【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】大面積の基材に対してインプリント可能な装置を提供する。
【解決手段】パターニングされるべき基材２０に対してミクロ又はナノメートルサイズのパターンを転写するために２つの回転可能に取り付けたローラを備える。第１のローラ１０はパターニングされた周面を有しており、このパターン周面は、当該パターン周面を変形可能な基材と接触させることにより第１のローラから基材にパターンを転写する。第２のローラ３０は、第１のローラのパターン周面と対向する円滑な周面を有している。また、第２のローラは、第１と第２のローラを同期回転させるために第１のローラと回転可能に結合される。基材は、これらのローラが互いに対して回転するときにパターン周面が基材と接触し、それにより、このパターンがパターン周面から基材へと転写されるように、第１及び第２のローラ間で移動することができる。 （もっと読む）

【課題】スタンプや基板のダメージがなく忠実性の高いインプリントシステムを提供する。
【解決手段】テンプレート（１）からパターンを基板の目標表面に転送するための二工程処理を実行するための装置であって、第一インプリントユニット（２００）内のテンプレートでのインプリントにより、例えば、可塑性ポリマーフォイル（１０）から中間ディスクを形成することにより動作する。供給装置（４１０）が中間スタンプを第二インプリントユニット（３００）へ供給するように動作され、第二インプリントユニットで中間スタンプが基板の目標表面でのインプリントに用いられる。 （もっと読む）

【課題】インプリント製法でテンプレートから物体にパターンを転写するための、２工程製法を使用する方法を提供する。
【解決手段】第一工程では、テンプレート１表面のパターン２を、一種以上の環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）を含んでなる重合体材料３と接触させ、テンプレート１表面のパターン２と逆の構造化された表面を有する可撓性重合体レプリカを製造する。第二工程で、可撓性重合体レプリカをテンプレートから引き離した後、可撓性重合体レプリカの逆パターンを、基材上のレジスト層１４中にプレスし、テンプレート表面のパターンのレプリカをインプリントする。 （もっと読む）

【課題】インプリント工程において互いに加圧されたスタンプと基材のように、サンドイッチ構造により互いに付着されている２つの対象物を分離する分離装置および分離方法を提供する。
【解決手段】分離装置は、支持構造体（１）と、支持構造体に支持され、基準面（３）と、第１対象物（２８）を支持しかつ把持する第１把持手段とを有する第１固定手段（２）と、支持構造体に支持され、前記第１固定手段と対向する位置に設けられ、第２対象物（２７）を支持する第２把持手段を有する第２固定手段（６）と、支持構造体に支持され、２つの前記把持手段を互いに分離させるため、基準面（３）の垂線方向に対して所定の角度をなして引張力を生じさせる引張力機構（２５、２６）と、を備えている。好ましくは、前記第２対象物は周縁部において把持され、前記引張力は前記周縁部から内側方向へ傾斜している。 （もっと読む）

本発明は、一次ステップにおいて中間柔軟性ポリマースタンプ（５）をテンプレートから作成してから、二次ステップにおいて該ポリマースタンプを使用して目標表面上の放射感応性成形層にインプリントを作成することによって、テンプレート（１）から基板の目標表面にパターンを移動するための２ステッププロセスに関する。二次ステップにおいて、ポリマースタンプおよび基板を相互に押圧し、ポリマースタンプを介して成形層をＵＶ暴露し、放射成形層を事後焼成するプロセスステップはすべて、熱膨張効果によってもたらされる成形層に作成されたパターンへのダメージを排除するために、一定の制御温度で実行される。 （もっと読む）

第１の面１３、１４を有し、第１の面のパターンを、感光性被膜２２で覆われた第２の面２３を有する被転写体２０に、パターニングされた第１の面を被膜に接触させることによって、転写することに使用可能であるテンプレート１０であって、このテンプレートは、例えばニッケルのキャリヤベース１１を備え、第１の面においてキャリアベース上に導波路１４が配置される。導波路は、放射線入力において導入される光を中に導き、被膜のうちの部分２４にエバネッセント波を漏らすようになっている。テンプレートはまた、第１の面において上記導波路のうちの選択された部分の上に配置された非透過性シールド１５とともに、エバネッセント波が被膜に漏れることが可能な場所を定義するように働く。本発明はさらに、このテンプレートを使用する方法および装置、およびこのテンプレートの製造方法に関する。 （もっと読む）

物体（２４）上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために発明された、物体（２４）に対して抗付着性のある層（１６）を有する成形工具（１）の製造方法。スタンプブランク（２）は、表面（８）上に構造化されたパターン（４）を備える。パターン形成された表面（８）は、安定した酸化数を有し、機械的に安定した酸化物被膜を形成し得る金属層（６）により被覆されてなる。金属層（６）は、酸化されて酸化物被膜（１０）を形成する。前記酸化物被膜（１０）は、分子鎖（１８）を含んでなる試薬に露出され、各分子鎖は、化学結合により酸化物被膜（１０）に結合する結合基（２０）を有し、分子鎖（１８）は最初から少なくとも１個のフッ素含有基（２２）を含んでなるか、またはその後の工程で少なくとも１個のそのような基（２２）を付与されたものである。
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【課題】構造化された表面を有するテンプレートから放射線重合可能な表面層にパターンを転写するための装置および方法。
【解決手段】第１主要部（１０１）および第２主要部（１０２）と、主要部の間隔（１１５）を調節する手段と、上記テンプレートおよび上記基板を互いに平行に係合した状態で上記間隔内に支持するための支持手段、上記構造化された表面が、上記表面層に面する支持手段と、上記間隔内に放射線を放射するように工夫された放射線源（１１０）とを備える。空洞（１１５）は、可撓性膜（１１３）からなる第１の壁を有し、調節可能な超過圧力を上記空洞内に存在する媒体に加えるための手段（１１４；１１６）が、提供され、それによって、基板とテンプレートとの接触面全体にわたって、力の均一な分布が、得られる。さらに、装置は、流体層を加熱するために、上記間隔に面した表面を有するヒータ装置（２１）を含む。 （もっと読む）

本発明は、接着防止特性を有する新規な金属製の成形型に関し、該型は、ベース金属製成形型および接着防止層を含んでなり、該接着防止層は、リン原子およびアルキル鎖を包含する、フッ素化されたアルキルリン酸誘導体またはフッ素化されたアルキルポリ−リン酸誘導体を含んでなる。接着防止層は、ベース金属製成形型の表面に直接結合する。ベース成形型は、例えばニッケルでよく、フッ素化されたアルキルリン酸誘導体または該フッ素化されたアルキルポリ−リン酸誘導体は、リン原子がアルキル鎖に直接結合するように、ホスホン酸、ホスフィン酸、ホスホネートおよびホスホネート塩、ホスフィネートおよびホスフィネート塩、またはそれらのそれぞれのオリゴマーからなる群から選択することができる。
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