【課題】光学膜の成膜に好適なスパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】デュアルマグネトロンターゲットを構成する一対のターゲット１１ａ、１１ｂを備え、スパッタリングにより前記ターゲット材を基板１５上に堆積させるスパッタ成膜装置において、一対のターゲット１１ａ、１１ｂの両側に、ターゲット１１ａ、１１ｂと基板１５との間に位置するようにシールド１３ａ、１３ｂを配設するとともに、一対のターゲット１１ａ、１１ｂの中間に、ターゲット１１ａ、１１ｂと前記基板１５との間に位置するように中間シールド１４を配設し、シールド１３ａ、１３ｂ、中間シールド１４により、スパッタ粒子の基板１５への最大入射角度を所望の角度に設定する。 （もっと読む）

【課題】光学膜の成膜に好適なスパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２を真空槽３内に備え、基板搬送装置２の外側の真空槽３との間の空間に、バルク材料からなる回転円筒型マグネトロンスパッタリングにより超薄膜を基板１上に形成するスパッタ領域４、５、６と、反応性ガスにより前記超薄膜を所望の化合物超薄膜に変換する反応領域７と、アシスト領域８を設け、前記反応領域７は、該領域内の反応ガスを誘導結合によりプラズマ化するプラズマ発生手段を備え、前記プラズマ発生手段は、真空槽３の外側に設けられた高周波電源１１、コイル電極１２と、前記真空槽３の壁体に設けられた、基板搬送装置２の回転の周方向に所望の長さを有する誘導電磁界導入窓１３とを有し、基板１を前記スパッタ領域４、５、６からアシスト領域８および反応領域７に搬送して、この工程を繰り返して所望の化合物薄膜を基板１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、Ａｇ層の密着性を高めることができ、またＡｌ_２Ｏ_３層とＴｉＯ_２層間の白濁も防止でき、耐環境特性に優れた銀ミラーを提供することにある。
【解決手段】 本発明の銀ミラーは、基板１と、この基板１上に設けられた下部バッファ層２と、この下部バッファ層２上に設けられたＮｉ−Ｃｒ合金層からなる金属層３と、この金属層３上に設けられたＡｇ層４と、このＡｇ層４上に形成されたＡｌ_２Ｏ_３層５ａとＳｉＯ_２層５ｂとからなる上部バッファ層５と、この上部バッファ層５のＳｉＯ_２層５ｂ上に設けられたＴｉＯ_２層からなる増反射層６と、を有することを特徴とする。
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【課題】 本発明の目的は、簡単な回転で、被成膜体保持部材に装着した被成膜体を回転させることができるため、より多くの被成膜体を装着できて生産性の向上が図れ、成膜装置の大型化も防止できる成膜装置及び被成膜体表面への薄膜形成方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の成膜装置は、垂直方向に対して所定角度傾いた状態で回転し、かつその表面部に基端部６ａが円形の被成膜体６または被成膜体ホルダー３３が装着される円盤状の被成膜体保持部材５を有していて、被成膜体保持部材５は、被成膜体６または被成膜体ホルダー３３の基端部６ａを保持し、かつ基端部６ａの外径より大きい内径を有する円形の基端保持部３０を有していて、被成膜体６または被成膜体ホルダー３３が、自重と前記被成膜体保持部材５の回転とにより基端保持部３０の円形内面に自身の円形の基端部６ａを内接させながら自転するようになっていることを特徴とする。
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【課題】 本発明の目的は、膜厚測定装置の光照射光学系や受光光学系を構成する各光ファイバ装置において、サイズの大きな反射ミラー式照射、受光光学系も必要とせず、従来よりも広い波長帯域で高精度で膜厚の測定が可能な膜厚測定装置及び薄膜形成装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の膜厚測定装置は、薄膜に光を照射する光照射光学系６と、光照射光学系６を介して照射された光が薄膜を透過して生じた信号光を受光する受光光学系４と、受光光学系４を介して導かれた信号光を処理して薄膜の膜厚を算出する信号処理装置３とを有する膜厚測定装置において、光照射光学系６及び受光光学系４は各々中空光ファイバ４１ｂを有し、光照射光学系６の中空光ファイバ４１ｂを介して薄膜に光を照射し、かつこの光が薄膜を透過して生じた信号光を受光光学系４の中空光ファイバ４１ｂを介して信号処理装置３に導くことを特徴とする。
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