説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】
半導体ウェーハ上のパターン寸法を計測する方法において、ユーザは計測手法を選定する際に、任意のパターン形状を目視しただけではその適用可否を判断することは難しく、自動で計測手法を選択する場合は、測定対象のパターン形状に適した手法が選定されないことがある。
【解決手段】
電子線により撮像された半導体パターン像の寸法を計測する方法において、ユーザによりパターン上の計測対象部を指定し、パターン計測部から形状情報を抽出し、抽出した形状情報を基に予め作成しておいた計測手法ライブラリから適用可能な計測手法を選定し、選定された手法によりパターンの寸法の計測をし、計測された寸法を出力するようにした。 (もっと読む)


【課題】基板の第1の辺側の処理と第2の辺側の処理を交互に施すことにより、タクトのバランスを整えることができることを提供する。
【解決手段】本発明のFPDモジュール組立装置における処理ユニットは、基板10に処理を施す複数の処理部351,361と、処理を施した基板10を搬送する搬送部311,314,317を有する。一の処理部351は、基板10における第1の辺側の処理又は第2の辺側の処理のうちどちらか一方の処理を行い、処理が行われた基板10の次に搬送された基板10に対しては第1の辺側の処理又は第2の辺側の処理のうち先に処理が行われた基板10に対して行った辺の処理と異なる辺の処理を行う。また、他の処理部361は、一の処理部351において基板10に対して行われた辺の処理と異なる辺の処理を行う。 (もっと読む)


【課題】より良いS/N比で測定するためにはセル長を長くすることが良いことが分かったが、セル長を長くすると、長いセル中を進行する光の散乱について考慮しなければならない。本発明は、上記課題に鑑み、より良いS/N比で測定するための試料セル構造及び分光光度計を提供する。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、細管状に形成され内部を流体が通過するチューブと、チューブの外壁面の一部に接触した状態で該キャピラリチューブの周囲を覆う構造体を備えることを特徴とする試料セル及び当該試料セルを用いた分光光度計を提供する。 (もっと読む)


【課題】任意の放出角度の反射電子を検出することのできる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料からの電子を検出することによって像を得る走査電子顕微鏡において、試料19からの二次電子と反射電子とを弁別する制御電極18と、反射電子の衝突によって二次電子を発生させる二次電子変換電極13とその二次電子を引き上げる電極12と、引き上げられた二次電子と試料19からの反射電子を弁別するエネルギーフィルタ11と、二次電子変換電極13と引き上げ電極12とエネルギーフィルタ11への印加電圧の組み合わせを選択する制御演算手段36とを有する。 (もっと読む)


【課題】コンタミネーションの発生を抑制することができ、液状物質における気泡等の液面状態の検出具合の正確性を増大させることができる液面状態検出装置および自動分析装置、液面状態検出方法を提供する。
【解決手段】液状物質1010が収納された容器101および液状物質1010の液面に対して光を照射する光照射部102と、光照射部102が照射した容器101および液状物質1010からの光の色情報を少なくとも有する映像を取得する撮影部103と、撮影部103で撮影した映像の中の色情報を用いて液面の状態を検出する検出部104とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、組織メンバのコミュニケーション状態の改善する組織コミュニケーション表示システム及び処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数のセンサ端末と、前記センサ端末から送信されるデータを処理するサーバとを有する組織分析システムであって、前記複数のセンサ端末は、他のセンサ端末との対面データを取得する赤外線センサと、前記対面データを前記サーバに送信する無線処理部とを備え、前記サーバは、前記対面データに基づいて前記センサ端末を携帯するメンバ間のコミュニケーション状態を分析し、前記メンバのそれぞれに対応付けられる座席におけるコミュニケーション量を分析する分析処理部と、前記座席におけるコミュニケーション量を表示させる表示処理部とを備えることを特徴とする、組織分析システム。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低マイクロ波電力から高マイクロ波電力の広範囲において、安定的なプロセス領域を確保できるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明は、連続放電によるプラズマの生成が困難になる領域にて、プラズマの生成を容易にするとともに前記容易に発生させられたプラズマにより被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、オンとオフを繰り返すパルス放電により前記プラズマを容易に生成し、前記パルス放電を生成する高周波電力のオン期間の電力は、前記連続放電によるプラズマの生成が容易になる電力とし、前記パルス放電のデューティー比は、前記高周波電力の一周期あたりの平均電力が前記連続放電によるプラズマの生成が困難になる領域の電力となるように制御されることを特徴とするプラズマ処理方法である。 (もっと読む)


【課題】支え部材によってPCB及び搭載部材を傷つけないようにすることができるPCB接続装置及びFPDモジュール組立装置を提供する。
【解決手段】PCB接続装置70は、基板保持部94と、本圧着部76と、PCB支持部95とを備える。基板保持部94は表示基板101を保持し、本圧着部76は基板保持部94に保持された表示基板101に搭載されている搭載部材102にPCB103を接続する。PCB支持部95は、基板保持部94に設けられており、搭載部材102に接続されたPCB103を支える支え部材97と、支え部材を移動させる移動機構98とを有する。そして、移動機構98は、支え部材97がPCB103の下面に当接する支持位置と、支持位置の下方に設けられた待機位置との間で支え部材97を移動させる。 (もっと読む)


【課題】搭載部材の位置に合わせてACFを移動させ、搭載部材に正確にACFを貼り付けることを提供する。
【解決手段】ACF貼付装置は、撮像部216と、位置検出部と、制御部223と、ACFを切断する切断部と、ACF貼付部239と、を備える。位置検出部は、撮像部216により撮像された搭載部材7の端部の画像とアライメントマークの画像から、搭載部材7の端部の位置とアライメントマークの位置を検出する。制御部223は、検出されたアライメントマークの位置と搭載部材7の端部の位置から搭載部材7に対するACFの貼り付け位置を算出する。ACF貼付部239は、制御部223が算出したACFの貼り付け位置に合わせて、切断部により切断されたACFを搭載部材7に貼付する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、液体クロマトグラフ用検出器の高感度化を実現するために必要な透過光量を確保できる長光路フローセルを提供することを目的とする。
【解決手段】フローセル流路の内壁面を、空気にて充満された微細な空隙を多数有し、水よりも低い屈折率をもつ多孔質膜にて被覆する。低屈折率材料の実現方法の1つに多孔質膜が挙げられる。これは空気で充満された微細な空隙を内部に多数もつ膜であり、屈折率が膜材料の屈折率と空気の屈折率との中間の値を持つことが特徴である。このため、膜材料の選択と全体に占める空隙の割合によって、水よりも低い屈折率を実現することが可能である。 (もっと読む)


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