【課題】 微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基を有し、かつ塩基性中心である窒素に共有結合する水素を含有しないアミン化合物又はアミンオキシド化合物（アミン及びアミンオキシドの窒素原子が芳香環の環構造に含まれるものを除く）の１種又は２種以上を含有するものである化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクル膜とペリクルフレームと粘着剤層とを有し、前記ペリクル膜が前記ペリクルフレームの上端面に張設され、前記粘着剤層が前記ペリクルフレームの下端面にペリクルフレームを基板に貼り付け可能に設けられてなるペリクルであって、更に、前記ペリクルフレームの内壁面に、主鎖にパーフルオロ構造を有するパーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物の硬化物からなる内壁粘着剤層を有することを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
【効果】長期使用時に粘着剤層にＡｒＦエキシマレーザー光が照射されても、分解ガスの発生が少なく、ヘイズの発生が少ないペリクルを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】防かび性、耐変色性及び保存安定性に優れると共に、難接着樹脂に対して良好な接着性を有し、かつ人体及び環境に優しいオルガノポリシロキサン組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、
（Ａ）オルガノポリシロキサンであるベースポリマー １００質量部、
（Ｂ）無機充填材 ５〜３００質量部、
（Ｃ）シラン化合物又はその部分加水分解物 １〜３０質量部、
（Ｄ）硬化触媒 ０．０１〜１５質量部、
（Ｅ）シランカップリング剤 ０．０５〜１５質量部、
（Ｆ）チアベンダゾール ０．１〜５質量部、
を含有することを特徴とする室温硬化型オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】 加熱炉へのガラス母材の送り速度を所定の速度で行うことができ、径の安定したガラスロッドを得ることのできるガラス母材延伸装置を提供する。
【解決手段】 ガラス母材を加熱延伸して所望の外径を有するガラスロッドを製造する延伸装置において、加熱炉の常用温度Ｔ（Ｋ）において、前記トップチャンバが下記の数式１で示される波長λ（μm）において透明体であることを特徴としている。
【数１】
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【課題】 微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基を有し、かつ塩基性中心である窒素に共有結合する水素を含有しないアミン化合物又はアミンオキシド化合物（アミン及びアミンオキシドの窒素原子が芳香環の環構造に含まれるものを除く）の１種又は２種以上を含有するものである化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 ペリクル膜にバリがないペリクルおよびそのようなペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームのペリクル膜貼り付け用接着面及びレチクル貼り付け用粘着面とフレーム内外側面とのなす角部にＣ面取りがなされており、該ペリクル膜貼り付け用接着面とフレーム外側面とのなすＣ面取りの寸法をＣ：０．０１ｍｍより大きくＣ：０．１ｍｍ以下としたことを特徴とする。前記ペリクルフレームの材質が、表面をアルマイト処理したアルミニウム合金であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】遺伝子検査を検体試料調整から検査まで連続的に、かつ利便性よく行うことができ、検体試料からの目的遺伝子の検知をより容易に行うことのできる装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】核酸塩基配列を検査するための装置であって、少なくとも、検体試料がそれぞれ１個入る大きさの室を１又は複数有する極微小容器と、検体試料溶液及び薬液を前記極微小容器内に導入するための導入手段と、廃液を排出するための排出手段と、検体試料を観察して塩基配列を測定するための装置とを具備するものであることを特徴とする核酸塩基配列検査装置。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって使用しても、分解ガスの発生が少なく、フォトマスクのパターン領域上への固体異物の析出を防止することができ、かつ、フォトマスクをペリクルフレームに固定している粘着層に含まれる粘着剤の劣化を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム３と、ペリクルフレーム３の一方の面に接着されたペリクル膜１と、ペリクルフレーム３の他方の面に形成された粘着層４を有し、粘着層４が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されたことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。 （もっと読む）

【課題】中空の構造を持つ積層体を製造する方法をより容易とし、さらには、多層の構造を可能とする作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に中空の構造体を作製するための方法のうち、構造材料を積み重ねて作製する方法であって、少なくとも、
（ａ）基板上に構造材料層を形成する工程と、
（ｂ）前記構造材料層にパターンを形成する工程と、
（ｃ）前記パターンの間を埋め込む犠牲材料として水溶性又はアルカリ可溶性のポリマーを用いて、前記パターンの間を埋め込み犠牲材料層を形成する工程と、
（ｄ）更に構造材料層を積層してパターンを形成する工程と、
（ｅ）積層を全て終えた後に前記犠牲材料を最終的に除去する工程、
を含むことを特徴とする中空の構造体製造方法。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン棒の気相成長工程中にあらゆる方位に伸縮しうるＵロッドのひびや割れの発生に対する抑制効果の高い技術を提供すること。
【解決手段】炭素電極３０の上部電極３１の上面側には、シリコン芯線５ａを保持する芯線ホルダ２０の固定部が設けられている。上部電極３１には、上面３３から下面３４に貫通する孔部（貫通孔）３５が設けられており、棒状の締結部材であるボルト３６がワッシャ３７を介して上部電極３１の上面３３から該孔部３５に挿入され、下部電極３２でネジ止めされて固定されている。孔部３５内におけるボルト３６の直胴部との間の間隙５１は、上部電極３１が下部電極３２の上面との接触面である載置面（図２では上部電極３１の下面３４と接する下部電極３２の上面）の面内での全方位の摺動を可能とするため、気相成長工程中にあらゆる方位に伸縮しうるＵロッドのひびや割れの発生に対する抑制効果を奏することとなる。 （もっと読む）