【課題】高濃度オゾン水を用いたフォトレジスト除去装置において、基板表面の洗浄領域へのフォトレジストとオゾンの反応生成物の再付着を防止する。
【解決手段】洗浄対象の基板を支持して回転する支持台と、支持台の上方に、注水口を下方に向けて配設された洗浄ノズルと、洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置とを備えたフォトレジスト除去装置において、洗浄ノズルを、基板の回転中心からそれぞれ所定の距離をおいて配置された複数の単位洗浄ノズルで構成し、各単位洗浄ノズルを、各単位洗浄ノズルから吐出された高濃度オゾン水の基板上における流れの方向の重なりが少なくなるように基板の周方向にずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に残存する不要なフォトレジストを、均一に除去するフォトレジスト除去装置を提供する。
【解決手段】
洗浄対象の基板を支持して回転する支持台と、支持台の上方に、注水口を下方に向けて配設された洗浄ノズルと、洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置とを備えたフォトレジスト除去装置において、洗浄ノズルを、基板の半径方向に所定の間隔で配置された複数の単位洗浄ノズルから構成する。
基板の単位面積あたり供給されるオゾン量が均一化される。 （もっと読む）

【課題】枚葉式洗浄装置に断続的にオゾン水の供給を繰り返しても安定した濃度のオゾン水を供給可能で、送水ポンプが不要なオゾン水供給装置を提供する。
【解決手段】オゾン水と少なくとも大気圧以上の一定圧のオゾンガスが供給される計量槽と、計量槽の内圧が一定の圧力を超えたときオゾンガスを放出して計量槽の内圧をオゾンガス供給圧より低い一定圧に保つオゾンガス放出手段と、計量槽からオゾン水を供給するオゾン水供給給配管とを有する。 （もっと読む）

【課題】電気脱イオン装置を熱水殺菌処理して純水を製造する場合においても、電気脱イオン装置の寿命を長く、かつ電気脱イオン処理を効率的に行うことができる純水製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】陰極と陽極との間に、複数のアニオン交換膜とカチオン交換膜とを配列して脱塩室６３と濃縮室６２とを形成してなる電気脱イオン装置６を有する純水製造装置において、電気脱イオン装置６が、脱塩室６３と濃縮室６２との間の圧力差を調整することができる第１の圧力調整バルブ６６及び第２の圧力調整バルブ６７を有する純水製造装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の混入した使用済みの研磨用スラリーを再利用し、排液処理の問題を解消すること。
【解決手段】砥粒、溶媒、添加剤にて構成されている研磨用スラリー成分と、研磨をすることにより研磨用スラリーに元来入っていなかった、液体、研磨対象物、パッド、ドレッサーなどの異物成分とを、選択的に分離除去する工程とを具備する方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度のオゾン水を、安定して製造でき、製造装置内の部材、特に、ポンプの寿命も長くして、オゾン水の製造を効率よく行うことができるオゾン水の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】純水を純水配管２に流通させる純水供給手段３と、オゾンガスをオゾンガス配管４に流通させるオゾンガス供給手段５と、純水配管２及びオゾンガス配管４に接続され、純水とオゾンガスとを混合してオゾン混合水とするエゼクタ６と、エゼクタ６が吸引側に配設され、オゾン混合水を吸引、吐出して撹拌する、ダイヤフラムポンプ又はベローズポンプからなるポンプ７と、ポンプ７から吐出されたオゾン混合水の一部又は全部を、純水配管２に循環が可能なように設けられたバイパス流路８と、を有するオゾン水の製造装置１。 （もっと読む）

【課題】金属分析をケイ素成分に邪魔されることなく、より簡便で安全に、そして金属濃度を正確に測定することができることを可能とする金属分析の前処理方法を提供する。
【解決手段】ケイ素成分を含むアルカリ溶液が収容されるアルカリ溶液槽５０からサンプリングしたアルカリ溶液に酸を添加するｐＨ調整手段２と、ｐＨ調整手段２によりｐＨ調整された溶液をキレート樹脂又はキレート繊維に接触させて溶液中から金属を除去することができる固相抽出手段３と、金属を捕捉した固相抽出手段３にアルカリ洗浄液を供給してキレート樹脂又はキレート繊維を洗浄するアルカリ洗浄手段４と、アルカリ洗浄したキレート樹脂又はキレート繊維に溶出剤を供給して、固相から金属を溶出させる金属溶出手段５と、を有する金属分析の前処理装置１及びそれを用いた前処理方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコンインゴット加工による排水から再利用可能なろ過水を得て、さらに、ろ過における濃縮水側からはシリコンスラッジを効率良く回収することができる処理装置を提供する。
【解決手段】シリコンインゴット加工により排出されるシリコン微粒子を含む排水をろ過する中空糸型のろ過手段３と、ろ過手段３の濃縮水を収容する濃縮水槽４と、濃縮水をシリコン微粒子と脱離水とに分離する遠心分離手段５と、遠心分離手段から排出される脱離水を濃縮水槽４に循環させる循環手段６と、を有するシリコン含有排水の処理装置１。 （もっと読む）

【課題】発生するオゾン水濃度が常に高濃度で安定であり、且つエネルギーコストを安価にすることが可能である。
【解決手段】循環ポンプ４にてオゾン水１を循環させ、その途中にオゾンガス７、及び純水３を注入する循環式オゾン水生成であり、排オゾンガス１１、及び純水３をオゾンガス接触機構１０に供給し、オゾンガス接触機構１０を介して供給オゾン水１１となって循環するオゾン水１に供給することで、オゾン水濃度が安定し、オゾンガス生成を抑制することが可能になった。 （もっと読む）

【課題】レジスト洗浄処理や再生処理後の各種レジスト由来成分を含む炭酸エチレン等のレジスト洗浄剤において、誘導結合プラズマ質量分析装置等の一般的な分析装置を用いて、簡便な前処理、試料調製により精度よく金属定量を行なう方法を提供する。
【解決手段】レジスト成分を含有する、カルボニル基を有し酸素原子を環の構成原子として有してもよい４〜７員の飽和環式化合物の少なくとも１種を含むレジスト洗浄剤中の金属の定量方法であって、前記レジスト洗浄剤を酸性水溶液で希釈する希釈工程と、前記希釈工程で得られた溶液を逆相型固相抽出剤および／または活性炭固相抽出剤と接触させる固相抽出剤接触工程と、前記固相抽出剤接触工程で得られた逆相型固相抽出剤および／または活性炭固相抽出剤と接触させた後の溶液について金属を定量する金属定量工程と、を含むことを特徴とするレジスト洗浄剤中の金属定量方法。 （もっと読む）