【課題】熱変形を抑制できるマスク基板を提供する。
【解決手段】マスク基板は、マスクパターンが形成される石英ガラスを主成分とする。マスク基板は、２０℃以上１００℃以下における熱膨張係数をＣ、波長３６５ｎｍの光に対する透過率をＴ、Ａｌ濃度が０．１〔ｗｔ・ｐｐｍ〕以下、Ｃｕ濃度が０．０５〔ｗｔ・ｐｐｍ〕以下、Ｆｅ濃度が０．１〔ｗｔ・ｐｐｍ〕以下、Ｎａ濃度が０．０５〔ｗｔ・ｐｐｍ〕以下、及びＫ濃度が０．０５〔ｗｔ・ｐｐｍ〕以下である石英ガラスの熱膨張係数をＣ_０としたとき、Ｃ ≦ ０．６Ｃ_０、且つ、Ｔ ≧ ０．９、の条件を満足する。 （もっと読む）

【課題】半透光部における半透光膜の膜厚を一定にすると共に半透光膜と遮光膜との境界部における階調の変化を急峻にする。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る多階調フォトマスクは、露光装置から露光光Ｉを照射することにより、レジスト膜を形成した露光対象基板３０上にレジストパターンを形成するために用いられる。この多階調フォトマスク１は、透明基板１０上に露光光Ｉを遮断する遮光部Ａと露光光を透過する透光部Ｂと露光光の一部を透過する半透光部Ｂとを含み、半透光部Ｂの一部（特に、遮光部Ａと半透光部Ｂとの境界部）に透明基板が露出した透過部２０が設けられてなる。 （もっと読む）

【課題】パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。
【解決手段】ストライプパターンＬ１のＸ方向の長さは、ストライプパターンＬ２のＸ方向の長さよりも大きい。この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（照準移動領域）ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、レーザ光を出射するヘッド部の移動速度が相対的に低く設定される。照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部の移動速度が相対的に高く設定される。 （もっと読む）

【課題】多階調フォトマスクの修正工程において、修正半透光膜の形成時に生じ
うる透過率の異常部の発生を必要な範囲で防止する。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る多階調フォトマスク１０は、透明基板上に透光部と、遮光部と半透光
部とが設けられている。このうち、半透光部は半透光膜のパターン４ａにより形成され
る。この半透光膜は、相対的にエネルギー密度の異なる少なくとも２以上の条件でレ
ーザーザッピングが行われており、低エネルギー照射部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多階調フォトマスクの修正工程において、修正半透光膜の形成時に生じる膜厚の異常すなわち透過率の異常の発生を必要な範囲で防止し正常な転写が可能な多階調フォトマスクを作製する。
【解決手段】多階調フォトマスクは、透明基板上に透光部と、遮光部と半透光部とによって構成されるものであり、このうちパターンは、遮光部においては遮光膜パターン２ａにより形成され、半透光部においては半透光膜パターン４ａにより形成される。半透光膜パターン４ａは、透光部との境界領域の少なくとも一部に、スリット部Ｓを有する。 （もっと読む）

【課題】多階調フォトマスクの修正工程において、修正半透光膜の形成時に生じる膜厚の異常、従って透過率の異常の発生を必要な範囲で防止し正常な転写が可能な多階調フォトマスクを作製する。
【解決手段】多階調フォトマスクは、透明基板上に透光部と、遮光部と半透光部とが設けられているものであり、このうち、パターンは遮光部においては遮光膜のパターン２ａにより形成され、半透光部においては半透光膜のパターン４ａにより形成されるものである。半透光膜のパターン４ａは、透光部との境界領域の少なくとも一部において、透光部との境界に近くなるほど透過率が高くなるように構成されたグラデーション部Ｇを有するもので修正工程において異常を生じさせない。 （もっと読む）

【課題】塗布ムラを最小限に抑えながら塗布時間を短縮する塗布膜形成装置を提供する。
【課題を解決するための手段】基板Ｓを載置して回転する円盤状のステージ１０の上部に塗布液を吐出するための供給ノズル１２と、供給ノズルを移動させるためのアーム（第１のアーム１３及び第２のアーム１４）を有している。供給ノズル１２は複数でかつ所定の間隔で一列に配置され、固定部材２０に固定されているとともに、加圧気体の圧力によって塗布液を前記基板上に吐出する。第１及び第２のアーム１３，１４は、ステージ１０上に直角をなすように配置されたレール状の摺動部材であり、１本の第２のアーム１４が２本の第１のアーム１３上を平行に摺動可能であるとともに、固定部材２０が第２のアーム１４上を摺動可能であるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】トップハーフ型の多階調フォトマスクにおける遮光膜及び半透光膜の形状精度を高め、かつ膜構成を簡単にする。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る多階調フォトマスク２７は、透明基板２１上に形成され、露光光の一部を透過させる半透光部Ａ、露光光の全部を遮光する遮光部Ｂと、露光光の全部を透過させる透光部Ｃとを含んでいる。そして、遮光部Ｂは、少なくとも２層の遮光膜のパターン２３ａ，２４ａが上下に積層された積層構造による遮光膜のパターンを有している。上層遮光膜のパターン２４ａの材質は、チタン又はチタンを含む金属で構成されると共に、下層遮光膜のパターン２３ａの材質は、鉄又は鉄を含む金属で構成され、透明基板２１の一部及び上層遮光膜２４のパターンの表面に半透光膜のパターン２２ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】ボトムハーフ型の多階調フォトマスクにおける遮光膜及び半透光膜の形状精度を高め、かつ膜構成を簡単にする。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る多階調フォトマスクは、透明基板１１上に形成され、露光光の全部を透過させる透光部Ｃと、露光光の全部を遮光する遮光部Ｂと、露光光の一部を透過させる半透光部Ａとを含んでいる。そして、遮光部Ｂは、前記半透光膜の上層に設けられ、少なくとも２層の遮光膜が上下に積層された積層構造による遮光膜のパターン１３ａ、１４ａを有している。上層遮光膜のパターン１４ａは、チタン又はチタンを含む金属で構成され、下層遮光膜のパターン１３ａは、鉄又は鉄を含む金属で構成される。また、透明基板１１と下層遮光膜１３ａとの間には半透光膜のパターン１２ａが設けられ、半透光膜のパターン１２ａと下層遮光膜のパターン１３ａとは、他の層を介することなく接している部分を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】渦巻き状の軌跡を描いて塗布するスキャン塗布法を比較的大きな基板上に適用する場合に、塗布ムラを最小限に抑えながら塗布時間を短縮する。
【課題を解決するための手段】
ステージ１０は基板Ｓを載置して水平回転し、アーム１１はステージ上を弧を描きながら基板Ｓの周縁部からステージの回転中心Ｐに向かって移動する。アーム上には加圧気体の圧力によって塗布液を前記基板上に吐出する複数の供給ノズル１２が設けられ、加圧気体の圧力を変化させる圧力可変手段を有している。更に、供給ノズルを固定するための固定部材２０は回転機構２１により水平回転することができる。供給ノズルは、所定の間隔ずつ離間して直線状に配置して固定部材に固定されていると共に、供給ノズルから基板上に吐出される塗布液の間隔が、制御手段２２によってステージの回転中心Ｐに近づくにつれて狭くなるように固定部材の回転角度が制御される。 （もっと読む）