【課題】酸化プラセオジムの誘電体、酸化プラセオジムを備えたトランジスタ及びその製造方法を提供し、以って半導体素子のリーク電流及び等価酸化物膜厚の過大の問題を解決すること。
【解決手段】本発明では、酸化プラセオジムを備えたトランジスタは、少なくとも一つのIII−Ｖ族基板と、一つのゲート誘電層と、一つのゲート電極とを含む。また、III−Ｖ族基板にゲート誘電層が設けられ、ゲート誘電層にゲート電極が設けられ、誘電層は酸化プラセオジム（Ｐｒ_xＯ_y）である。本発明は、誘電層材料として高誘電率及び高エネルギーギャップを備えた酸化プラセオジム（Ｐｒ₆Ｏ₁₁）を用いることにより、リーク電流を有効に抑制する外、更にIII−Ｖ族材料を基板とした素子の等価酸化膜厚（ＥＯＴ）を薄くさせることもできる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の周波数逓倍器による悪い高調波抑圧比を改善し、又、周波数逓倍器からの発振周波数は、他の高調波に妨害されにくいため、周波数逓倍器装置及びその操作方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の周波数逓倍器装置は、高調波発生器、高調波抑制器及び特定高調波応用装置を含んでいる。前記高調波発生器は、基本周波数を有する入力信号を受信して、第一高調波信号成分及び第二高調波信号成分を含む高調波信号を発生させる。前記高調波抑制器は、前記高調波信号を受信して、前記第一高調波信号成分を抑制し、前記第二高調波信号成分を高める。前記周波数逓倍器装置は、高められた前記第二高調波信号成分を受信する。 （もっと読む）

【課題】ＭＭＩＣのＳＰＤＴスイッチなど、半導体デバイスとして用いるのに適したＭＯＳ−ＰＨＥＭＴの構造及びその製造方法を開示する。
【解決手段】ＭＯＳ−ＰＨＥＭＴ構造は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３及びＺｒＯ_２からなる群から選ばれる材料からなるゲート誘電体層107を有することを特徴とし、これにより、このＭＯＳ−ＰＨＥＭＴの構造を含む、高周波スイッチデバイスなどの半導体構造が、直流電流の損失及び挿入損失の低下を防ぎ、隔絶性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】自己整合薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の製造方法を提供する。
【解決手段】先ず、透明基板の第１表面上に酸化物ゲート、誘電体層、及びフォトレジスト層を順に堆積する。次に、該透明基板の第１表面と反対側の第２表面に紫外光を照射することで、該フォトレジスト層を露光する。この時、該酸化物ゲートからなるゲートはマスクとして働き、該フォトレジスト層の該酸化物ゲートに対応する部分に照射される紫外光を吸収する。次に、該露光されたフォトレジスト層を除去し、該フォトレジスト層の未露光部分と該誘電体層との上に透明導電層を堆積する。次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、離型工程中、熱溶融材料の熱応力を解消できる独立温度制御付き成形構造を提供する。
【解決手段】本発明は、成形過程の冷却、離型の際に、熱溶融材料が収縮する性質に関し、独立温度制御を備えた成形構造において、金型の表面に埋め込まれた電熱線を設けた成形構造である。金型の表面温度を調節することにより、熱溶融材料と金型の間に生じる熱応力を解消し、バランスをとることができ、離型工程中に熱溶融材料を保持力によるダメージから守る。 （もっと読む）

【課題】ＧｅｘＳｉ１−ｘ緩衝層をシリコンウェハ上に形成した太陽エネルギ電池を提供する。
【解決手段】Ｓｉ基板上での高品質Ｇｅ成長を促進するため、変成Ｇｅ_ｘＳｉ_１−ｘ緩衝層１０３とＳｉ基板１０１との間の接合部における歪緩和を強化するため、Ｓｉ^＋をＳｉ基板上へ注入する。更に数個のＧｅ_ｘＳｉ_１‐ｘ緩衝層（Ｓｉ／Ｇｅ_０．８Ｓｉ_０．２／Ｇｅ_０．９Ｓｉ_０．１／Ｇｅ）１０３〜１０５がＵＨＶＣＶＤによりＳｉ基板上部に成長する。低転移密度の純Ｇｅ層がＧｅ_ｘＳｉ_１−ｘ緩衝層上に成長する。最後に、高効率III−Ｖ太陽電池２０１〜２０６がＧｅ_ｘＳｉ_１−ｘ緩衝層上に成長する。 （もっと読む）

【課題】乗物本体と、補助機構と、感知駆動装置とを備える障害乗越え補助装置を提供すること。
【解決手段】前記補助機構は、前記乗物本体の片側に設けられ、一端にマットを有し、調整動作によって前記マットを前記乗物本体と障害物の間に介在させ、段を分けることにより前記乗物本体が乗り越える前記障害物の段差を減少させる。感知駆動装置は、前記補助機構と結合され、障害物の存在を感知し、前記調整動作を生じさせるために前記補助機構を駆動するか否かを決定する。本発明のメカニズムを利用すると、段を分けることにより障害物の段差を減少でき、乗物本体が段階的に障害物を乗り越えられるようにする。 （もっと読む）

【課題】垂直露光工程および傾斜露光工程を行うことが可能である上、露光角度を精確に制御し、露光後の微細構造の傾斜角度を調整することが可能な液浸傾斜リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液浸傾斜リソグラフィ装置は、フォトマスク１０およびウェーハ１２を挟持するために用いるホルダー２００と、底板１１２と、軸受け孔１１６が穿設された複数の側壁１１４とを互いに緊密に接合させて収納空間を形成するディップ槽１００と、軸受け孔１１６に貫設させることが可能な軸１３２を側面に有するステージ１３０と、収納空間に貯留されてステージ１３０を浸漬させる液体と、軸１３２に接続され且つ回転させてステージ１３０を傾斜させることが可能な回転機構１４０と、フォトマスク１０およびウェーハ１２へ照射させる紫外線を放射する露光光源と、露光光源とホルダー２００との間で、紫外線の進路に配置されたフィルタとを備える。 （もっと読む）

【課題】従来ハンドパペットを人の手で操っていた方法を自動化制御システムで代替するハンドパペットマニピュレーションシステムを提供する。
【解決手段】ハンドパペットマニピュレーションシステム１００は、制御モジュール１１０とパペット操作装置１２０とを備える。パペット操作装置１２０は、ベース１２２と、ベース１２２上に設けられ、第１のハンドパペットの胴体と接続され、制御信号を基にベースに対して胴体を制御する身体制御機構１２１と、身体制御機構１２１に配置され、第１のハンドパペットの頭部に接続され、制御信号を基に胴体に対して頭部を曲げ、ベースと結ぶ線が胴体の延伸方向である頭部制御機構１２３と、身体制御機構１２１に設けられ、頭部制御機構１２３の両側にそれぞれ配置され、第１のハンドパペットの手部にそれぞれ接続され、制御信号を基に手部を制御し、胴体に対して回転させる１対の手部制御機構とを含む。 （もっと読む）