【課題】マグネトロンスパッタ法において短冊形ターゲットを使用して半導体ウエハにスパッタ成膜を効率的かつ均一に行えるようにする。
【解決手段】被成膜体の半導体ウエハをウエハ配置面Ｐ上の円形基準領域Ａにぴったり重ねて配置する。そして、円形基準領域Ａの中心Ａ_Oを通る法線を回転中心軸として半導体ウエハを所定の回転数で同軸回転させる。そうすると、半導体ウエハ表面の各部は、一回転毎に、半径Ｒ／２よりも内側のウエハ中心部は短冊形堆積領域Ｂ₁のみを通過する間に短冊形ターゲット１０(1)からのスパッタ粒子を浴び、半径Ｒ／２よりも外側のウエハ周辺部では両短冊形堆積領域Ｂ₁，Ｂ₂を通過する間に両短冊形ターゲット１０(1)，１０(2)からのスパッタ粒子を浴びるという形態のスパッタ成膜処理を受ける。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波アシスト記録を実施する際の問題点であった、円偏光の極性切換えの問題、交流磁場の振幅の大きさの問題、さらには記録媒体が有する共鳴周波数の分散の問題を解決し、高密度記録が可能な磁気記録を実現する磁気記録方法を提供することにある。
【解決手段】マイクロ波アシスト磁気記録に用いる交流磁場を直線偏光とすることにより、円偏光を用いた際の極生切換えが不要となる。さらに交流磁場の基本周波数の０．５％から５０％の範囲内の変調振幅比、および、交流磁場の基本周期に対して２以上２０以下の変調周期比で、交流磁場の周波数変調を施すことにより、磁化反転磁場を著しく低減させることが可能となり、その結果、必要な交流磁場の振幅も大幅に低減できる。また記録媒体が有する共鳴周波数の分散がある状態においても、安定にマイクロ波アシスト記録を実施することが出来る。 （もっと読む）

【課題】基盤の色調を維持しつつ太陽光のエネルギーを効率よく反射して太陽光による基盤の加熱を抑制することができ、住宅等の冷房負荷を低減することができる輻射伝熱制御膜を提供する。
【解決手段】所定の粒径を有する第１微粒子１２が、太陽光の近赤外線成分を散乱可能に、所定の粒子密度で、可視光に対して透明な基材１１中に分布している。第１微粒子１２の粒径より小さい粒径を有する第２微粒子１３が、太陽光の紫外線成分を散乱可能に、所定の粒子密度で基材１１中に分布している。第１微粒子１２および第２微粒子１３は、酸化チタン、アルミナまたはジルコニアから成っている。 （もっと読む）

【課題】細径かつ広い内腔を確保した高機能部品が作成可能であり、らせん加工により可撓性を付加することで硬性部を最適限の短さに最適化でき、さらに細径を保ったまま集積回路やマイクロセンサなどの各種微小部品を容易に実装できる高機能な低侵襲医療ツールを提供すること。
【解決手段】カテーテルや内視鏡等の低侵襲医療ツールにおいて、外周面に回路パターンを有するチューブ形状絶縁基板を貫通加工し機械的な機能を付加した。 （もっと読む）

【課題】分岐部分にて非垂直に延伸する同軸管を含んだ同軸管分配器を提供する。
【解決手段】マイクロ波によりガスを励起させて被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理装置１０であって、処理容器１００と、マイクロ波を出力するマイクロ波源９００と、マイクロ波源９００から出力されたマイクロ波を伝送する伝送線路９００ａと、処理容器１００の内壁に設けられ、マイクロ波を処理容器内に放出する複数の誘電体板３０５と、複数の誘電体板３０５に隣接し、マイクロ波を複数の誘電体板３０５に伝送する複数の第１の同軸管６１０と、伝送線路９００ａを伝送したマイクロ波を複数の第１の同軸管６１０に分配して伝送する１段又は２段以上の同軸管分配器７００と、を有する。同軸管分配器７００は、入力部Ｉｎを有する第２の同軸管６２０と第２の同軸管６２０に連結された３本以上の第３の同軸管６３０とを含み、第３の同軸管６３０のそれぞれは、第２の同軸管６２０に対して非垂直に延伸する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する処理の均一性をより向上させることを目的としている。
【解決手段】プラズマ処理される基板Ｇを収納する金属製の処理容器４と、処理容器４内にプラズマを励起させるために必要な電磁波を供給する電磁波源８５とを備え、電磁波源８５から供給される電磁波を処理容器８５の内部に透過させる、処理容器４の内部に一部を露出させた複数の誘電体２５を、処理容器４の蓋体３下面に備えたプラズマ処理装置であって、誘電体２５の下面に、蓋体３と電気的に接続された金属電極２７が設けられ、金属電極２７と蓋体３下面の間に露出する誘電体２５の部分が、処理容器４の内部から見て実質的に多角形の輪郭をなし、複数の誘電体２５は、多角形の輪郭の頂角同士を隣接させて配置され、処理容器４の内部に露出した蓋体３下面と金属電極２７下面に、電磁波を伝搬させる表面波伝搬部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で高い信頼性を有する流体噴射装置を提供する。
【解決手段】流体噴射装置１は、容積が変更可能な流体室５０１と、流体室５０１に連通する入口流路５０３及び出口流路５１１と、を備える脈動発生部１００と、出口流路５１１に一方の端部が連通され、他方の端部が出口流路５１１の直径よりも縮小された流体噴射開口部２１２が設けられた接続流路２０１と、接続流路２０１が穿設され、前記流体室から流動される流体の脈動を流体噴射開口部２１２に伝達し得る剛性を有する接続流路管２００と、入口流路５０３に流体を供給するポンプ２０と、が備えられている。そして、入口流路５０３のイナータンスが、出口流路５１１のイナータンスよりも大きく設定されている。また、入口流路５０３が、流体室５０１内に旋回流を発生する旋回流発生部を構成する。 （もっと読む）

【課題】熱流速が10⁶W/m²のレベルの放熱性能を有しなければ所定の性能を発揮出来ない高い発熱密度を持った次世代の半導体部品やコンピューターチップを搭載し、かつ発熱密度が不均一となり複数の「ホットスポット」がプロセッサ上に現れた場合でも効果的な冷却が可能である極低温マイクロスラッシュ超高熱流速冷却システムを提供する。
【解決手段】極低温マイクロスラッシュ二相流を機能性冷媒として用い、マイクロスラッシュ噴霧流の強制対流熱伝達による冷却法により、スラッシュ粒子の融解潜熱による相乗効果も付加され、水の強制対流沸騰熱伝達（10⁵W/m²オーダ）による冷却法を用いる場合よりも数十倍（10⁶オーダ）の熱伝達特性・冷却特性を得る超高熱流速混相冷却を行う。 （もっと読む）

【課題】非侵襲で被験者の負担が少なく、データの解析に熟練度を必要とせず、かつ、測定装置を小型化した、非侵襲的な人の筋の状態を評価する測定システムを提供する。
【解決手段】人の筋に負荷を加えた後、一定時間経過毎に、筋近傍の体の表面に取り付けた筋音センサー１の測定値を周波数解析し、平均周波数および分散の経時変化をデータ化し、健常状態の平均周波数および分散の経時変化のデータと比較することで、筋の損傷程度と回復の度合いとを計測する。 （もっと読む）

【課題】主ガス流路と複数の枝ガス流路とのガスコンダクタンスの比を大きくしても、均一な処理が行えなえるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】処理容器１００と、所望のガスを供給するガス供給源９０５と、ガス供給源９０５から供給されたガスを分流させる主ガス流路３３０と、主ガス流路３３０の下流側に接続される複数の枝ガス流路（螺子３２５）と、複数の枝ガス流路（螺子３２５）に設けられ、枝ガス流路を狭める複数の絞り部（細管３３５）と、複数の枝ガス流路（螺子３２５）に設けられた複数の絞り部（細管３３５）を通過したガスを処理容器１００の内部に放出する、枝ガス流路あたり１または２以上のガス放出穴３４５とを有する。 （もっと読む）