【課題】 電界放出型電子源の寿命を延長するために、拡散補給源であるジルコニアの容積あるいは、重量を増すと、拡散補給源自体やタングステン針にダメージを与えやすくなるという課題がある。更なる課題として、上記課題を避けるために拡散補給源を薄膜で形成することも考えられるが、８，０００時間を越える実用的な寿命を安定して得ることは困難である。
【解決手段】 拡散補給源の欠けや割れがなく、少量の拡散補給源の増量で寿命を延長可能な電界放出型電子源を提供し、８，０００時間を越える実用的な寿命を安定して得ることを明らかにした。 （もっと読む）

【課題】定期点検の結果や部品の使用頻度により自動分析装置の現在の状態をリアルタイムでユーザに画面で通知し、不要な部品交換や異常による自動分析装置のダウンタイムを防止する。
【解決手段】日々の運用から自動的に実施する必要のあるメンテナンス項目を抽出し、任意もしくは自動的にメンテナンスを実施する。日常の運用状況から必要なメンテナンス項目を抽出し、自動もしくは任意に分類されたリストを作成する。このリストを自動分析装置の起動時または終了時にユーザにアナウンスする。 （もっと読む）

【課題】ステージ動特性はステージの移動可能範囲に対するステージの絶対位置によって変化する。このような特性が障害となってステージの高速かつ高精度な位置決めを実現することは困難であった。
【解決手段】試料が載置されるステージと、現在のステージ位置を計測する位置計測器と、前記位置計測器によって計測された現在のステージ位置と移動目標のステージ位置とを用いて演算することで前記ステージの駆動量を求めるステージ制御演算部と、前記ステージ制御演算部で求められた駆動量に基づいて前記ステージを駆動するステージ駆動部と、を備え、前記ステージ制御演算部は、前記ステージの移動可能な領域に対する前記ステージの位置に応じて前記演算に用いるパラメータを制御する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネル表示基板製造でアライメントマークを検索するときに、アライメントマークのマスク領域を自動生成し、高精度にアライメントマークを検索できるようにする。
【解決手段】表示パネルとＴＡＢの各々に位置合わせをおこなうためのアライメントマークにより、アライメントマークを認識するときに、撮像画像よりアライメントマーク教示画像を切り出し、そのアライメントマークを認識して、アライメントマークのエッジ点を抽出する。そして、エッジ点に囲まれたエッジ範囲を算出し、アライメントマーク教示画像のエッジ範囲に含まれない領域を、マスク領域として算出し、算出されたマスク領域により、アライメントマーク教示マスク画像を生成し、アライメントマーク教示マスク画像によりマスクしたアライメントマークを認識する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハを保持する試料ステージ２４と、半導体ウェハに電子線を照射する電子光学系と、電子線の照射により得られる二次電子あるいは反射電子を検出する検出器１５，２３と、電子線の照射により半導体ウェハから発生するＸ線を検出する検出器３４，３５と、傾斜角度が可変のカラム１６とを備え、試料ステージ２４により、半導体ウェハのエッジの欠陥位置にカラム１６の撮像視野を移動し、カラム１６を傾斜させた状態で、半導体ウェハのエッジに電子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】表示パネル基板のソース辺とゲート側の辺を同時処理して、ＴＡＢやＣＯＦなどにより搭載部材を搭載するＦＰＤモジュール組立装置において、安定的、かつ、効率的に、様々な表示パネル基板のサイズに対応しうるようにする。
【解決手段】各工程において、ソース側の辺とゲート側の辺を同時に処理するときに、表示パネル基板の処理辺を同時に保持する機構として、ソース側の辺に、表示パネル基板の下面から吸着・保持するソース側のＩ型の保持部材と、ゲート側の辺に、表示パネル基板の下面から吸着・保持する一対のＬ型のゲート側の保持部材を設け、表示パネル基板に関するデータに基づき、一対のゲート側の保持部材の相対距離を変更する。 （もっと読む）

【課題】高輝度でエネルギー幅が狭く、安定した電子線を得ることが出来る荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 電界放射電子源、それに電界を印加する電極と、電界放射電子源のまわりの圧力を１×１０^−８Ｐａ以下に維持する真空排気部とを備え、放射させた電子線のうち、電子線中央の放射角１×１０^−２ｓｔｒ以内の電子線を用い、電子線の電流の時間に関する二階微分が負または０で、かつ電流の減少度合いが１時間当たり１０％以内となる電流を用いる構成を有する。さらに、電界放射電子源の加熱部と、電子線の電流の検出部とを備え、電界放射電子源を繰り返し加熱することで、放射される電子線の電流を所定の値以上に維持する。 （もっと読む）

【課題】計測対象が電子線照射によってシュリンクする場合であっても、パターン輪郭や寸法を高精度に求めることのできる計測方法を提供する。
【解決手段】下地の上にパターンが形成された試料に電子線を照射して計測する方法において、パターンのＳＥＭ画像や輪郭（Ｓ２０１、Ｓ２０２）、試料のパターン部および下地部の材料パラメータ（Ｓ２０３）（Ｓ２０４）、電子線を試料に照射する際のビーム条件（Ｓ２０５）を準備し、これらを用いて、電子線を照射する前のパターン形状、あるいは寸法を算出する（Ｓ２０６）。 （もっと読む）

【課題】 エミッタティップ先端の機械的振動振幅が小さく、超高分解能の試料観察像が得られ、かつ試料観察像にゆれなどをなくす荷電粒子線顕微鏡を提供する。
【解決手段】 イオンを生成するエミッタティップと、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウントと、該エミッタティップを加熱する機構と、エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極と、エミッタティップの近傍にガスを供給する機構と、を有するガス電界電離イオン源において、エミッタティップ加熱機構が、少なくとも２個の端子間を接続するフィラメントに通電して前記エミッタティップを加熱する機構であり、前記端子間がＶ字状のフィラメントで接続され、V字のなす角度が鈍角であり、前記フィラメントの略中央に前記エミッタティップが接続されたことを特徴とするガス電界電離イオン源を搭載する荷電粒子顕微鏡とする。 （もっと読む）

【課題】検出対象成分の流れ方向の拡がりが小さく、分析装置の分析精度を向上可能な流体混合器を実現する。
【解決手段】分岐前の流路１１５に流体が＋Ｘ軸方向に流れ、分岐流路１１６で＋Ｙ軸方向と−Ｙ軸方向の流れに分岐し、下流でＸ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｙ軸方向と−Ｙ軸方向に流れが曲がり、その下流で合流し−Ｘ軸方向に流れが曲がる。さらに、その下流で＋Ｚ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｘ軸方向に流れが曲がり、その下流で−Ｚ軸方向に流れが曲がり、その下流で＋Ｘ軸方向に流れが曲がる。流体混合器９２１内を流れる検出対象成分が流体混合器９２１内に滞留する時間は、流体混合器９２１の入口断面において検出対象成分が流入する場所によらず同等である。よって、流体混合器９２１の上流に対する流体混合器９２１の下流における検出対象成分の流れ方向の拡がりが小さくなる。 （もっと読む）