【課題】ケミカルの使用を抑制しつつ、研磨後のウエハの洗浄や排液処理の負荷を減少させ、かつ効率的に研磨を行なう研磨装置を提供する。
【解決手段】被研磨材を保持するトップリング１４と、イオン交換体を有する研磨部材１０，２４と、研磨液を供給するための研磨液供給手段３２，３０，２６と、研磨液中に電界を形成するための電源２０を有する。 （もっと読む）

【課題】 光触媒材上に銀及び塩化銀を担持させることにより、光触媒反応速度を著しく向上させた光触媒とその製法、及び、水処理方法と装置を提供する。
【解決手段】 光触媒材１上に、銀２及び塩化銀３を担持させた光触媒Ａとしたものであり、前記光触媒は、塩化銀を、１上に銀を担持させ、それを電解酸化して生成させたものであり、前記光触媒は、銀が核(コア)、塩化銀が外殻(シェル)を構成しており、また、１は、導電性物質であるか、又は、導電性物質６に担持させることができ、その製法は、１上に、先ず銀を担持させ、次いで電解酸化により該銀から塩化銀を形成させることにより、１上への銀の担持は、電解還元析出で行うことができ、また、有害物質を含む水を前記の光触媒に接触させることにより、有害物質を除去する水の処理方法としたものであり、前記有害物質を含む水は、貧酸素状態であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 マルチ鏡筒でダイピッチと光軸ピッチとが異なったときに生じる問題を低減する欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】 ウェーハＷ上に複数の光軸２００〜２１４を有する電子光学系２４がダイ２１６のＹ方向の並びと略４５°の角度方向に並んで配置される。光軸２００〜２１４はＸ軸方向へ投影した間隔がダイ２１６の配列ピッチの整数倍になっていると好都合であるが、必ずしも配列ピッチは光軸２００〜２１４の整数倍になっているとは限らない。光軸の位置がストライプの中央に一致させて検査を行う方法として、ピッチ差である（Ｌｘ−Ｄｓｉｎθ）をストライプの幅で割り算した値ｍが整数となるように角度θの値を決めることである。他の方法として、ストライプの境界を各列で同じ場所とせず、列毎に可変にすることであり、（Ｌｘ−Ｄｓｉｎθ）／（ストライプ幅）の値が整数と余りがあり、この余りの寸法のストライプを最初のストライプとすれば休みを最小にして検査が行える。 （もっと読む）

【課題】 比較的簡単な構成で、例えアスペクト比が高く、深さが深いビアホール等にあっても、金属膜を内部にボイドを発生させることなく確実に埋込むことができるようにする。
【解決手段】 第１めっき液を該第１めっき液にアノードを浸漬させて保持する第１めっき槽１７０ａと、第１めっき液より金属濃度の低い第２めっき液を該第２めっき液にアノードを浸漬させて保持する第２めっき槽１７０ｂと、第１めっき槽１７０ａと第２めっき槽１７０ｂとの間を移動自在で、被めっき材を該被めっき材に通電可能に保持するホルダ１６０を有し、ホルダ１６０で保持した被めっき材を第１めっき槽１７０ａ内の第１めっき液に接触させて行う第１めっき処理と、第２めっき槽１７０ｂ内の第２めっき液に接触させて行う第２めっき処理を順次繰返す。 （もっと読む）

本発明は、半導体ウェーハの表面に設けられたトレンチやビヤホール、レジスト開口部にめっき膜を形成したり、半導体ウェーハの表面にパッケージの電極等と電気的に接続するバンプを形成したりするのに使用されるめっき装置に関する。めっき装置（１７０）は、めっき液（１８８）を保持するめっき槽（１８６）と、被めっき材を保持して該被めっき材の被めっき面をめっき槽（１８６）内のめっき液（１８８）に接触させるホルダ（１６０）と、めっき槽の内部に配置され、ホルダで保持した被めっき材の被めっき面に向けてめっき液を噴射してめっき槽（１８６）内にめっき液（１８８）を供給する複数のめっき液噴射ノズル（２２２）を有するリング状のノズル配管（２２０）を備えている。
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【課題】 陸揚げから水素として消費可能となるのに要する時間を短縮して、製造コストを大幅に低減させることができる水素製造設備を提供する。
【解決手段】 この水素製造設備は、原料またはエネルギー源となる資源物質を貯蔵する原料貯蔵部１２と、貯蔵部１２に貯蔵された資源物質を用いて水素を製造する水素製造部１４と、製造された水素を貯蔵する水素貯蔵部１６とが航行可能な船体１０に設けられていることを特徴とする。これにより、航行中に資源物質を輸送しながらこれを水素に変換することができるので、水素の製造のための時間を節約することができる。 （もっと読む）

【課題】 製品寿命を延ばすとともに、より低廉化を図り、更には発電効率を高ることができ、またスラストバランス機構のより簡略化乃至省略化の要請に応えることができるようにする。
【解決手段】 主軸２０に固着され、ケーシング３４の内部に導入された作動流体の流体圧で該主軸２０と一体に回転するランナ１６を有するタービン１２と、主軸２０に固着され該主軸２０と一体に回転する発電機ロータ１８及び該発電機ロータ１８の周囲を囲繞するステータ４８を有する発電機１４と、主軸２０を回転自在に支承する軸受２４，２６を備え、主軸２０は、少なくとも２以上の部材を組合せて構成されている。 （もっと読む）

本発明の課題は、無機硫黄化合物を含む有機性排水を対象とした高性能な上向流嫌気性汚泥床処理（メタン発酵処理）方法及び装置を提供する。本発明は、硫黄化合物を含む有機性排水をメタン発酵処理する方法において、該メタン発酵処理工程より発生するバイオガス中の硫化水素濃度を検出し、該バイオガス中の硫化水素濃度が所定値を超えた場合に、前記有機性排水に脱硫処理操作を加える制御を行うことを特徴とする有機性排水のメタン発酵処理方法、及び装置である。硫化水素濃度の所定値を１％以上４％以下、好ましくは１％以上２％以下とすること、及び前記脱硫処理操作が、硫黄に対する鉄イオンのモル比が、０．０５〜１となるように鉄イオンを含む脱硫剤を加えるものであることが好ましい。
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【課題】 岩盤地下に設けた液体貯留槽に設置された安全弁装置に、炭酸カルシューム等の析出物が堆積することを防止する安全弁装置の析出物堆積防止装置を提供する。
【解決手段】
安全弁装置３０が設置された保護管２３内に炭酸カルシューム等の析出を防止する薬液を注入する薬液注入配管５１を設け、保護管２３内を流通する仕様液に薬液を混合し、安全弁装置３０の近傍に薬液を供給するように構成した。特に、薬液注入配管５１の薬液注入口５２を、安全弁３３を構成する弁座３１及び弁体シート部３４、弁棒３５の軸受部の近傍に開口させて配置することで、安全弁３３への析出物の堆積を防止し、緊急時に安全弁３３が作動しないという不都合を回避する。 （もっと読む）

【課題】小型でめっき液量が少なくて済み、半導体ウエハ等の被めっき基板面に均一なめっき膜を形成できるめっき装置を提供すること。
【解決手段】内部にアノード電極が配置されたアノード槽１０と、内部に被めっき基板がカソード電極として配置されたカソード槽１１を備え、該アノード槽１０とカソード槽１１をアノード電極と被めっき基板が所定の間隔で対向するように配置し、該アノード槽１０とカソード槽１１を開口が被めっき基板の形状と同一又は相似形の配管１２、又は複数の細管をその開口が被めっき基板の形状と同一又は相似形になるように束ねた配管で接続し、アノード槽１０及びカソード槽１１にめっき液を収容し、アノード電極と被めっき基板の間に所定のめっき電圧を印加するめっき電源Ｅを備えた。 （もっと読む）