【課題】 新規な水性懸濁状農薬組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）農薬活性成分、（ｂ）無機塩、（ｃ）ホワイトカーボン、（ｄ）アルキルポリグリコシドおよび水を含む水性懸濁状農薬組成物。（ａ）農薬活性成分は、（ａ１）固体の農薬活性成分、（ａ２）液体の農薬活性成分および（ａ３）農薬活性成分の溶液からなる群から選ばれる１種以上である。無機塩としては、塩化ナトリウム、硫酸アンモニウム、塩化カリウムおよび燐酸二水素ナトリウムが好ましい。ホワイトカーボンとしては、含水シリカが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 新規な固型農薬製剤を提供する。
【解決手段】 以下の（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含む粒状物、並びに当該粒状物および固体担体を含む固型農薬製剤。
（ａ）農薬活性成分
（ｂ）２５℃において固体の疎水性物質
（ｃ）体積中位径が５０〜１５００μmである粒状体
２５℃において固体の疎水性物質としては、ワックス、脂肪酸、脂肪酸エステルまたは樹脂が好ましい。体積中位径が５０〜１５００μmである粒状体としては、パイロフィライト 、珪砂、ゼオライトまたはスラグの破砕物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ホログラム記録材料において、微粒子の凝集を抑え、光散乱損失が極めて低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる感光性組成物、及び該感光性組成物を用いたホログラム記録媒体を提供すること。
【解決手段】パターン露光によってパターンを形成するために使用される感光性組成物であって、（ａ）重合性化合物、（ｂ）光重合開始剤、（ｃ）カルコゲン化合半導体微粒子、及び（ｄ）イオン液体を含む感光性組成物、或いは、（ｂ）光重合開始剤、（ｃ）カルコゲン化合半導体微粒子、及び（ｄ’）重合性イオン液体を含む感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 新規な水性懸濁状農薬組成物を提供する。
【解決手段】 （１）農薬活性成分およびそれらの塩から選ばれる１種以上、（２）アセチレングリコールおよびそのポリオキシアルキレン付加物から選ばれる１種以上、（３）ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステルおよびそれらの塩から選ばれる１種以上、並びに（４）アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸のホルマリン縮合物、ナフタレンスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物およびそれらの塩から選ばれる１種以上を含有する水性懸濁状農薬組成物。上記農薬活性成分としては、スルホニルウレア系化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイ、ハードディスク用記録材料、固体撮像素子、太陽電池パネル、発光ダイオード、有機発光デバイス、ルミネセントフィルム、蛍光フィルム、ＭＥＭＳ、アクチュエーター、反射防止材料、レジスト、レジスト下層膜、レジスト上層膜、又はナノインプリント用テンプレート（モールド）に使用される膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 モノマー（ａ）を単位構造として含むポリマー鎖（Ａ）と、モノマー（ａ）とは異なるモノマー（ｂ）を単位構造として含む隣接する少なくとも一つのポリマー鎖（Ｂ）とを含むブロックコポリマー、架橋剤、及び有機溶剤を含む膜形成組成物。ブロックコポリマー中に存在するブロックの種類が２又は３である。ブロックコポリマー中に存在するブロック数が２又は３である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンに接してサイドウォールを形成するのに好適なサイドウォール形成組成物を提供すること。
【解決手段】
アルカリ水溶液に可溶であり且つ架橋部位を有する、炭素含有率７０〜９０質量％の重合体、架橋剤及び有機溶媒を含むリソグラフィー用サイドウォール形成組成物。
前記重合体としては、炭素含有率が高いものほど好ましく、通常７０〜９０質量％である。前記架橋部位としては、例えば、炭素環に直接結合したヒドロキシ基等が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】ポリ乳酸樹脂の結晶化を促進し、ポリ乳酸樹脂のより高い成型加工性や耐熱性を実現するのに好適な結晶核剤とポリ乳酸樹脂とを含む樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
ポリ乳酸樹脂と、式（１）で表されるフェニルホスホン酸化合物のマンガン塩とを含有することを特徴とする、ポリ乳酸樹脂組成物。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１乃至１０のアルキル基、又は炭素原子数１乃至１０のアルコキシカルボニル基を表す。） （もっと読む）

【課題】 工業的に有用な２−ヒドロキシエチルオキシアミン化合物の製造方法の提供
【解決手段】
【化１】



式（１）で表される２−（２−ヒドロキシエトキシ）イソインドリン−１，３−ジオン化合物を式（２）で表される1級アミンと反応させることによる、式（３）で表される２−ヒドロキシエチルオキシアミン化合物の製造方法。
但し、式中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、但し、Ｒ^１、Ｒ^２のうち、少なくともひとつはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルコキシル基、ヒドロキシル基、フェニル基またはベンジル基を表す。 （もっと読む）

【課題】 シャロートレンチ内の絶縁膜表面と半導体基板表面とを平坦にする方法を提供する。
【解決手段】 微細なトレンチアイソレーションによって素子分離を行う半導体装置の製造方法であって、半導体装置基板上に微細トレンチアイソレーション用の溝を形成する第１の工程と、半導体基板全面にＣＶＤ法又はＳＯＧを用いて絶縁膜を形成して、前記微細トレンチアイソレーション用の溝を埋め込むと共に、基板全体に前記絶縁膜を堆積させる第２の工程と、重合性基を有する重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含む塗布組成物によって前記絶縁膜上に塗布膜を形成する第３の工程と、前記塗布膜を硬化させる第４の工程と表面を化学的機械的研磨（ＣＭＰ）又はドライ若しくはウェットエッチングにより前記塗布膜及び前記トレンチアイソレーション用の溝外に存在する絶縁膜を同時に除去し、基板表面を平坦化する第５の工程を含む。 （もっと読む）

【課題】アクリロニトリル化合物の製造方法の提供。
【解決手段】


（式中、Ａｒ^１およびＡｒ^２はそれぞれ独立に置換されていてもよい芳香族置換基を表し、Ｒ^１は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香族置換基を表す。）で表されるＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物またはそれと式（４）（式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＲ^１はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表されるＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物との混合物をアミンやピリジン等の有機塩基で異性化することを特徴とするＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の製造方法。 （もっと読む）