【課題】 アルミニウム粉末焼結板と繊維状炭素材料とを組み合わせた高熱伝導性複合材料において、素子搭載部を兼ねる素子冷却用熱拡散板として使用可能な機械的強度を確保する。優れた熱伝導性を維持しつつ、繊維状炭素材料の使用量を減らし、製造コストを下げる。
【解決手段】 純アルミニウム又はアルミニウム合金からなる板状母材２２の板厚方向中間部で、且つ板厚方向に直角な平面領域の一部分に、板状高熱伝導部２３を埋設する。板状高熱伝導部２３は、アルミニウム粉末の焼結体層と、繊維状炭素材料がシート表面に平行な特定の一方向に配向した繊維配向シートとの積層体である。板状高熱伝導部２３となる焼結前の積層体のアルミニウム粉末層部分にバインダーを使用した粉末シートを用い、板状母材２２となる焼結前のアルミニウム粉末層の最上層にアルミニウムの板状バルク体を使用して焼結を行う。 （もっと読む）

【課題】無線ネットワークを介してクライアント機器に結合されたホスト機器を提供する。
【解決手段】ホスト機器は、クライアント機器に要求パケットを送るＲＦ（高周波）ユニットを備え、ＲＦユニットは、前記要求パケットを送った時刻から、所定のタイムアウト時間が経過する前に、要求パケットに対応する応答パケットがクライアント機器から受け取られない場合には、クライアント機器に前記応答パケットの送信を禁止するパケットを送信する。 （もっと読む）

【課題】 複数個の無線中継機能付きの無線センサ端末を用いたマルチホップによる無線センサネットワークシステムにおいて、移動ノードの周囲に存在する固定ノードの分布密度の影響を受けることなく、移動ノードの現存エリアを高精度に検出する。
【解決手段】 複数個の無線センサ端末が、固定設置される固定ノードＡ〜Ｄと、移動体に搭載される移動ノードＴとの組合せからなる。固定ノードＡ〜Ｄは移動ノードＴからの信号を受信した後に受信確認信号Ａｃｋを送信する。一方、移動ノードＴは信号を送信した後に受信待機状態となり、受信待機状態中に受信した固定ノードＡ〜Ｄからの受信確認信号の個数から、移動ノードＴの周辺に存在する固定ノードの分布密度を検出し、分布密度が疎のときは送信出力を大きくし、分布密度が密のときは送信出力を小さくする。 （もっと読む）

【課題】 マルチホップによる無線センサネットワークの自動構築に使用される無線センサ端末において、送受信形式を設備コストが安価な非同期方式としつつ、同期方式と同等の高い正確性で受信を行う。消費電力の節減を図る。
【解決手段】 内蔵された無線中継のための送受信用の無線チップが所定時間間隔毎に間欠的に受信待機状態ＲＸとされる。データ送信時には、無線チップがそのデータ信号の送信に先立って前記受信待機間隔より長い時間継続するプリアンブル信号を送信した後、これに続けてデータ信号を送信する。プリアンブル信号は継続期間中の各時点からデータ信号までの残時間情報を含む。受信待機状態ＲＸにおいて他の無線センサ端末から送信されたプリアンブル信号を受信したときは、受信時点での残時間情報に基づいてデータ信号が送信されるまで前記無線チップがオフ状態となり、残時間経過した時点で受信状態となってデータ信号を受信する。 （もっと読む）

【課題】マスク開口部が丸まった形状となっている場合であっても、高精度なエッチング形状が得られるエッチング方法などを提供する。
【解決手段】エッチングガスを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、シリコン基板が載置された基台にバイアス電位を与え、シリコン基板Ｋをエッチングするエッチング工程と、耐エッチング層形成ガスを処理チャンバ内に供給してプラズマ化し、シリコン基板に耐エッチング層を形成する耐エッチング層形成工程とを交互に繰り返して実施する前に、まず、最初の工程として、エッチングガスを処理チャンバ内に供給してプラズマ化し、シリコン基板をエッチングする工程であって、処理時間が繰り返しエッチング工程の処理時間よりも長く設定された初期工程bを実施し、この後、エッチング工程と耐エッチング層形成工程との繰り返し工程を実施するｃ，ｄ。 （もっと読む）

【課題】航空機脚１に対し、シミーダンパを後付け容易に構成する。
【解決手段】航空機脚１は、ストラットシリンダ２１と、ストラットピストン２２とを含んで構成されるショックストラット２と、ストラットシリンダ２１及びストラットピストン２２間の軸線Ｘ回りの相対回転は規制するトルクリンク４と、車輪３にシミーが発生したときに振動する所定の振動部材に対して取り付けられて、当該シミーを減衰させるダイナミックダンパ５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】穴や溝の底面中央部におけるエッチングを抑制して、底面形状を平坦に近づけることができるエッチング方法を提供する。
【解決手段】エッチングガスのみを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、シリコン基板Ｋが載置された基台にバイアス電位を与え、シリコン基板Ｋをエッチングするエッチング工程（図３（ａ），（ｄ）参照）と、耐エッチング層形成ガスのみを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、基台にバイアス電位を与え、シリコン基板Ｋに耐エッチング層を形成する耐エッチング層形成工程（図３（ｂ）参照）と、エッチングガスと、エッチングガスより少量の耐エッチング層形成ガスとを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、基台にバイアス電位を与え、シリコン基板Ｋに形成された耐エッチング層を除去する耐エッチング層除去工程（図３（ｃ）参照）とを順次繰り返して実施する。 （もっと読む）

【課題】基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｋを挟持して搬送する下ローラ２１，第１上ローラ２２及び第２上ローラ２３と、各ローラ２１，２２，２３を回転自在に保持するローラ保持機構３０と、搬送される基板Ｋの上面に向けて流体を吐出する流体吐出機構と、流体吐出機構に流体を供給する流体供給機構とを備える。ローラ保持機構３０は、基板Ｋの両外側で一定間隔を隔てて対向する、下ローラ２１の一端を回転自在に保持する第１架台３３及び下ローラ２１の他端を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第２架台３４と、第１架台３３に支持され、第１上ローラ２２を回転自在に保持する第１保持部材５０と、第２架台３４に支持され、第２上ローラ２３を回転自在に保持する第２保持部材５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】小型でＳ／Ｎ比のよい振動ジャイロを提供する。
【解決手段】振動ジャイロは、リング状振動体１１と、リング状振動体１１を柔軟に支持するレッグ部１５と、上層金属膜及び下層金属膜により圧電体膜を厚み方向に挟む複数の電極１３ａ〜１３ｄ及び固定電位電極１６とを備えている。複数の電極１３ａ〜１３ｄは、ｃｏｓＮθの振動モードでリング状振動体１１の一次振動を励起する、駆動電極１３ａと、駆動電極１３ａから（９０／Ｎ）°離れた角度に配置され、かつリング状振動体１１に角速度が与えられたときに発生する二次振動を検出する検出電極１３ｂと、駆動電極１３ａから（９０／Ｎ）°離れた角度あるいは検出電極１３ｂから（１８０／Ｎ）°離れた角度に配置され、検出電極１３ｂからの電圧信号に基づいてその二次振動を抑制する抑制電極１３ｄとを含み、電極１３ａ、１３ｂ、１３ｄは、リング状振動体１１の外周及び／又は内周に配置されている。 （もっと読む）

【課題】処理ガスや反応生成物が基板の外周側縁部の上側に滞留するのを防止したり、基台にバイアス電位を均一にかけることができるプラズマ処理装置などを提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、処理チャンバ１１と、処理チャンバ１１内に配設され、基板Ｋが載置される基台と、処理ガスを供給するガス供給装置と、供給された処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成装置４０と、基台の電極１７に高周波電圧を印加する高周波電源４５と、環状且つ板状に形成され、基台上に載置された基板Ｋの外周側縁部上面を内周側縁部により覆う保護部材２５と、基台を駆動して、基台上の基板Ｋが保護部材２５により覆われる保護位置と覆われない退避位置との間で昇降させる駆動装置２３とを備えており、保護部材２５は、基台が保護位置に移動したときに、基板Ｋの上面から保護部材２５の上面までの高さが１ｍｍ以上５ｍｍ以下となる板厚に形成される。 （もっと読む）