【課題】渦巻き状の軌跡を描いて塗布するスキャン塗布法を比較的大きな基板上に適用する場合に、塗布ムラを最小限に抑えながら塗布時間を短縮する。
【課題を解決するための手段】
基板を載置して回転するステージと、前記ステージ上を前記ステージの周縁部からその回転中心に向かって移動するスイングアームと、前記スイングアームの移動中に加圧気体の圧力によって前記スイングアーム上に設けられ塗布液を基板上に吐出する複数の供給ノズルとを備え、前記加圧気体の圧力を変化させながら塗布する圧力変更手段を備える。 （もっと読む）

【課題】多階調フォトマスクにおけるハーフトーン部の欠陥を事後的に除去する。
【課題を解決するための手段】
透明基板の上に少なくとも遮光膜のパターンと修正半透過膜のパターンとを形成し、前記遮光膜のパターンと前記修正半透過膜のパターンのオーバーラップ部が、半透過膜が遮光膜を覆うように形成する。そのオーバーラップ部の余剰部分ｄが露光装置の解像限界以下の大きさであるように構成する。本発明に係る多階調フォトマスクは露光装置の解像限界以下の余剰部など、本来の設計パターンとは異なる修正半透過膜パターンが形成されているが、露光装置の解像限界以下の大きさであるため露光パターンには全く影響しない。 （もっと読む）

【課題】修正半透過膜の波長依存性を考慮した最適な透過率を設定する具体的な方法を提供する。
【課題を解決するための手段】多階調フォトマスクに使用される複数の露光波長を含む露光光源に対し、未修正半透過膜と修正半透過膜のそれぞれについて各波長のスペクトル強度比で加重平均した透過率の値が等しくなるように、修正半透過膜の膜厚を制御する。修正半透過膜の堆積には、光ＣＶＤ法などの膜厚を制御しながら局所的に堆積できる気相堆積法を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを確実に認識でき、かつ製造工程を簡素化できる新規な多階調フォトマスクを提供する。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る多階調フォトマスクは、アライメントマーク形成領域となるアライメントマーク部（Ｉ）とデバイス形成領域となるデバイスパターン部（ＩＩ）とで構成された多階調フォトマスク（２０）であって、前記アライメントマーク部（Ｉ）は、透明基板上（１）に半透過膜（２）とエッチングストッパー膜（３）と遮光膜（４）とがこの順序に積層されて最上層に前記遮光膜（４）が露出した相対的に反射率の高い部分と、前記透明基板上に前記半透過膜が積層されて最上層に前記半透過膜（２）が露出した相対的に反射率の低い部分とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】気泡の混入や異物の付着を防止してフォトマスクの表面に連続して滑らかなエッジを有する保護膜を形成する。
【解決手段】露光光を遮光するパターン部１１と露光光を透過する非パターン部とで構成された透明基板１０の表面に紫外線を透過する保護膜１２を具備する紫外線露光用フォトマスクであって、前記保護膜はスパッタリング法、蒸着法、物理気相成長法、化学気相成長法その他の乾式の成膜処理法によって堆積されることによって前記パターン部におけるパターンエッジ部が連続した滑らかな保護膜によって保護されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】中間調フォトマスクの形成時にアライメントマークを確実に認識できるようにする。
【解決手段】
透明基板の最表面に相対的に反射率の高い遮光膜が露出したマスクブランクスを準備して、マークパターン部に相対的に反射率の高い遮光膜４を含むアライメントマークパターン２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄを形成すると共に、前記デバイスパターン部に第１のデバイスパターンを形成し、前記マークパターン部を遮蔽しつつ前記デバイスパターン部の表面に、相対的に反射率の低い半透過膜５を形成する工程と、前記アライメントマークパターンによってアライメントをとりつつ前記第２のレジスト膜に対して第２のレジストパターンを形成する工程と、前記第２のレジストパターンをマスクとして前記半透過膜及び前記遮光膜を一括してエッチングすることにより、前記デバイスパターン部に第２のデバイスパターン６を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。
【課題を解決するための手段】
最終的に得られるマスクパターンの形状において、高い精度が要求される重要な箇所と、比較的誤差が許容できる箇所とを区別し、前者を優先するようにマスクパターンの描画データを設計する。具体的には、
（１）透明基板の表面全体を第１の膜が覆うフォトマスクブランクスを必須パターンデータで描画して第１層目の膜をパターニングする工程と、
（２）パターニングされた前記第１の膜を覆う第２の膜を形成する工程と、
（３）前記第２の膜を冗長パターンデータで描画して第２層目の膜をパターニングする工程と、
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ハーフトーンマスクにおいて、ハーフトーンマスクの半透過膜に発生した白欠陥を修正するための修正膜を形成する。
【課題を解決するための手段】
半透過膜からなるハーフトーン部２に白欠陥を含むハーフトーンマスク１に修正膜４を付加する欠陥修正方法である。前記白欠陥の内側に半透過膜の修正膜４を堆積する。修正膜がはみ出して重複部分４ｂが形成された場合は修正膜の周縁部に露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリット５を設ける。 （もっと読む）

【課題】
大型マスクケースを簡易にかつ短時間に梱包することができると共に、繰り返し使用することができ、しかも清浄度が十分に高いマスクケースの梱包材を提供する。
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本発明に係るマスクケースの梱包材は、マスクケースを被覆するための梱包材であって、前記梱包材は、低い発塵性と高い防塵性を有する生地により構成されていることを特徴とする。低い発塵性と高い防塵性を有する生地は、具体的には、所定の防塵性を備えた不織布などが考えられ、例えばクリーンルームで使用される防塵衣と同一素材を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】内部に気泡その他の異物を含むフォトマスク用ガラス基板であっても露光後にパターン欠陥が発生しないようなフォトマスクを提供することを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】本発明に係るフォトマスクは、気泡その他の異物（１１）を内包するフォトマスク用ガラス基板（１０）からなり、前記気泡が存在する位置に対応する入射面（１２）近傍に、レンズ（１４）を具備することを特徴とする。これにより、気泡がガラス基板の表面のごく近傍に存在する場合を除き、光線が気泡を通過しないようにすることができる。 （もっと読む）