【課題】異性体の１，８−ジアミノ体を副生せず、かつ中間体として比較的不安定なニトロイミン／ニトロエナミンを経由することなく１，５−ジアミノナフタレンを工業的に有利に製造する新規な方法を提供すること。
【解決手段】５−ニトロ−１−テトラロンのハロゲン化、脱ハロゲン化水素を行なうことにより多量の貴金属触媒を使用することなく芳香族し、次いで還元、アミノ化することにより１，５−ジアミノナフタレンを工業的に有利に製造する。
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【課題】
近年のウエハレベルチップサイズパッケージなどの大きなハンダボールが高密度で配列したような、高いバンプが高密度で配列したウエハを裏面研磨するときに、バンプ面を保護する層を平坦に形成することを課題とする。
【解決手段】
半導体ウエハの研削方法であって、片面に電気的接続のためのバンプ（２）が形成された半導体ウエハ（１）のバンプがある面に接着テープ（Ａ）を貼り付ける工程(工程１)、接着テープ（A）に樹脂（Ｂ）を全面に成型する工程（工程２）、半導体ウエハ裏面を基準に前記樹脂（Ｂ）面を平坦に研削する工程（工程３）、ウエハ裏面を研削する工程（工程４）、接着テープ（Ａ）および樹脂（Ｂ）を剥離する工程（工程５）を具備することを特徴とする半導体ウエハの研削方法。 （もっと読む）

本発明は、金属薄膜層を用いた反射体において、従来以上に高い反射率を有する反射体を提供することを課題として検討したものである。具体的には、優れた増反射効果を示す反射体を提供することを課題として検討したものである。その結果、金属薄膜層（Ａ）と接する低屈折率薄膜層（Ｂ）の厚みを０．７λ／８ｎ_Ｌ〜１．３λ／８ｎ_Ｌの範囲に制御することにより、金属層（Ａ）／低屈折率薄膜層（Ｂ）／高屈折率薄膜層（Ｃ）の構成を有する反射体が、従来に比して極めて優れた反射率を広い波長域に渡って示すことが見出された。より具体的には、純銀単独膜よりも高い反射率を示し、且つ耐久性に優れた反射体を得ることが出来る。本発明のランプリフレクター、導光板下反射体は上記の反射体を使用しているので、各種表示装置に適用すると高い輝度と鮮明な画像を実現することができる。また、本発明の液晶表示装置は、上記の反射体を使用しているので明るく鮮明な画像を実現することが出来る。
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【課題】波長３００〜９００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な光記録媒体および新規な組成物を提供する。
【解決手段】塗布法により形成可能な記録層（Ａと称す）に、レーザー光を吸収して記録マークを形成する記録用色素（Ｂ）、ならびに、ケイ素原子にヒドロキシル基が結合した構造を有する化合物（Ｃ）を、各々少なくとも１種含有する光記録媒体。また、互変可能な構造の一つとしてピリミジン構造を有する化合物、および炭素原子−ケイ素原子結合をし、且つケイ素原子にヒドロキシル基が結合した構造を有する化合物を各々少なくとも１種含有する組成物。 （もっと読む）

従来の非架橋型または部分架橋型熱可塑性エラストマーの性能を保持し、かつ耐摩耗性、柔軟性にも優れたシンジオタクティックプロピレン系重合体組成物を提供する。非架橋であるかまたは部分架橋されたオレフィン系熱可塑性エラストマー（Ａ）１００重量部に対してシンジオタクティックポリプロピレン（Ｂ）１〜４０重量部シンジオタクティック構造であるプロピレン成分を９５〜６５モル％の量含み、炭素数２〜２０のαオレフィン（ただしプロピレンを除く）成分を５〜３５モル％の量含むシンジオタクティック構造プロピレン−αオレフィン共重合体（Ｃ）１０〜６０重量部から構成されている。 （もっと読む）

【課題】 新規な末端官能基含有重合体を提供すること。
【解決手段】 片末端に酸素含有基、イオウ含有基、金属含有基またはハロゲン含有基を有する、オレフィン重合体であって、
［１］ 下記一般式（１）


（１）
（一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、または炭素数１〜１８のアルキル基を表し、Ａは炭素数２〜２０のオレフィンからなる重合体を表す。）で表される片末端に二重結合を有するエチレン系共重合体（Ｐ）の、ビニル基、ビニレン基またはビニリデン基を、酸化剤、スルホン化剤、無水マレイン酸、ヒドロホウ素化剤、ヒドロアルミニウム化剤及びハロゲン化剤から選ばれる少なくとも1種の化合物で処理することによって製造され、
（ii）前記エチレン系重合体（Ｐ）が炭素数２〜２０のオレフィンを重合することによって得られ、融点を示す結晶性重合体であることを特徴とする、結晶性オレフィン重合体。
［２］ ［１］記載の重合体を含む接着性材料組成物。 （もっと読む）

【解決課題】バラツキの少ない抵抗体さらに抵抗体を内蔵する回路基板を効率的に、かつ安価に形成する方法および形成された回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁性樹脂層から構成される抵抗体基板の製造方法であって、基板表面に抵抗体ペーストにより抵抗体を形成する工程、該抵抗体形成面上に絶縁性樹脂層を形成する工程、該基板を除去する工程を具備することを特徴とする抵抗体基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
回路形成後のウエハを、極薄に研磨し、個片化して、このチップを支持体にダイアタッチフィルムを介して接着するまでの工程を、ウエハ反りやウエハ破損なく実現する。
【解決手段】
ハーフカットダイシングにより個片化されたウエハ裏面にダイアタッチフィルムを貼り付ける工程、該ダイアタッチフィルムをストリートに合わせてダイシングすることによりチップサイズに切断する工程、該ダイアタッチフィルムつきチップを半導体パッケージにおける支持体へ粘着テープ（Ａ）を介して位置決めし、加熱圧着する工程、ダイアタッチフィルムを介して接着されたチップより粘着テープ（Ａ）を剥離する工程からなる半導体装置の組み立て方法を提供する。 （もっと読む）

金属箔上にポリイミド系樹脂が形成された積層体において、ポリイミド系樹脂が、雰囲気温度３４０〜３６０℃のオーブン中にて５〜１０分加熱したとき、ポリイミド系樹脂中及び／またはポリイミド系樹脂と金属箔の界面に１００μｍ以上の剥がれが発生しないものであり、３２℃における湿度膨張係数が１〜２０ｐｐｍ／％ＲＨであり、且つ８０℃、５０ｗｔ％水酸化カリウム水溶液によるエッチング速度の平均値が１．０μｍ／ｍｉｎ以上であるポリイミド金属積層体である。本発明により、耐熱性が良好で、寸法安定性に優れる、アルカリ溶液によるエッチンダ加工が可能な、ポリイミド金属積層体を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】
ディスプレイの発光を妨げずに、外光の透過を極力低減することによって、ディスプレイとして優れたコントラスト、特に「明所におけるコントラスト向上」を実現し、視認性に優れたディスプレイを提供することにある。
【解決手段】
光学フィルタに含有させた機能性色素を用いて、ディスプレイから発せられる光の光線透過率を１００とした場合に、３波長形蛍光管、および／または、標準光源Ａの光線透過率をそれぞれ９６、９８．５以下に制御し、かつ、フィルタ表面における可視光線反射率を制御することによって、優れたコントラストを有するディスプレイを提供するとともに、色純度も向上したディスプレイを提供することが可能となる。 （もっと読む）