信越化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】 本発明は、高温下でも反りが発生しにくい積層基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 絶縁基板の主面及び裏面の少なくとも一方に金属層を有する積層基板であって、前記金属層は前記絶縁基板の縁に沿った額縁部と該額縁部より内側の電極パターン形成部とを有し、前記額縁部は前記積層基板の内側から縁に至るまで前記額縁部を横断するように2以上の溝が形成されることにより複数領域に分断されたものであることを特徴とする積層基板。 (もっと読む)


【課題】 揮発性及び不揮発性のシリコーン油、炭化水素油、エステル油、天然動植物油剤への相溶性が高く、各種油剤をペースト状、又は固化することができる25℃において固体またはチキソ性を有するグリース状のシリコーン変性ワックス及びその製造方法、該シリコーン変性ワックスを含む組成物、化粧料を提供する。
【解決手段】 1分子中に1個または2個のアルケニル基を有する多価アルコールと高級脂肪酸とから得られるエステル化反応生成物に、少なくとも1つのメチル基を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンをヒドロシリル化反応させることにより得られるものであり、25℃において固体またはチキソ性を有するグリース状であることを特徴とするシリコーン変性ワックス。 (もっと読む)


【課題】ゴム組成物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、ムーニー粘度及び作業性を大幅に向上させることが可能な含硫黄有機ケイ素化合物を提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基と硫黄−ケイ素結合を有する含硫黄有機ケイ素化合物を主成分とするゴム用配合剤の使用。 (もっと読む)


【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光、現像を行うパターン形成方法において用いられる、一般式(1)で示されるビスフェノール化合物のノボラック樹脂をベース樹脂とするレジスト保護膜材料。


(Rαは同一又は異種の水素原子、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基であり、Rβは単結合又は2n価の炭化水素基であり、芳香族基を有していてもよい。nは1〜4の整数を示す。Rγは単結合又はアルキレン基であり、芳香族基を有していてもよい。p、qはそれぞれ1〜3の整数を示す。)
【効果】レジスト保護膜材料を適用することによって、大気中のアミンコンタミネーションによるレジストパターンの頭張りを防ぐことができ、レジスト膜への増感効果によってレジスト膜の感度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】 揮発性及び不揮発性シリコーン油、炭化水素油、エステル油、天然動植物油剤等の油剤への相溶性が高く、各種油剤を増粘させて滑らかで延びが良いペースト状乃至固形状組成物とすることができるシリコーン変性ワックス及びその製造方法、該シリコーン変性ワックスを含む組成物及び化粧料を提供する。
【解決手段】 多価アルコールと飽和高級脂肪酸と末端に不飽和基を有する高級脂肪酸とから得られるエステル化反応生成物に、少なくとも1つのメチル基を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンをヒドロシリル化反応させることにより得られるものであり、25℃において固体またはチキソ性を有するグリース状であることを特徴とするシリコーン変性ワックス。 (もっと読む)


【解決手段】下記一般式(1)
1SiR2n(OH)3-n (1)
(式中、R1はカルボキシル基を有すると共にアミノ基が介在する炭素数1〜20の非置換又は置換の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜20の非置換又は置換の1価炭化水素基であり、nは0〜2の整数である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(2)
1SiR2n(OH)m(3-m-n)/2 (2)
(式中、R1はカルボキシル基を有すると共にアミノ基が介在する炭素数1〜20の非置換又は置換の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜20の非置換又は置換の1価炭化水素基であり、mは0≦m<3の範囲の値、nは0〜2の整数であり、m+n<3である。)
で示されるシラノール縮合体を含有する水溶液。
【効果】本発明により提供されるアミノ酸変性シラノール化合物及びシラノール縮合体含有水溶液は、使用時に使用者の安全、環境保全の点で問題となるアルコールが発生せず、更に保存安定性が良好である。 (もっと読む)


【解決手段】切れ目(スリット)を有するシリコーンゴム成形品の該切れ目表面をシリル化剤で処理することを特徴とするシリコーンゴム成形品の切れ目の再密着防止方法。
【効果】本発明によれば、シリコーンゴム成形品の切れ目(スリット)の再密着を効果的に防止し得る。 (もっと読む)


【課題】フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、表面処理剤、物品及び光学物品を提供する。
【解決手段】(1)の基含有ポリマー組成物で、全末端基数に対する末端Rf基数が30%〜75%で片末端及び両末端加水分解性シリル基含有ポリマーを含む。
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【課題】高圧化・高負荷化・高速化された反応系においても、ポップコーンの発生が抑制され、高純度な多結晶シリコン棒を安定的に製造するための技術を提供すること。
【解決手段】本発明では、シリコン芯線上にシリコンを析出させて多結晶シリコン棒を得る多結晶シリコンの製造方法において、析出反応の初期段階(前段工程)では原料ガスを反応炉に大量に供給することにより反応速度を上げることはせず供給する原料ガスの濃度を高濃度とすることにより反応速度を上げ、当該前段工程の後の後段工程では反応炉内に原料ガスを高速で吹き込むことにより生じる高速強制対流の効果を利用してポップコーンの発生確率を低く抑えることとした。これにより、高圧化・高負荷化・高速化された反応系においても、ポップコーンが少なく、かつ、高純度な多結晶シリコン棒を、生産効率を低下させることなく製造することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】作業性が良好で、良好な接着性、熱伝導性、難燃性を有するシリコーンゴム硬化物を提供する。
【解決手段】(A)特定のオルガノポリシロキサン、(B)シラン化合物及び/又はその部分加水分解物、(C)熱伝導性充填剤、(C−1)アルミナ粉末、(C−2)酸化マグネシウム粉末、(D)難燃性充填剤、(E)式(4)で示される化合物を含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
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