【課題】本発明は、反応ガス及び未反応ガスを円滑で、かつ均一に排出できる真空熱処理装置用熱処理容器を提供することをその目的とする。
【解決手段】本発明に従う真空熱処理装置用熱処理容器は、底部と側壁とを含み、側壁の上部に排気通路が形成される。 （もっと読む）

【課題】適切な時期にセッターを研磨して再利用することができるセッターの管理方法及び装置を提供する。
【解決手段】セッターは、判定装置３から熱処理炉５を有したディスプレイ基板製造装置４へ送られる。セッター上にディスプレイ基板が載せられ、熱処理炉５を通過した後、ディスプレイ基板がセッター上から取り出される。セッターは、その後、判定装置３へ戻され、熱処理炉通過回数、反り、欠けの判定が行われる。セッターにはＩＤ手段が設けられているので、判定装置３に設けられた記憶装置に熱処理炉通過回数が積算される。熱処理炉通過回数が規定回数であり、また反りや欠けも規定範囲内であると判定された合格品は、再びディスプレイ基板製造装置４へ送られる。不合格品の発生個数をセッターメーカー１０に向けてインターネット等の通信手段を介して送信する。この信号に基づいて受入設備１１から検査装置１２を経て研磨装置１３へ送られるセッターの数を制御する。 （もっと読む）