【課題】 プラスチックレンズの表面に施されるハードコート剤の成分、又はその他の用途に用いる安定な変性されたゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化第二スズ粒子または酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子であり、これらの酸化物が重量に基づいてＺｒＯ_２：ＳｎＯ_２として０：１〜０．５０：１の割合と４〜５０ｎｍの粒子径を有するコロイド粒子（Ａ）を核としてその表面が、アルキルアミン含有Ｓｂ_２Ｏ_５コロイド粒子（Ｂ１）又は五酸化アンチモンとニ酸化珪素の複合体コロイド粒子（Ｂ２）又は酸化タングステン−酸化第二スズ−ニ酸化珪素複合体コロイド（Ｂ３）で被覆され、且つ（Ｂ）／（Ａ）の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて０．０１〜０．５０の割合であり、そして４．５〜６０ｎｍの粒子径を有する変性された金属酸化物粒子を含有するゾルである。 （もっと読む）

１．本発明は、メバロン酸代謝経路を阻害する物質の有効量を投与することを特徴とするＬＫＬＦ／ＫＬＦ２遺伝子発現促進方法に関する。
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【課題】 簡素な疎水化処理工程による疎水性シリカ粉末の製造法を提供すること。
【解決手段】 ５．５〜５５０ｍ²／ｇの比表面積を有する親水性コロイド状シリカを含有する水性シリカゾルに式（１）
［化１］
（Ｒ¹₃Ｓｉ）₂ＮＨ （１）
（式中の各Ｒ¹はそれぞれ独立に選択される炭素原子数が１〜６のアルキル基またはフェニル基である。）
で表されるジシラザン化合物を親水性コロイド状シリカの表面積１００ｍ²当たり０．１〜１０ミリモル添加し、５０〜１００℃の温度範囲で加温して熟成することにより疎水化処理コロイド状シリカのスラリー状分散液を得る疎水化処理工程を含む疎水性シリカ粉末の製造法による。 （もっと読む）

Ｔ型カルシウムチャネル阻害剤を提供する。
具体的には、式（１）


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキル基又は、Ｒ^１及びＲ^２が一緒になって−ＣＲ^５Ｒ^６−ＣＲ^７Ｒ^８−、−ＣＲ^５Ｒ^６−ＣＲ^７Ｒ^８−ＣＲ^９Ｒ^１０−若しくは−ＣＲ^５Ｒ^６−ＣＲ^７Ｒ^８−ＣＲ^９Ｒ^１０−ＣＲ^１１Ｒ^１２−等を意味し、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立して、Ｏ又はＮＲ^１３を意味し、Ａｒは、置換されてもよいフェニル基等を意味し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキル基、−Ｌ^２−ＮＲ^１６Ｒ^１７、ＣＨ_２Ｏ−Ｌ^２−ＮＲ^１６Ｒ^１７、ＣＮ、−Ｌ^２−Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２ＮＲ^１６又はＮＲ^１６Ｒ^１７等を意味し、Ｙは、Ｃ_１−２０アルキル基、−Ｌ^３−ＮＲ^１８Ｒ^１９、


を意味し、＊は、Ｒの絶対配置を意味する。］で表される光学活性１，４−ジヒドロピリジン化合物、その医薬的に許容される塩又はそれらの溶媒和物であるＴ型カルシウムチャネル阻害剤である。
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【課題】トロンボポエチンレセプター活性化作用が有効な疾患の予防、治療又は改善に有効な化合物類を提供する。
【解決手段】式（１）（式中のＡ、Ｂ、Ｒ^１、Ｌ^１、Ｒ^２、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｙ、Ｌ^４、Ｒ^３、Ｘは、本文中に定義される）で表わされる化合物、該化合物の互変異性体、プロドラッグ若しくはその医薬的に許容され得る塩又はそれらの溶媒和物。
【化１】
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アルミン酸アルカリ水溶液と液状又は気体状二酸化炭素とを原料とする、電子顕微鏡観察によると、１０〜４０ｎｍの一辺の大きさ及び２．５〜１０ｎｍの厚さを有する矩形板状１次粒子が面−面間で凝結することにより形成される、５０〜４００ｎｍの長さを有する柱状２次粒子を含有する安定な酸性水性アルミナゾルの製造方法である。 得られた酸性水性アルミナゾルは、低粘度で、塩類に安定である。そして、そのゾルから得られる乾燥ゲルは、ポーラスでありながら、そのゲル構造が堅牢であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】排気ガス中に含まれる亜酸化窒素を効率的に、かつ、３００℃以下という低温域でも効果的に分解除去できる触媒を提供する。
【解決手段】アルコキシドの加水分解により調製したアルミナに周期律表第ＶＩＩＩ族の元素から選ばれる少なくとも１種類の元素を担持することを特徴とする亜酸化窒素の分解触媒及びその触媒を用いた亜酸化窒素の分解方法である。 （もっと読む）

塗布後の乾燥温度によらず良好な塗膜均一性を与える液晶配向剤、および良好な塗膜均一性を有する液晶配向膜を提供する。 ポリアミック酸または可溶性ポリイミドから選ばれる少なくとも一種類のポリマーと、ジエチレングリコールジエチルエーテルと、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルとを含有することを特徴とする液晶配向剤、この液晶配向剤をフレキソ印刷法によって印刷して得られる液晶配向膜。 （もっと読む）

デュアルダマシンプロセスに使用され、平坦化性、充填性に優れたギャップフィル材を形成する為のリソグラフィー用ギャップフィル材形成組成物を提供する。 具体的には、高さ／直径で示されるアスペクト比が１以上のホールを有する半導体基板にフォトレジストを被覆し、リソグラフィープロセスを利用して半導体基板上に画像を転写する方法による半導体装置の製造において使用されるポリマー、架橋剤及び溶剤を含有することを特徴とするギャップフィル材形成組成物である。
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【課題】 新規な除草剤を提供する。
【解決手段】 式（１）：
【化１】


〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基等を表し、
Ｒ²は水素原子、Ｃ_1-6アルキル基等を表し、
Ｒ³は水素原子等を表し、
Ｒ⁴およびＲ⁵はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-6アルキル基等を表し、
Ｒ⁶は水素原子、Ｃ_1-6アルキル基等を表す。〕で表される置換ピラゾール化合物または農薬として許容されるその塩、それを有効成分として含有する農薬、除草剤。 （もっと読む）