信越化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】錫化合物を含むことなく、良好な硬化性を示し、シリコーン粘着剤の基材密着性を向上させるシリコーン粘着剤用縮合反応硬化型プライマー組成物を提供する。
【解決手段】(A)1分子中に2個以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサン 100質量部、(B)1分子中に3個以上のSiH基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン (B)成分中のSiH基のモル数が(A)成分中のシラノール基のモル数の20〜1000倍となる量、(C)非錫系縮合反応触媒 (A)及び(B)成分の合計に対し1〜30質量部、(D)(D1)C原子1〜3個を介してN原子とO原子が結合した構造を含む有機化合物、及び/又は(D2)(D1)成分中のO原子の一部もしくは全てがS原子に置き換わった有機化合物からなる助触媒 (A)成分に対し1〜20質量部、並びに(E)任意量の有機溶剤を含むシリコーン粘着剤用縮合反応硬化型プライマー組成物。 (もっと読む)


【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物(A)一種以上と、下記一般式(2)で示されるケイ素化合物(B)一種以上とを含む混合物の縮合物及び/又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
m0B(OH)m1(OR)(3−m0−m1) (1)
10m1011m1112m12Si(OR13(4−m10−m11−m12) (2) (もっと読む)


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