【課題】基板内の柔軟性の高いスペーサの変形をも防止でき、液晶基板のシール硬化処理に適用できるとともに、基板底面との当接部分の交換作業の容易な基板支持部材及び基板収納装置を提供する。
【解決手段】基板収納装置内の基板収納位置に対する基板の搬入方向に直交する方向に一定の間隔で複数配置され、前記基板収納位置に搬入された基板２００の底面に当接して該基板２００を支持する基板支持部材１０であって、該基板支持部材１０は、長手方向が前記搬入方向に平行な取付面１Ａを有する本体１と、前記取付面１Ａに固定され、上面及び前記搬入方向の両面に開放した凹部を有するガイド２と、前記取付面１Ａに沿って上側部分を前記凹部の上方に露出させた状態で前記凹部内に装入される耐熱樹脂チューブ３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】優れた機械的強度を有し、かつ、基材と溶射層との密着性が高い焼成用道具材を提供する。
【解決手段】アルミナ質又はアルミナ−シリカ質の基材の表面に、ジルコニア又はジルコン酸塩から選択される少なくとも１種を含有する溶射層を有する焼成用道具材であって、下記式（１）及び（２）を満足し、かつ前記基材の曲げ強さが２５ＭＰａ以上であることを特徴とする焼成用道具材。
ｄｐ≧７５０ （１）
ｖｐ≧０．００７ （２）
ここで、ｄｐは、水銀圧入法により測定された前記基材の細孔径分布におけるピーク細孔径（ｎｍ）であり、ｖｐは、ピーク細孔径ｄｐにおける差分細孔容積（ｍｌ／ｇ）である。 （もっと読む）

【課題】匣鉢を利用した粉体焼成に際し、粉体焼成プラントを大型化することなく各種の焼成条件での粉体焼成に対応可能とする粉体焼成プラントの運転方法を提供すること。
【解決手段】粉体を収納した匣鉢を順次炉内の一端から他端へと移動させながら焼成を行う連続焼成工程と、連続焼成炉から取り出された匣鉢内の粉体を回収する粉体回収工程と、粉体回収工程で粉体を回収され空になった空匣鉢を次工程に搬送する空匣鉢搬送工程を有する粉体焼成プラントの匣鉢搬送方法であって、粉体回収工程において、長辺が匣鉢の一辺と略同一長さであるヘラ状の吸引口を有する粉体吸引ノズルから、匣鉢内の粉体を層状に吸引して回収する。 （もっと読む）

【課題】匣鉢に収納した粉体を表層部と内部との間で焼成品質のバラツキが生じないように均一に、しかも経済的に固相反応焼成することができる量産化技術を提供する。
【解決手段】本発明の粉体の固相反応焼成方法は、匣鉢３に収納した粉体を連続炉により加熱して固相反応焼成を行なう方法であって、炉体に設置された抵抗加熱ヒータ８によって粉体を最高温度の直前温度まで加熱したうえ、マイクロ波加熱装置１１によりマイクロ波を照射して粉体を発熱させることにより表層部と内部とを均熱化し、その後は再び抵抗加熱ヒータ８によって最高温度に保持する。 （もっと読む）

【課題】気孔率が低く、電子電導性が高い正極焼結体を製造する正極焼結体の製造方法、およびこの製造方法に適した焼結装置、並びに、焼結装置に備わり被焼結体を保持する焼結用保持具を提供する。
【解決手段】リチウム含有酸化物を正極活物質として含有し、非水電解質電池の正極層として利用される正極焼結体を製造する。正極焼結体の製造にあたり、リチウム含有酸化物の粉末を成形した成形体を、Ｓｉ含有量が２０質量ｐｐｍ以下の焼結用保持具で保持した状態で焼結装置の焼結炉内に配置し、焼結する。 （もっと読む）

【課題】高温焼成条件下でリチウム電池の正極材料や蛍光体等の粉体を焼成する際に、天井部材に起因したコンタミによる製品特性の劣化を効果的に回避可能なローラーハースキルンを提供すること。
【解決手段】天井壁と側壁と床壁に囲まれて形成される炉内空間に、被熱処理物を搬送するためのローラーを備えたローラーハースキルンであって、該天井壁は、天井壁上部からアルミナ製の吊り下げ部材によって吊り下げ支持されたアルミナ・ムライト系の部材からなり、該炉内空間を加熱する棒状ヒーターがローラーより床壁側に配置される。 （もっと読む）

【課題】従来装置に比べてシンプルな構造を有しかつ一段と均分性に優れる単相流もしくは混相流の分配装置を提供する。
【解決手段】流入管が接続される内筒の下部から内筒の上端開口に至るまでの高さ範囲で、流入管から導入された単相流もしくは混相流の流入流が、内筒の側壁の内周を螺旋状に１周以上するように、内筒内に上昇流を形成させる螺旋状のフィンを設けた分配装置。 （もっと読む）

【課題】流入管から旋回室内に流入する搬送流体（ガスまたは液体）の流量が変動する条件下でも、外筒と内筒間の旋回室内で旋回流同士の干渉・衝突を低減する効果が十分にあり、従来装置に比べて、一段と均分性に優れる単相流もしくは混相流の分配装置を提供する。
【解決手段】外筒開口部の下端から内筒の上端開口に至るまでの高さ範囲で、外筒開口部から導入された単相流もしくは混相流の流入流が、外筒の側壁の内周を螺旋状に１周以上するように、外筒と内筒間に上昇流を形成させる螺旋状のフインを設けた。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を熱処理する熱処理装置を改良するものであり、メンテナンスを容易に行うことができる熱処理装置を開発する。
【解決手段】熱処理室１２の略中央部には、基板換装システム１８が配されて、基板換装システム１８に載置棚１６が設けられている。載置棚１６の全部の段部２３には、中央部分の小梁３１が欠落した欠落部３７を有し、当該欠落部３７によって吹き抜け部３８が設けられている。吹き抜け部３８に作業者が入ることができる。 （もっと読む）

【課題】耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）酸化イットリウムおよび／または酸化セリウムを主成分とし、それに少量の酸化ジルコニウムを含有する焼結体であって、酸化イットリウムおよび／または酸化セリウムと酸化ジルコニウムの合計量が９９重量％以上で、
（ｂ）酸化ジルコニウムの含有量が０．１〜１０重量％であり、
（ｃ）平均結晶粒径が２０〜６０μｍで、
（ｄ）気孔率が１．０％以下、
であることを特徴とする耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰの前面ガラス基板および背面ガラス基板上にＰＤＰの構成物を形成する際の焼成固化の熱処理工程を良好に行うことができるＰＤＰ用熱処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルのガラス基板２２上にプラズマディスプレイパネルの構成物を形成する際の熱処理を行うためのプラズマディスプレイパネル用熱処理装置であって、このプラズマディスプレイパネル用熱処理装置に前記ガラス基板を投入する際に使用する、ガラス基板を載置するガラス基板支持板が、穴３２と、この穴３２と嵌め合わされる蓋３３とを備え、ガラス基板支持板にガラス基板を載せ降ろしする際にのみ、穴３２が開いた状態となり、熱処理装置内で熱処理される間は前記蓋３３により穴３２が塞がれた状態になることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用熱処理装置である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理ムラを防止し、かつガラス基板とガラス基板支持板に空気を溜め込むことのないガラス基板支持板の表面加工方法及びそのガラス基板支持板を有するＰＤＰの熱処理装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルのガラス基板２２上にプラズマディスプレイパネルの構成物を形成する際の熱処理を行うためのプラズマディスプレイパネル用熱処理装置であって、このプラズマディスプレイパネル用熱処理装置に前記ガラス基板に投入する際に使用する、ガラス基板２２を載置するガラス基板支持板２３が、その表面に、二酸化ケイ素（シリカ）を溶剤と混合させた液体をガラス基板支持板の表面に吹き付け、その後、２００℃以上の熱処理を行うことで、数μｍ〜数１０μｍの高さの突起３５を備えるように構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用熱処理装置である。 （もっと読む）

【課題】ワークに対する熱影響の発生を防止しつつ、連続焼成炉の設置面積を効果的に縮小させることを可能にする連続焼成炉の移載装置を提供する。
【解決手段】リフターユニット２０は、ワーク５０を第１の炉体１２および第２の炉体１４を順次移動させつつ、加熱、徐冷および冷却の一連の熱処理を行う連続焼成炉１０に設けられる。リフターユニット２０は、筐体２１、ヒータ２４、および断熱部材２６、２８を備える。筐体２１は、第１の炉体１２から排出されるワーク５０を受け入れ可能な第１の位置、および第２の炉体１４に対してワーク５０を導入可能な第２の位置の間で往復移動可能に支持されるように構成される。ヒータ２４は、筐体２１の内部に導入されたワーク５０の上面の端部に対向するように配置される。断熱部材２６、２８は、筐体２１におけるワーク５０の下方およびヒータ２４の上方にそれぞれ配置される。 （もっと読む）

【課題】強制循環式の加熱炉で板材を均一に加熱できる板材保持装置および均一な板材の加熱方法を提供する。
【解決手段】熱風を強制循環させる加熱炉内に複数の板材１を平行に保持し、板材の間に熱風を挿通させて板材１を加熱するための板材保持装置は、板材の熱風の流れ方向上流側の端面をそれぞれ隙間を空けて覆う複数の防風部材７と、防風部材から延伸し、板材の片面の上流側を隙間を空けて覆う遮蔽板１０とを有する。また、防風部材は板材を保持するための保持具を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ基板等のガラス基板がスリップしにくく、強度が高いガラス基板の熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】上面にガラス基板を載せて熱処理するためのセッターであって、多孔質領域Ｐと緻密質領域Ｔとを有する。多孔質領域Ｐは、３次元網目構造の連通気孔を有し、その空気透過率は好ましくは０．５〜１０×１０^−３ｃｍ^２である。好ましくは、リチア系焼結体よりなる。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状部材であっても、熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材を、トンネル状の炉体１の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材の熱処理炉であって、炉体１の両側壁１ｂから炉内に延出するローラ２を、互いに対向させて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、対向するローラ２の先端２ａ間に、平板状部材５０を転支し、回転軸５が炉外に配設されたディスク４を設け、ローラ２及びディスク４上に平板状部材５０を載せ、ローラ２を一定方向に回転させて、平板状部材５０を、炉体１の炉長方向に移送するように構成する。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状部材であっても、熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材５０を、トンネル状の炉体１の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材の熱処理炉であって、炉体１の両側壁１ｂから炉内に延出するローラ２を、互いに対向させて、炉内１側が側壁１ｂ側よりも低くなるように傾けて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、ローラ２上に平板状部材５０を載せ、ローラ２を一定方向に回転させて、平板状部材５０を、炉体１の炉長方向に移送するように構成する。なお、対向するローラ２の少なくとも一方の下方に、ローラ２を転支する受けコロ４を設けることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状部材であっても、熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材を、トンネル状の炉体１の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材５０の熱処理炉であって、炉体１の両側壁１ｂから炉内に延出するローラ２を、互いに対向させて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、対向するローラ２の先端２ａ間に、平板状部材５０を転支する受けコロ４を配設し、ローラ２及び受けコロ４上に平板状部材５０を載せ、ローラ２を一定方向に回転させて、平板状部材５０を、炉体１の炉長方向に移送するように構成する。 （もっと読む）

【課題】内部応力および隅部亀裂が発生せず、所望品質のシリコン結晶インゴットが得られる対流冷却構造を有する結晶成長炉を提供する。
【解決手段】炉本体、加熱室、ヒータを含み、加熱室は炉本体に収容され、上側隔壁、複数の側方隔壁、および下側隔壁を含む。上側隔壁には、上側開口部と、中央開口部を有する下側隔壁とが設けられる。加熱室には、上側ドア、下側ドア、上側ドライバ、および下側ドライバが設けられ、シリコンスラリーが冷却および凝固される際、冷却ガス流が中央開口部を通って加熱室の下部に流れ込む。次に、上側開口部が、上側ドライバによって駆動される上側ドアにより開放されるため、加熱されたガス流が上側開口部から排出され、炉内壁に沿って下方に流れ、中央開口部から加熱室へ戻り、自動対流循環冷却流れ場が形成されるので、時間を節減し、生産効率を向上させた状態で、シリコンスラリーを迅速に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】均熱環境下の収容室に、平板状のワークを積層させて収容可能で、それにより、保温部の長大化を防止し、装置の大幅な小型化が可能であると共に、収容・搬送中のワークの汚損防止が可能であるワーク加熱冷却装置を提供する。
【解決手段】ワーク加熱冷却装置１は、平板状のワーク２を水平面内で順次、直列状態で搬送する第１の搬送機構６を備え、搬送経路上でワークを加熱手段で加熱する加熱部３と、ワークの第２の搬送機構１０を備え、加熱部で加熱されたワークが順次、第２の搬送機構に搬入されて、第２の搬送機構により板面を対向させ且つ所定の間隔を空けて並列して支持され、加熱手段で保温されつつ、第２の搬送機構により順次、搬送される保温部４と、ワークを水平面内で順次、直列状態で搬送する第３の搬送機構７を備え、保温部から搬入されたワークを、搬送経路上で冷却手段で冷却する冷却部５とを備える。 （もっと読む）