【課題】物理気相成長中に加工物を支持する方法及び関連する装置を提供する。
【解決手段】吸熱性コーティング（１５）でコートされた支持面を有するアルミニウム製支持体（１１）が提供される。冷却によって、加工物が３５０℃〜４５０℃の温度になるように、支持体は約１００℃に冷却されＰＶＤプロセスが実施される。コーティングは、不活性であり及び／または超高電圧に適合できる。 （もっと読む）

【課題】ポンプされていない状態にある圧力チャンバにガスを供給するために圧力チャンバに接続されたマスフローコントローラー（ＭＦＣ）を監視し、適切に機能させる。
【解決手段】試験期間の間、連続的な充填サイクルを生成すべくＭＦＣを循環的に切り替えることと、試験期間の間、所定の間隔を置いてチャンバの圧力を測定することとを含み、ＭＦＣの全切替時間が充填サイクルのうちの少なくとも１０％であり、さらに、圧力の測定値の平均値を得て、ＭＦＣが適切に機能しているかどうかを判定すべく平均値を過去のデータと比較する。 （もっと読む）

【課題】ワークピースの配置場所を画成する蒸着装置において長期の高出力作動が可能となるシールド組立体を提供する。
【解決手段】複合シールド組立体１０は、ワークピースの配置場所の周囲に置かれる第１シールド要素１３と、第１シールド要素１３の周りに延在して第１シールド要素１３を保持する第２シールド要素１４であって、第１シールド要素１３の熱伝導率が当該第２シールド要素１４の熱伝導率よりも大きく、第１シールド要素１３及び当該第２シールド要素１４が、熱的接触を密接にするように配置される、第２シールド要素１４とを含む。 （もっと読む）

【課題】薄い基材上に厚いアルミニウムを被着させても基材が撓むことのない被着方法を提供する。
【解決手段】基材を静電チャック上に配置し、静電チャックにバイアスを印加しない状態でアルミニウムの第１層を被着させ、次に静電チャックにバイアスを印加して基材を支持体に密着し、そして第１層より厚いアルミニウムの第２層を２２℃未満の基材温度で第１層に連続して被着させる。 （もっと読む）