国際特許分類［G03F7/20］の内容
物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 露光；そのための装置 (8,784)
国際特許分類［G03F7/20］の下位に属する分類
焦点調節手段，例．自動焦点調節手段 (137)
同一表面の異なる位置を同一パターンで同時に露光するもの (9)
同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの (31)
カーブした表面への露光 (76)
国際特許分類［G03F7/20］に分類される特許
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荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法
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露光装置
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露光装置および露光方法
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リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
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露光装置
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ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクの製造方法
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ＵＶ露光システム
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サポート、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
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露光装置、露光装置ユニット及び被露光部材とマスクとのアライメント方法
【課題】被露光部材とマスクとのアライメントを行うための位置調整を単純化することによって効率的なアライメントを可能とする。
【解決手段】被露光部材２０の位置を調整する被露光部材位置調整装置１００と、被露光部材２０に形成すべき所定のパターン象が描かれているマスク３０の位置を調整するマスク位置調整装置２００とを備える露光装置１０であって、直交する２軸の一方の軸をＸ軸とし、他方の軸をＹ軸としたとき、被露光部材位置調整装置１００は、被露光部材２０をＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面上におけるＸ軸に沿った方向及びＹ軸に沿った方向に移動可能に構成され、マスク位置調整装置２００は、マスク３０をＸＹ平面に直交するＺ軸に沿った軸を中心に回転可能に構成されている。
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反射屈折型投影光学系およびそれを備えた投影露光装置
【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。
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