【課題】試験装置のハードウェア仕様および試験装置用のプログラム言語に詳しくないユーザでも、試験パターンを容易に作成させる装置を提供する。
【解決手段】複数の端子を有する被試験デバイスとの間で通信する試験パターンを生成する試験パターン生成装置であって、基本サイクル中に複数の端子のそれぞれとの間で通信する信号パターンを示すサイクルプリミティブをユーザの指示に基づき生成するプリミティブ生成部と、ユーザの指示に基づき複数のサイクルプリミティブを配列して、複数の基本サイクル分の信号パターンを示すデバイスサイクルを生成するデバイスサイクル生成部と、ユーザの指示に基づき複数のデバイスサイクルを配列して、被試験デバイスに供給する試験パターンのシーケンスを生成するシーケンス生成部と、を備える試験パターン生成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】試験装置のハードウェア仕様および試験装置用のプログラム言語に詳しくないユーザでも、試験プログラムを容易に作成させる装置を提供する。
【解決手段】被試験デバイスの試験モジュールを生成する試験モジュール生成装置であって、試験条件を入力し、入力された前記試験条件を定義する条件ファイルを生成する条件ファイル生成部と、試験メソッドを記憶する試験メソッド記憶部と、生成すべき試験モジュールに応じた試験メソッドの選択指示をユーザから受け取る試験手順選択部と、選択された試験メソッドが要求するパラメータに対応する条件ファイルの選択指示をユーザから受け取る条件ファイル選択部と、選択された試験メソッドに応じた試験を選択された条件ファイルにより定義されたパラメータで実行する試験モジュールを生成する試験モジュール生成部と、を備える試験モジュール生成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】滑沢剤の展延状態を正確に測定する。
【解決手段】滑沢剤の展延解析装置１は、錠剤を構成する粒子（賦形剤：ラクトース）および滑沢剤が混合されている被測定物２における滑沢剤の展延状態を判定する。滑沢剤の展延解析装置１は、20GHz以上500THz以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器１２と、電磁波を全反射する全反射面１４ａを有し、全反射面１４ａから生じるエバネッセント波を被測定物２が受ける光学素子１４と、全反射面１４ａにより全反射された電磁波を検出する電磁波検出器１８と、展延判定装置２０とを備える。展延判定装置２０は、所定の周波数領域の部分における、全反射面１４ａの反射率の、混合時間の経過に対する変化に基づき、滑沢剤の展延状態を判定する。なお、粒子の所定の周波数領域における電磁波の吸収率が、粒子の所定の周波数領域以外の周波数領域における電磁波の吸収率と比べて高い。 （もっと読む）

【課題】電力信号を広いダイナミックレンジで制御する。
【解決手段】共振アンテナ３０は、直列に設けられた、電力信号Ｓ１を送出するための送信コイルＬ_Ｔおよび共振用キャパシタＣ_Ｔを含む。直流電源３２は、第１電源ラインＬＶＤＤと第２電源ラインＬＶＳＳの間に直流電圧ＶＤＣを印加する。Ｈブリッジ回路３４は、第１電源ラインＬＶＤＤと第２電源ラインＬＶＳＳの間に設けられる。制御部３６は、第１スイッチＳＷ１と第２スイッチＳＷ２のペアを、送信周波数ｆ_ＴＸにてスイッチングする。また第３スイッチＳＷ３と第４スイッチＳＷ４のペアを、送信周波数ｆ_ＴＸにてスイッチングする。制御部３６は、送信すべき電力信号Ｓ１の強度に応じて、位相差Δφを調節する。 （もっと読む）

【課題】コンタクト不良の発生を抑制しつつ端子の位置精度を確保することが可能な試験用キャリアを提供する。
【解決手段】試験用キャリア１０は、ダイ９０の電極パッド９１に接触するバンプ４３を有するベースフィルム４０と、ベースフィルム４０に重ねられ、ダイ９０を覆うカバーフィルム７０と、ベースフィルム４０とカバーフィルム７０との間に介装され、ダイ９０の周囲に配置されたスペーサ４５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図ることが可能な試験用キャリアを提供する。
【解決手段】試験用キャリア１０は、ダイ９０を保持するベースフィルム４０と、ベースフィルム４０に重ねられてダイ９０を覆うフィルム状のカバーフィルム７０と、を備えており、カバーフィルム７０は自己粘着性を有すると共にベースフィルム４０よりも柔軟となっている。 （もっと読む）

【課題】コンタクト不良の発生を抑制しつつ端子の位置精度を確保することが可能な試験用キャリアを提供する。
【解決手段】試験用キャリア１０は、ダイ９０の電極パッド９１にそれぞれ接触する複数のバンプ４３を有するフィルム状のベースフィルム４０と、ベースフィルム４０に重ねられて、ダイ９０を覆うカバーフィルム７０と、を備えており、複数のバンプ４３は、第１のバンプ４３ａと、第１のバンプ４３ａよりも相対的に高い第２のバンプ４３ｂと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】より少ない作業工数でウエハ面内の半導体装置の特性のばらつきを抑制できる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを照射してパターンの露光を行う電子ビーム露光装置を用いた半導体装置の製造方法であって、ウエハ上に前記電子ビーム露光装置によるパターン形成を含む加工を行い（ステップＳ１１〜Ｓ１３）、それによって製造された半導体装置の電気特性を半導体試験装置で測定する（ステップＳ１４）。そして、電気特性の測定結果に基づいて、ウエハ面内での半導体装置の特性のばらつきが減少するように、電子ビーム露光装置に用いる電子ビーム露光データを修正する（ステップＳ１５）。 （もっと読む）

【課題】出力信号の応答特性および消費電流を一定にする。
【解決手段】入力信号の論理に応じた電圧の出力信号を出力するドライバ回路であって、定電圧のバイアス電圧を発生する定電圧発生部と、内部に流れる定電流の電流値に応じて出力信号の振幅が定まり、バイアス電圧の電圧値に応じて出力信号の電位が定まり、入力信号の論理に応じた電圧の出力信号を出力する電流モードロジック回路と、定電圧発生部におけるバイアス電圧の出力端から、設定された電流値の定電流を流し出す調整用定電流源と、電流モードロジック回路内に流れる定電流の電流値に応じて、調整用定電流源に流す定電流の電流値を予め設定する電流設定部とを備えるドライバ回路を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を精度よく測定できるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供する。
【解決手段】試料の設計データ３０を参照して、設計データ３０上のパターンのエッジの段差がない部分に測定領域３５を設定するとともに、その設計データ３０から特徴部としてエッジ３６ｃ、３６ｄを検出する。また、二次電子像４０から、設計データ３０の特徴部に対応する特徴部としてエッジ４６ｃ、４６ｄを検出する。そして、設計データ３０のエッジ３６ｃ、３６ｄと、二次電子像のエッジ４６ｃ、４６ｄとの位置関係に基づいて測定領域３５を二次電子像４０上に位置合わせして配置する。このようにして配置された測定領域４５内のエッジ間の距離に基づいてパターンの幅を測定する。 （もっと読む）