【課題】背面点接触を製造するために、太陽電池の裏側の誘電体層にホールを形成する方法を提供する。
【解決手段】誘電体層１０５、１１０の裏側は炭素層１２０が被覆されている。シャドウマスク１２５は、炭素層１２０の上に載置されており、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）が用いられることにより、シャドウマスク１２５のホール１３０が炭素層１２０に転写され、それにより、炭素マスクを形成する。シャドウマスク１２５はその後除去されて、ＲＩＥが用いられることにより、ホール１４０が炭素マスクから誘電体層１０５、１１０に転写される。炭素マスクは例えばアッシングにより、その後除去される。 （もっと読む）

【課題】誘導結合プラズマ処理装置において、大きな面積であっても効率的に高周波エネルギーを供給する高周波コイル配置を提供する。
【解決手段】誘電結合プラズマチャンバー２００のためにＲＦエネルギーを結合するための配置であり、ＲＦコイル２１５又はＲＦ放射体は、チャンバー２００のシーリング２２０に形成された溝の内部に組み込まれており、絶縁フィラーは、溝内のコイルを覆っている。シーリング２２０は、二つのプレート、つまり、導電性物質からなる上部プレートと誘電体物質からなる底部プレートからなり、物理的に接触している。コイルからの磁場の拡散を制御する磁気シールドはコイル２１５の上方に設けられてもよく、流体流路は、熱制御を提供するために導電性プレート内に設けられてもよい。また、流体導管は、金属プレートと誘電体プレートとの間のスペース中にガスを注入できるように設けられてもよい。 （もっと読む）

暗視ナイトビジョンアプリケーション用のセンサーが提供される。上記センサーは、長波長反応カットオフを１．２５μｍ〜１．４μｍの範囲の波長に制限する組成を有する半導体吸収層を含む。上記カットオフ周波数の選択は、改善された暗電流の性能を提供し、それにより、要求されるセンサーの冷却はより少なくなる。その結果、センサーが能動冷却を要求しないので、エネルギー消費は低減される。その結果、本センサーは、バッテリーの重さが大変重要である携帯性の暗視アプリケーションにとって特に有益である。
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【課題】静電チャックからウェハを安全、最適に静電チャック表面から分離するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リフトピン機構２１０に用いるモータ２０８の電流をコントローラ２０４によりモニタし、その電流値に基づいてデチャック電圧を決定する。決定されたデチャック電圧を、電圧源２１２から静電チャック２１６の電極に印加して、ウェハをデチャックする。 （もっと読む）

【課題】ＨＤＤ用にパターン化した媒体を提供するハードディスクの製造を可能にする方法及びシステムを提供する。
【解決手段】拡張可能な、高い処理能力のナノインプリントリソグラフィー用プライミングツールが、二反応物化学蒸着反応チャンバと、複数のハードディスクを、これらのハードディスクの内径部分で保持するように構成されたマンドレルと、これら複数のハードディスクをチャンバ内に移動するための移動機構とを備えている。このツールは、処理のために、これら複数のハードディスクを追加的チャンバに移動して処理するための移動ツールも備えることができる。 （もっと読む）

【課題】取り外し可能なマスクを用いて基板上にパターン化された層を製造し得る装置及び方法を提供する。
【解決手段】マスクを基板上に直接形成する従来の技術と異なり、マスク１１０は基板１０５とは独立に形成される。使用中、マスク１１０は、例えば堆積、スパッタリング、エッチング等の処理のために基板１０５の一部分のみが露出されるように、基板１０５に接近して又は接触して設置される。処理が終了したら、マスク１１０は基板１０５から取り外され、廃棄されるか、別の基板１０５に使用される。マスク１１０は所定の数の基板１０５に対して循環使用された後に、洗浄又は廃棄のために取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】搬送時間、真空ポンピング時間及び処理時間を同期させるのに時間がかかり、システム全体のスループットを低下させる。
【解決手段】真空環境への基板の搬入は、清浄な排気環境の発展につれて同時に移送する基板の数を徐々に減少さることによって達成される。カセットは清浄な大気環境内に維持され、真空環境内に浸入させない。次第に高いレベルの真空環境を導入するようにいくつかの真空ロックを直線的にスタガ配置する。この配置を経て搬送される基板の数は各カセットに存在する基板の数の一部分とする。スタガ配置の真空ロックは一連の処理チャンバにつながり、これらのチャンバ内を更に少数の基板、例えば１つ又は２つの基板が搬送される。 （もっと読む）

【課題】現在用いられているシステムに比べて、適正なコストで効率的に生産でき、スループットが向上した、ウエハを含む基板を搬送及び処理する装置及び方法を提供する。
【解決手段】主要な要素は、基板を、処理チャンバーの側方に沿ってロードロックを介して制御された大気に供給し、その後処理チャンバーに到達させる一手段としての搬送チャンバーに沿い、そして処理チャンバー内での処理に続いて、制御された大気の外部に放出する搬送チャンバーを用いることである。 （もっと読む）

【課題】流路内の磁気ディスクに潤滑剤コーティングを塗布する潤滑剤蒸気の流路における表面で凝縮するのを防止する。
【解決手段】蒸気は、リザーバ内の液体を加熱することで得る。流路は、リザーバと開孔を有するディフューザとの間に蒸気チャンバを有する。この蒸気チャンバはリザーバとディスクとの間における直線経路と同一方向に延在する第１の壁と、ヒータとリザーバとの間に熱伝導経路を生ずる第２の壁とを有する。第１および第２の壁の相対温度を制御して、流路表面における凝縮をほぼ防止する。 （もっと読む）