００２０】
（１）第１の実施の形態
（１−１）構成
図１は、第１の実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。図１において、水平面内で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向と定義する。
【００２１】
図１に示すように、描画装置１００は、ステージ１、ステージ駆動部２、キャリッジ３Ａ，３Ｂ、ヘッド部４Ａ，４Ｂ、レーザ光発生部５、オンオフ切替部６Ａ，６Ｂおよび制御部７を備える。
【００２２】
ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。マスクブランクス１０は、例えばガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等からなる遮光性薄膜および感光性膜が順に形成された構成を有する。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。
【００２３】
キャリッジ３Ａ，３Ｂはそれぞれ門型形状を有し、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１ａ，３１ｂをそれぞれ有する。ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔は、ステージ１上に固定されるマスクブランクス１０のＹ方向における長さの略２分の１に設定される。なお、種々の大きさのマスクブランクス１に対応するために、ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔が変更可能であることが好ましい。
【００２４】
キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａには、ヘッド部４Ａが取り付けられる。ヘッド部４Ａは、キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａに沿ってＸ方向に移動可能に構成される。キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂには、ヘッド部４Ｂが取り付けられる。ヘッド部４Ｂは、キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂに沿ってＸ方向に移動可能に構成される。
【００２５】
レーザ光発生部５は、例えばクリプトンイオンレーザを有し、レーザ光を発生する。そのレーザ光は、図示しないビームスプリッタにより２つに分離される。分離された一方のレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６Ａを通してヘッド部４Ａに導かれる。他方のレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６Ｂを通してヘッド部４Ｂに導かれる。そして、これらのレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂからステージ１上のマスクブランクス１０に向けてそれぞれ出射される。なお、ヘッド部４Ａ，４Ｂに導かれるレーザ光がさらに分離され、複数本のレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂの各々から出射されてもよい。
【００２６】
また、本実施の形態では、共通のレーザ光発生部５により発生されたレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂから出射されるが、ヘッド部４Ａ，４Ｂの各々に対応するように２つのレーザ光発生部が設けられてもよい。
【００２７】
オンオフ切替部６Ａにより、ヘッド部４Ａからのレーザ光の出射のオンオフが切り替えられる。また、オンオフ切替部６Ｂにより、ヘッド部４Ｂからのレーザ光の出射のオンオフが切り替えられる。
【００２８】
ここで、図１においては、マスクブランクス１０上の領域が、Ｘ方向に平行な破線Ｓ１によって２等分されている。以下の説明において、破線Ｓ１を境界とするマスクブランクス１０上の一方の領域を第１の描画領域１０Ａと呼び、他方の領域を第２の描画領域１０Ｂと呼ぶ。
【００２９】
本実施の形態では、ヘッド部４Ａによってマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおけるパターンの描画が行われ、ヘッド部４Ｂによってマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂにおけるパターンの描画が行われる。
【００３０】
制御部７は、描画すべきパターンに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ａ，６Ｂをそれぞれ制御する。本実施の形態では、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ａのオンオフが制御され、マスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６Ｂのオンオフが制御される。
【００３１】
また、制御部７は、ヘッド部４Ａ，４Ｂの動作およびステージ駆動部２の動作をそれぞれ制御する。なお、複数のオンオフ切替部および複数のヘッド部に対応するように複数の制御部が設けられてもよい。
【００３２】
（１−２）動作
次に、図１に示した描画装置１００の動作の概要について説明する。図２〜図４は、描画装置１００の動作について説明するための模式的平面図である。
【００３３】
まず、図２（ａ）に示すように、ヘッド部４Ａの下方にマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａの端部が位置しかつヘッド部４Ｂの下方にマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂの端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。
【００３４】
なお、上記のように、ヘッド移動部３１ａ，３１ｂのＹ方向における間隔は、マスクブランクス１０のＹ方向における長さの略２分の１に設定される。そのため、第１の描画領域１０Ａに対するヘッド部４ＡのＹ方向における相対位置と、第２の描画領域１０Ｂに対するヘッド部４ＢのＹ方向における相対位置とが、互いにほぼ一致する。すなわち、ヘッド部４Ａの下方に第１の描画領域１０Ａの端部が位置する状態では、ヘッド部４Ｂの下方に第２の描画領域１０Ｂの端部が位置する。
【００３５】
次に、図２（ｂ）に示すように、ヘッド部４Ａがヘッド移動部３１ａの一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａに向けてレーザ光を出射する。同時に、ヘッド部４Ｂがヘッド移動部３１ｂの一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂに向けてレーザ光を出射する。
【００３６】
これにより、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおいて、Ｘ方向に沿ったストライプ領域Ｐ１ａにパターンの描画が行われ、マスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂにおいて、Ｘ方向に沿ったストライプ領域Ｐ１ｂにパターンの描画が行われる。なお、ストライプ領域Ｐ１ａは第１および第２の描画領域１０Ａの境界線（破線Ｓ１）に沿い、ストライプ領域Ｐ１ｂはマスクブランクス１０のＸ方向に平行な一辺に沿う。
【００３７】
続いて、図３（ｃ）に示すように、ヘッド部４Ａ，４Ｂがレーザ光の出射を停止した状態でヘッド移動部３１ａ，３１ｂの一端部にそれぞれ戻る。また、ステージ１がストライプ領域Ｐ１ａ，Ｐ１ｂの幅分だけＹ方向に移動する。
【００３８】
そして、図３（ｄ）に示すように、ヘッド部４Ａ，４Ｂが再びヘッド移動部３１ａ，３１ｂの一端部から他端部にそれぞれ移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０の第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂに向けてそれぞれレーザ光を出射する。これにより、ストライプ領域Ｐ１ａに隣接するストライプ領域Ｐ２ａにパターンの描画が行われるとともに、ストライプ領域Ｐ１ｂに隣接するストライプ領域Ｐ２ｂにパターンの描画が行われる。
【００３９】
このようにして、マスクブランクス１０の第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂにおいて、それぞれストライプ領域毎にパターンの描画が行われる。最終的に、図４（ｅ）に示すように、ヘッド部４Ａによってマスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａの全面（複数のストライプ領域Ｐ１ａ〜Ｐｚａ）においてパターンの描画が行われる。また、ヘッド部４Ｂによってマスクブランクス１０の第２の描画領域１０Ｂの全面（複数のストライプ領域Ｐ１ｂ〜Ｐｚｂ）においてパターンの描画が行われる。ここで、Ｚは２以上の整数である。
【００４０】
（１−３）効果
このように、本実施の形態では、マスクブランクス１０の第１の描画領域１０Ａにおける描画と第２の描画領域１０Ｂにおける描画とがヘッド部４Ａ，４Ｂに分担されて同時に行われる。これにより、１つのヘッド部によってマスクブランクス１０の全面に描画を行う場合に比べて、描画時間を略半分に短縮することができる。
【００４１】
また、描画装置１００の動作の精度は所定量の許容誤差を有するが、その許容誤差は描画の開始時点から終了時点までの過程で累積される。そのため、例えば１つのヘッド部によりマスクブランクス１０のＸ方向に沿う一辺から他辺にかけて描画を行う場合、他辺側の領域において、描画すべきパターンと実際に描画されるパターンとのずれが大きくなる。
【００４２】
それに対して、本実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４Ｂにより分担して描画を行うことにより、許容誤差の累積を抑制することができる。したがって、描画すべきパターンと実際に描画されるパターンとの間に大きなずれが発生することを抑制することができる。
【００４３】
（１−４）応用例
上記実施の形態では、キャリッジおよびヘッド部が２対設けられるが、キャリッジおよびヘッド部がそれぞれ３対以上設けられてもよい。この場合、マスクブランクス１０へのパターンの描画を３つ以上のヘッド部に分担して同時に行うことができる。それにより、描画時間のさらなる短縮が可能になるとともに、許容誤差の累積をより十分に抑制することができる。
【００４４】
なお、複数のキャリッジは、それぞれＹ方向に一定の間隔で配置されることが好ましい。その場合、各ヘッド部による描画面積を均一にすることができる。そのため、描画効率をさらに向上させることができる。ただし、複数のヘッド部間の干渉および複数のヘッド部から出射されるレーザ光間の干渉が生じないように、複数のキャリッジの間隔を調整する必要がある。
【００４５】
また、上記実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向に固定され、ステージ１がＹ方向に移動可能に構成されるが、これに限らず、ステージ１がＹ方向に固定され、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向にそれぞれ独立に移動可能に構成されてもよい。
【００４６】
この場合、ヘッド部４Ａとヘッド部４Ｂとを互いに異なる速度でＹ方向に移動させることができる。そのため、例えばヘッド部４Ａ，４Ｂの一方により高密度なパターンの描画を行い、他方により低密度なパターンの描画を行うときに、一方のヘッド部の移動速度を低くし、他方のヘッド部の移動速度を高くすることができる。これにより、描画効率をさらに向上させることが可能になる。
【００４７】
なお、この場合には、ヘッド部４Ａにより描画を行う領域の面積とヘッド部４Ｂにより描画を行う領域の面積とが異なってもよい。
【００４８】
（２）第２の実施の形態
次に、本発明の第２の実施の形態に係る描画装置について、上記第１の実施の形態と異なる点を説明する。
【００４９】
本実施の形態では、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータとヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータとが互いに異なる値に設定される。ここで、描画パラメータは、マスクブランクス１０への描画条件を決定するための種々のパラメータを含む。
【００５０】
描画パラメータの例として、レーザ光のビーム数およびビーム径が挙げられる。また、実際のパターンの描画時には、ヘッド部４Ａ，４ＢがＸ方向に移動しながらヘッド部４Ａ，４Ｂから出射されるレーザ光が一定の周期でＸ方向と交差する方向に振られる。この振れ量を描画パラメータとしてもよい。
【００５１】
また、パターンの描画時には、レーザ光による温度変化等に起因してマスクブランクス１０に歪みが発生する。さらに、パターンの描画後の工程においてもマスクブランクス１０に歪みが発生することがある。このような歪みによる精度の低下を抑制するために、予め補正値を算出し、その補正値に基づいて描画を行ってもよい。その場合、この補正値を描画パラメータとしてもよい。
【００５２】
ところで、高精細なパターンの描画を行うためには、パターンの部分に応じて描画パラメータの値を変更することが望ましい。例えば、パターンの縁部を描画する場合には、その内側の領域を描画する場合に比べてより細かい描画が可能なように描画パラメータを変更することが望ましい。
【００５３】
しかしながら、動作中に描画パラメータの値を変更することは困難である。そのため、ヘッド部を１つのみ備えた描画装置においては、一旦マスクブランクス１０の全面への描画を終了した後に、描画パラメータの値を変更して再度マスクブランクス１０の全面への描画を行う必要がある。通常、ヘッド部の移動速度は一定であるので、マスクブランクス１０の全面への描画を複数回行う場合には、描画時間が著しく増加する。
【００５４】
それに対して、本実施の形態では、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータとヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータとが互いに異なる値に設定されることにより、短い時間で高精細なパターンの描画を行うことが可能となる。以下、その詳細を説明する。
【００５５】
（２−１）動作
第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明する。図５〜図７は、第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【００５６】
なお、図５（ａ）に示すように、本実施の形態に係る描画装置１００ａにおいては、上記第１の実施の形態に係る描画装置１００に比べて、キャリッジ３Ａ，３Ｂが互いに近接するように設けられる。
【００５７】
まず、図５（ａ）に示すように、ヘッド部４Ａの下方にマスクブランクス１０の端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。続いて、図５（ｂ）に示すように、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・に順にパターンの描画が行われる。この場合、ヘッド部４Ｂは停止した状態で維持される。なお、ストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・への描画時におけるヘッド部４Ａの動作は、ストライプ領域Ｐ１ａ，Ｐ２ａ，・・・への描画時におけるヘッド部４Ａの動作と同様である（図２〜図５参照）。
【００５８】
ヘッド部４Ａによるストライプ領域Ｐｉへの描画が終了した時点で、図６（ｃ）に示すように、ヘッド部４Ｂがマスクブランクス１０の端部の上方（ストライプ領域Ｐ１の上方）に位置する状態となる。ここで、ｉは１以上の整数であり、本例では４である。
【００５９】
この場合、図６（ｄ）に示すように、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐｉ＋１（本例ではＰ５）への描画が行われるときに、ヘッド部４Ｂによりストライプ領域Ｐ１への描画が行われる。
【００６０】
上記のように、ヘッド部４Ｂに対応する描画パラメータの値は、ヘッド部４Ａに対応する描画パラメータの値と異なる。そのため、ヘッド部４Ｂにより、ヘッド部４Ａと異なる条件でストライプ領域Ｐ１に描画が行われる。
【００６１】
そして、ヘッド部４Ａによりストライプ領域Ｐｉ＋１，Ｐｉ＋２，・・・に順に描画が行われるとともに、ヘッド部４Ｂによりストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・に順に描画が行われる。なお、ストライプ領域Ｐ１，Ｐ２，・・・への描画時におけるヘッド部４Ｂの動作は、ストライプ領域Ｐ１ｂ，Ｐ２ｂ，・・・への描画時におけるヘッド部４Ｂの動作と同様である（図２〜図５参照）。
【００６２】
その後、図７（ｅ）に示すように、ヘッド部４Ａによるマスクブランクス１０の全面（ストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚ）への描画が終了する。続いて、図７（ｆ）に示すように、ヘッド部４Ｂによるマスクブランクス１０の全面（ストライプ領域Ｐ１〜Ｐｗ）への描画が終了する。ここで、ｗは２以上の整数であり、上記ｚの略２倍である。
【００６３】
（２−２）効果
このように、本実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４Ｂに対応する描画パラメータが互いに異なる値に設定された状態で、ヘッド部４Ａ，４Ｂによりマスクブランクス１０の全面にパターンの描画が行われる。この場合、１回の動作で、パターンの部分に応じて異なる条件で描画を行うことができる。したがって、１つのヘッド部により描画を行う場合に比べて、短時間で高精細なパターンの描画を行うことができる。
【００６４】
（２−３）応用例
上記第２の実施の形態では、キャリッジおよびヘッド部が２対設けられるが、キャリッジおよびヘッド部がそれぞれ３対以上設けられてもよい。この場合、３つ以上のヘッド部に対応する描画パラメータをそれぞれ異なる値に設定することにより、１回の動作において３つ以上の条件で描画を行うことが可能になる。
【００６５】
また、上記第２の実施の形態では、ヘッド部４Ａ，４ＢがＹ方向に固定され、ステージ１がＹ方向に移動可能に構成されるが、これに限らず、ステージ１がＹ方向に固定され、ヘッド部４Ａ，４ＢがそれぞれＹ方向に移動可能に構成されてもよい。この場合、設定された描画パラメータに応じて、ヘッド部４Ａとヘッド部４Ｂとを互いに異なる速度でＹ方向に移動させることができる。
【００６６】
（３） 請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００６７】
上記実施の形態においては、Ｘ方向が第１の方向の例であり、Ｙ方向が第２の方向の例であり、ヘッド部４Ａ，４Ｂがレーザ光出射部の例であり、キャリッジ３Ａ，３Ｂおよびヘッド部４Ａ，４Ｂが第１の移動機構の例であり、ステージ駆動部２が第２の移動機構の例であり、制御部７が制御手段の例であり、第１および第２の描画領域１０Ａ，１０Ｂが描画領域の例である。
【００６８】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明は、種々のマスクブランクスへのパターンの描画に有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】第１の実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。
【図２】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図３】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図５】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図６】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図７】第２の実施の形態に係る描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【符号の説明】
【００７１】
１ ステージ
２ ステージ駆動部
３Ａ，３Ｂ キャリッジ
４Ａ，４Ｂ ヘッド部
５ レーザ光発生部
６Ａ，６Ｂ オンオフ切替部
７ 制御部
１０ マスクブランクス
１０Ａ 第１の描画領域
１０Ｂ 第２の描画領域
３１ａ，３１ｂ ヘッド移動部
１００，１００ａ 描画装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、
レーザ光を出射するための複数のレーザ光出射部と、
前記複数のレーザ出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる複数の第１の移動機構と、
前記複数のレーザ光出射部と前記マスクブランクスとを前記第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、
前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御する制御手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記マスクブランクスは前記複数のレーザ光出射部に対応した複数の描画領域を有し、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画領域にそれぞれ独立して描画が行われるように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記複数のレーザ光出射部は前記第２の方向に間隔をおいて配置され、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部が前記第１の方向およびその逆方向に往復移動しつつそれぞれ所定のタイミングでレーザ光を出射し、前記複数のレーザ光出射部の往復移動ごとに前記複数のレーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動するように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項２記載の描画装置。
【請求項４】
前記マスクブランクスは共通の描画領域を有し、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる条件で前記共通の描画領域に描画が行われるように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項１】
レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、
レーザ光を出射するための複数のレーザ光出射部と、
前記複数のレーザ出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる複数の第１の移動機構と、
前記複数のレーザ光出射部と前記マスクブランクスとを前記第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、
前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御する制御手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記マスクブランクスは前記複数のレーザ光出射部に対応した複数の描画領域を有し、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる描画領域にそれぞれ独立して描画が行われるように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記複数のレーザ光出射部は前記第２の方向に間隔をおいて配置され、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部が前記第１の方向およびその逆方向に往復移動しつつそれぞれ所定のタイミングでレーザ光を出射し、前記複数のレーザ光出射部の往復移動ごとに前記複数のレーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動するように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項２記載の描画装置。
【請求項４】
前記マスクブランクスは共通の描画領域を有し、
前記制御手段は、前記複数のレーザ光出射部によりそれぞれ異なる条件で前記共通の描画領域に描画が行われるように、前記複数の第１の移動機構および前記第２の移動機構を制御するとともに前記複数のレーザ光出射部からのレーザ光の出射および非出射をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−４４２６１（Ｐ２０１０−４４２６１Ａ）
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２０８９５７（Ｐ２００８−２０８９５７）
【出願日】平成２０年８月１４日（２００８．８．１４）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月１４日（２００８．８．１４）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
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